「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目)

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pattern transferの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2432件

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例文

Prior to the formation of the gradation pattern, referring to the former detection results stored in a non-volatile memory area, the density value of the gradation pattern is determined based on the reference value, then, the gradation pattern is formed on a transfer belt 18.例文帳に追加

階調パターンの形成に先立ち、不揮発メモリ領域に保存された過去の検知結果を参照し、その参照値に基づき階調パターンの濃度値を決定し、階調パターンを転写ベルト１８上に作成する。 - 特許庁

The mask patterns have a mask pattern body 12 resembling the transfer patterns and projecting part patterns 16 disposed over the entire line of one 14A of longitudinal direction pattern boundaries 14A, B facing each other of the mask pattern body.例文帳に追加

マスクパターンは、転写パターンと相似するマスクパターン本体１２と、マスクパターン本体の相互に対向する長手方向パターン境界線１４Ａ、Ｂの一方１４Ａの全線に設けられた突起部パターン１６とを備えている。 - 特許庁

In the circuit forming transfer material where metal foil formed into a circuit pattern is pasted on a base material, the land pattern of the circuit pattern has a polygonal form.例文帳に追加

基材上に回路パターン状の金属箔が貼着されている回路形成用転写材料において、上記回路パターンの内、ランドパターンの形状が多角形であることを特徴とする回路形成用転写材料。 - 特許庁

When a pattern forming part 11 decides that a power is turned on, a pattern for measuring is formed on a transfer belt 33 by reading color shift measuring pattern information from memory 5 and controlling an image forming unit 2.例文帳に追加

パターン形成部１１は電源が投入されたと判定した場合、色ずれ測定用パターン情報をメモリ５から読み出し画像形成ユニット２を制御して転写ベルト３３に測定用パターンを形成させる。 - 特許庁

例文

To provide a length measuring instrument and length measuring method capable of measuring the slippage of a connection part in an actual pattern without requiring a measuring pattern in the measurement and inspection of the slippage of the connection part generated in the drawing or transfer of a pattern.例文帳に追加

パターンの描画あるいは転写時に発生した接続部のズレの測定・検査に際して、測定用のパターンを必要とせず、実パターンで接続部のズレが計測できる測長器および測長法を提供する。 - 特許庁

例文

An optical sensor 8' for detecting the position of a patch pattern 7' on a transfer belt 5 emits a radiation pattern IR' which is almost an oval shape that is orthogonal to a proceeding direction of the patch pattern 7' and receives the reflected light from the same.例文帳に追加

転写ベルト５上のパッチパターン７’を位置検出するための光学的センサ８’はパッチパターン７’の進行方向に直交するほぼ長円形状の照射パターンIR’を発光してその反射光を受光する。 - 特許庁

The data transfer control device includes a pattern generator 52 for generating a test pattern of a compliant pattern, a scrambler 54 for performing scrambling, and a data scrambler 56 for scrambling and outputting transmission data.例文帳に追加

データ転送制御装置は、コンプライアントパターンのテストパターンを発生するパターンジェネレータ５２と、スクランブル処理を行うスクランブラ５４と、送信データに対してスクランブル処理を行って出力するデータスクランブラ５６を含む。 - 特許庁

To provide a nano-imprint-pattern forming metal mold and a manufacturing method of a member with a nano-level pattern capable of reducing the fraction defective of the substrates after pattern transfer in the manufacturing process of semiconductor devices etc.例文帳に追加

半導体デバイスなどの製造工程において、パターン転写後の基板の不良率を低減することができるナノインプリントパターン形成用金型およびナノレベルのパターンを有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method by which a pattern using charged particles is highly precisely formed onto a body to be transferred at a high resolution while suppressing transfer electric field.例文帳に追加

この発明は、転写電界を抑制しつつ被転写媒体に対して帯電粒子によるパターンを高い解像度で高精細に形成できるパターン形成装置、およびパターン形成方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

例文

The pattern notifying unit 32 is configured so that, on the occasion of providing a service utilizing ISUP interwork between a first section between a call exchange 10 and the transfer source MSC 20 and a second section between the transfer source MSC 20 and the transfer destination SCP 30, it notifies the transfer source MSC 20 of an interwork pattern number corresponding to a category of the service.例文帳に追加

パターン通知部３２は、発呼交換機１０と転送元ＭＳＣ２０との間の第１区間と、転送元ＭＳＣ２０と転送先ＭＳＣ３０との間の第２区間とにおけるＩＳＵＰインタワークを利用したサービスの提供に際して、当該サービスの種別に対応するインタワークパターン番号を転送元ＭＳＣ２０に通知する。 - 特許庁

例文

In this manufacturing method for the thermal transfer sheet 1 wherein a transfer layer 12 having a prescribed pattern formed on a surface is laminated on a base material sheet 10, the pattern of the transfer layer 12 is formed by copying many hairline grooves 12a-12a onto the transfer layer 12 from an original plate 30 having the many hairline grooves 12a-12a formed on its surface.例文帳に追加

所定のパターンが表面に形成された転写層１２が基材シート１０上に積層された熱転写シート１の製造方法であって、転写層１２のパターンを、ヘアライン状の多数の溝１２ａ…１２ａが表面に形成された原版３０からその多数の溝を転写層１２に複製することにより形成する。 - 特許庁

To keep a transfer roller in contact with the surface of a photoreceptor when a toner pattern passes on a transfer roller, in an image forming apparatus in which a toner image formed on a photoreceptