「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目)

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern transferに関連した英語例文

>"pattern transfer"に完全一致する例文のみを検索する

セーフサーチ：オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

例文

pattern transferの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2432件

＜前へ 1 2 .... 16 17 18 19 20 21 22 23 24 .... 48 49 次へ＞

例文

To achieve on-track of a servo signal in a vertical magnetic recording medium by vertically applied magnetic transfer, in a master body for magnetic transfer and a method of transferring a servo pattern.例文帳に追加

磁気転写用マスター体及びサーボパターンの転写方法に関し、垂直磁気記録媒体に対して垂直印加磁気転写でサーボ信号をオントラックすることを可能にする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a fine etching mask which can equalize and thin the residue thickness of a pattern transfer layer after transformation in a transfer layer, and having an equalized thickness after an etching process, in a method of manufacturing a fine etching mask by pattern transfer to a processed material, and to provide an exposure processing apparatus.例文帳に追加

被加工材上へのパターン転写による微細エッチングマスクの製造方法において、転写後のパターン転写層の残渣厚みを転写層内で均一且つ薄膜にすることができ、しかもエッチング処理後の厚さが均一な微細エッチングマスクの製造方法及びそれに用いる露光処理装置を提供する。 - 特許庁

The transfer of the verification/test pattern of the DUT (external computer→FPGA for control→pattern storage memory), the transfer of the verification/test control data of the DUT (external computer→FPGA for control), and the transfer of the verification/test result (result storage memory→FPGA for control→external computer) are instructed by software for control through a microcomputer.例文帳に追加

ＤＵＴの検証／テストパターンの転送（外部コンピュータ→制御用ＦＰＧＡ→パターン格納メモリ）と、ＤＵＴの検証／テスト制御データの転送（外部コンピュータ→制御用ＦＰＧＡ）と、検証／テスト結果の転送（結果格納メモリ→制御用ＦＰＧＡ→外部コンピュータ）は、共にマイコンを介して制御用ソフトウェアによって指示される。 - 特許庁

The method for manufacturing a magnetic transfer master disk executes an electroforming process using an electroforming device to obtain a master substrate as a metal board having an uneven pattern corresponding to transfer information transferred to its surface from an inversion mold having the reverse uneven pattern, and forms a magnetic layer on the uneven pattern of the master substrate.例文帳に追加

反転凹凸パターンを有する反転型より電鋳装置を使用した電鋳工程によって表面に転写情報に対応する凹凸パターンが転写された金属盤であるマスター基板を得、マスター基板の凹凸パターン上に磁性層を成膜した磁気転写用マスターディスクの製造方法である。 - 特許庁

例文

The method for manufacturing the fixing rotator for transferring a prescribed pattern on the surface of the fixing rotator having a fluorine resin layer on the outermost layer heats while pressuring and contacting a face to be transferred having a transfer pattern on the surface of the fixing rotator before pattern transfer.例文帳に追加

最外層にフッ素樹脂層を有する定着用回転体の表面に所定のパターンを転写する定着用回転体の製造方法であって、パターン転写前の該定着用回転体の表面に、転写用パターンを有する被転写面を加圧・接触させながら加熱する定着用回転体の製造方法。 - 特許庁

例文

To provide a resist underlayer film-forming method capable of forming a resist underlayer film that has a function as an antireflective film and that is excellent in pattern transfer performance and etching resistance, to provide an underlayer film that does not bend in micronized pattern transfer and a method of forming the underlayer; and also to provide a pattern forming method.例文帳に追加

反射防止膜としての機能を有すると共にパターン転写性能及びエッチング耐性が良好なレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成方法、微細化したパターン転写時においても曲がらない下層膜及びその形成方法、並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer film preferably used for forming an inorganic thin film pattern, and a manufacturing method for the inorganic pattern excellent in manufacturing efficiency wherein the inorganic pattern using the transfer film and having a surface flatness is obtained and workability can be substantially improved compared with a conventional manufacturing method.例文帳に追加

無機薄膜パターンの形成に好適に用いられる転写フィルムと、当該転写フィルムを用いた、表面平滑性の高い無機パターンが得られ、従来の製造方法に比べて、実質的に作業性を向上することができる製造効率の優れた無機パターンの製造方法を提供すること。 - 特許庁

This microstructure transfer device transferring a minute pattern of a stamper to an object to be transferred by bringing the stamper with the minute pattern formed thereon into contact with the object to be transferred has a mechanism providing an elastic force distribution so that bubbles are led outside in the transfer region of the mimnute pattern in the object to be transferred.例文帳に追加

本発明は、微細パターンが形成されたスタンパを被転写体に接触させ、被転写体にスタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置において、被転写体における微細パターンの転写領域で、前記の気泡を外部に導くような弾性力分布を持たせる機構とする。 - 特許庁

To provide a transfer material for forming a circuit, which is to be used for transferring a circuit pattern obtained from patterning a metal foil on an insulating board or ceramic green sheet, which is suitable for the increase in fineness of a circuit pattern, and which can relax the heat pressing conditions and enables to transfer the circuit pattern naturally and stably.例文帳に追加

金属箔のパターニングにより得られた回路パターンを絶縁性基板またはセラミックグリーンシートに転写するのに用いられる、回路パターンの微細化に対応することができ、熱プレス条件を緩和でき、かつ回路パターンを無理なくかつ安定に転写することを可能とする回路形成用転写材を提供する。 - 特許庁

例文

Specifically, when superposing a projection image of a mask pattern on a reticle 20 on a transfer pattern on a semiconductor substrate 21 using a reduced projection exposure method, the rotational shift in an exposure shot region is corrected in accordance with a measurement value of a transitional shift in the exposure shot region in a transfer pattern on the semiconductor substrate.例文帳に追加

即ち、縮小投影露光法を用いて半導体基板２１上の転写パターンへレチクル２０上のマスクパターンの投影像を重ね合わせる際に、半導体基板上の転写パターンにおける露光ショット領域の並進シフトの測定値に応じて、露光ショット領域の回転シフトを補正する。 - 特許庁

例文

An iron plate 13' having a pattern is pressed against a polycrystalline diamond substrate 12 and heated at a high temperature to transfer the pattern to the surface of the polycrystalline diamond substrate 12.例文帳に追加

パターンの形成された鉄板１３’を多結晶ダイヤモンド基板１２に押し付け、これを高温で加熱することにより、多結晶ダイヤモンド基板１２表面に当該パターンを転写する。 - 特許庁

A linear pattern 10 which retards or blocks transfer of the internal stress of a resist is disposed around the main pattern of a chip to relieve the internal stress.例文帳に追加

チップのメインパターンの外周部に、レジスト内部応力の伝達を緩和あるいは遮断する線形形状パターン１０を設けることにより、内部応力を緩和することを特徴とする。 - 特許庁

Between the unevenness pattern 2a of the mold 1A and the substrate 14 a molding material 15 is uniformly extended to transfer the unevenness pattern 11a of the prototype 11 to the surface of the molding material 15.例文帳に追加

型材１Ａの凹凸パターン２ａと基板１４との間で成形材料１５を均一に展伸し、成形材料１５の表面にに原型１１の凹凸パターン１１ａを転写する。 - 特許庁

The transfer is performed such that the peripheral edge of an evaluation shot on which the evaluation pattern 2a is formed is overlapped on the peripheral edge of an adjacent shot on which the evaluation pattern 2b is formed.例文帳に追加

転写する際に、評価パターン２ａが設けられている評価ショットの外周縁部を、評価パターン２ｂが設けられている隣接ショットの外周縁部と重なるように転写する。 - 特許庁

Therefore, since the shape of a liquid-repellent pattern can be freely modified by selecting properly the transfer element 31, the on-demand wiring pattern is formed.例文帳に追加

従って、押し出す転写素子３１を適宜選択することによって、撥液パターンの形状を自由に変更することが可能となることから、オンデマンドな配線パターンが形成される。 - 特許庁

A first process includes a step of exposing a first resist film 4 to transfer a pattern corresponding to a main aperture 5 and an auxiliary aperture 6 and developing to form a first resist pattern 4a.例文帳に追加

第１工程が、第１のレジスト膜４に、主開口部５及び補助開口部６に対応するパターンを露光し、現像して第１のレジストパターン４ａを形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide a photomask that can easily be manufactured and inspected, has small deterioration in transfer shape of a light shielding pattern, and can prevent a light shielding pattern defect due to discharge.例文帳に追加

簡易に作製及び検査することができ、遮光パターンの転写形状の劣化が小さく、かつ放電による遮光パターン欠陥を防止することができるフォトマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that avoids a defect of a transfer pattern caused by a defect in charging a mask material in a pattern formed on a template in an imprinting method.例文帳に追加

インプリント法において、テンプレートに形成されたパターンへのマスク材料の充填不良に伴う転写パターンの不良を回避する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a step 512, a pattern is transferred to respective wafers in a lot, and prior to the transfer, alignment marks formed on the wafers through precedent exposure together with the pattern are detected (step 506).例文帳に追加

ステップ５１２でロット内のウエハのそれぞれにパターンが転写されるが、その転写に先だって、そのウエハに先の露光でパターンとともに形成されたアライメントマークが検出される（ステップ５０６）。 - 特許庁

A pattern surface is irradiated with light using an eximer UV lamp having ≤240 nm wavelength in an atmosphere having oxygen for removing a resist residue remaining after pattern transfer.例文帳に追加

パターン転写後に残存するレジスト残渣を除去するために酸素含有雰囲気中において、波長２４０ｎｍ以下の波長を有するエキシマＵＶランプを用いてパターン面を光照射する。 - 特許庁

To provide a photomask capable of making the contrast of light intensity on the image forming surface of a pattern to be transferred high and restraining the transfer of an auxiliary pattern itself and to provide an exposure method using the photomask.例文帳に追加

転写すべきパターンの結像面上での光強度のコントラストを大きくし、かつ、補助パターン自体の転写を抑制することができるフォトマスク及びフォトマスクの提供。 - 特許庁

To shorten a down time generated when performing control preventing back copying of a test pattern occurring in a system reading a positioning test pattern on an intermediate transfer body.例文帳に追加

位置合わせ用等のテストパターンを中間転写体上で読取る方式において起きるテストパターンの裏写りを防止する制御を行う際に生じるダウンタイムを短縮化する。 - 特許庁

The pattern forming device comprises a solvent amount adjusting mechanism 60 for adjusting the amount of solvent of a pattern developed on an original plate and adjusting the toner solid ratio to an amount optimum for the transfer.例文帳に追加

パターン形成装置は、原板に現像したパターンの溶媒量を調整してトナー固形比を転写に最適な値に調整する溶媒量調整機構６０を有する。 - 特許庁

To provide a gray tone mask blank and a gray tone mask, particularly a gray tone mask using a light-semitransmitting film, with which a desired pattern can be obtained on a transfer object upon forming a precise pattern.例文帳に追加

半透光膜を用いたグレートーンマスクにおいて、精緻なパターンを形成するときに、被転写体上に所望のパターンが得られるグレートーンマスクブランク及びグレートーンマスクを提供する。 - 特許庁

An image forming part 11 forms a test pattern image 10 for density detection, on a printing medium 1 such as a photoreceptor, an intermediate transfer body and paper, and a detection part 2 detects density of the test pattern image.例文帳に追加

感光体や中間転写体や紙などの印刷媒体１に、作像部１１が濃度検出用のテストパターン画像１０を形成し、検出部２がその濃度を検出する。 - 特許庁

An ion beam is applied to a wafer that is coated with resist via a transmission-type unmagnified mask having the same size as a pattern to be exposed to light for collective pattern transfer in a simple configuration.例文帳に追加

露光するパタンと等倍のサイズを有する透過型等倍マスクを介して、レジストがコートされたウェハにイオンビームが照射され、一括してパタン転写できる簡単な構成となっている。 - 特許庁

To display a sharp pattern by using a cover member produced by resin in-mold forming using a heat transfer sheet provided with the pattern by gravure or offset printing.例文帳に追加

グラビアもしくはオフセット印刷により図柄を設けた熱転写シートを用いて樹脂インモールド成形して作られたカバー部材を用いて、鮮明な図柄の表示が行えるようにする。 - 特許庁

A pressure-sensitive adhesive tape sheet is mounted on a transfer roll and is cut into a required pattern, and under a condition where a release paper is released, only a necessary pressure-sensitive adhesive tape pattern is transferred on the sleeve for printing.例文帳に追加

転写ロールに粘着テープシートを貼り込んで所望パターンに断裁しておき、剥離紙を剥がした状態にして必要な粘着テープパターンのみを印刷用スリーブに転写させる。 - 特許庁

To provide a molding method of a molded resin body which has a micro-pattern set up closely following a transfer pattern of a die on at least one surface of its front and back faces, and the molded body.例文帳に追加

表裏面の少なくとも一方の面に、微細パターンが金型の転写用パターンに忠実に設けられた樹脂製成形体の成形方法及び成形体を提供する。 - 特許庁

The internal conductor pattern 32 of the laminated chip coil is formed on a transferring film 30 and then contactedly push against an electrically insulating layer 34, to thereby transfer the internal conductor pattern onto the electrically insulating layer.例文帳に追加

積層チップコイルの内部導体パターン３２を転写用フィルム３０の上に形成し、それを電気絶縁層３４に圧接することで内部導体パターンを電気絶縁層上に転写する。 - 特許庁

The pressing of a rubber roll makes a pattern transferred under pressure to the surface C of the base material by using the transfer sheet, so that the pattern can be transferred only to the surface C to which the decorating is desired to be applied.例文帳に追加

この基材のＣ面へゴムロールの押圧により前記転写シートを用いて絵柄を加圧転写させることにより絵付けを所望されるＣ面のみに絵柄を転写することができる。 - 特許庁

Consequently, it is made possible to attain the reduction in resin pattern destruction or defects, as well as improvement of the mold for long life so that both of good transfer pattern formation in the imprinting method and substantial cost reduction may be expectable.例文帳に追加

これにより、樹脂パターン破壊や欠陥の低減、モールドの長寿命化が可能となり、インプリント法における良好な転写パターン形成と大幅なコストダウンが期待できる。 - 特許庁

By transferring the servo pattern in this way, the defective transfer of the servo pattern is avoided or reduced, the abort rate of the memory medium is reduced, and the manufacturing cost of the memory device can be reduced.例文帳に追加

このようにしてサーボパターンを転写すると、サーボパターンの転写不良を回避又は低減し、記憶媒体の廃棄率を低減し、記憶装置の製造コストを低減することが可能になる。 - 特許庁

When the verification pattern is given to a different logic circuit of verification object, this device can be used without change of the transfer pattern generation device only by changing the circuit operation simulation device.例文帳に追加

異なる検証対象論理回路に対して検証パターンを与える時には、回路動作摸擬装置のみを変更し、転送パターン発生装置は変更なく利用することが可能になる。 - 特許庁

To provide a mask blank that prevents disappearance of a resist pattern and also prevent a pattern defect upon producing a transfer mask by a semiconductor design rule (for a DRAM with hp half pitch of 65 nm or less), and also to provide a mask.例文帳に追加

半導体デザインルール（ＤＲＡＭｈｐ６５ｎｍ以下）の転写用マスクを作製する際、レジストパターンの消失を防止し、パターン欠陥を防止できるマスクブランク、及びマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a microembossed sheet capable of certainly transferring a precise emboss pattern, also enabling the continuous transfer of the emboss pattern and using an apparatus low in cost, and the microembossed sheet.例文帳に追加

精密なエンボスパターンを確実に転写でき、エンボスパターンの連続転写も可能で、装置のコストの低いマイクロエンボスシートの製造方法およびマイクロエンボスシートを提供することにある。 - 特許庁

To provide a photomask that facilitates manual registration of a positioning mark of the photomask prior to exposing to transfer the next pattern onto a substrate where a pattern is already formed.例文帳に追加

パターンが形成された基板上に、次のパターンを露光する際に、事前に行う手動によるフォトマスクの位置合わせマークの登録作業を容易に行うフォトマスクを提供する。 - 特許庁

In the sewing data producing method, an actual sewing pattern 4 is transferred to a transfer position MP by the part from the retracted position WP to a sewing start position SS of the sewing pattern 1 being changed.例文帳に追加

縫製データ作成方法は、縫いパターン１のうちの退避位置ＷＰから縫い始め位置ＳＳまでの部分を変化させて実縫いパターン４を移動先位置ＭＰに移動する。 - 特許庁

To provide a signal pattern for magnetic transfer with which the signal pattern by bit string is recorded with precision without allowing erroneous recognition to occur by noise detection in reproducing the signal.例文帳に追加

隣接するトラックにビット列による信号パターンを、信号再生時にノイズ検知による誤認識を発生することなく精度よく行う磁気転写用信号パターンを提供する。 - 特許庁

A transfer control circuit 152 reads image element data from a selected pattern image data area in a CGROM 142 according to a selected pattern read command, writes them in the selected pattern data buffer 155A of a VRAM 155, also reads image element data from a common pattern image data area in the CGROM 142 according to a common pattern read command and writes them in a pattern array data buffer 155B.例文帳に追加

転送制御回路１５２は、選択図柄読出コマンドに応じてＣＧＲＯＭ１４２における選択図柄画像データエリアから画像要素データを読み出して、ＶＲＡＭ１５５の選択図柄データバッファ１５５Ａに書き込む一方で、共通図柄読出コマンドに応じてＣＧＲＯＭ１４２における共通図柄画像データエリアから画像要素データを読み出して、図柄配列データバッファ１５５Ｂに書き込む。 - 特許庁

The photomask is to be used for transferring a predetermined transfer pattern including a line-and-space pattern onto a resist film formed on a process object to be etched to obtain a resist pattern in the resist film, which functions as a mask in the etching process, wherein the line pattern of the line-and-space pattern formed on a transparent substrate comprises a translucent portion while the space pattern comprises a light-transmitting portion.例文帳に追加

エッチング加工がなされる被加工体上に形成されたレジスト膜に対して、ライン・アンド・スペース・パターンを含む所定の転写パターンを転写させ、レジスト膜を前記エッチング加工におけるマスクとなるレジストパターンとなすフォトマスクにおいて、透明基板上に形成されるライン・アンド・スペース・パターンのラインパターンを半透光部で設け、スペースパターンを透光部で設ける。 - 特許庁

The method of coating leather comprises putting Japanese lacquer 3 of a desired color for pattern formation added with a softener on the surface of water in a container, forming a pattern with the lacquer for pattern formation by moving water 1, bringing leather 5 into contact with the pattern to transfer the pattern to the leather and coating the pattern-formed surface of the leather with a top coat 7.例文帳に追加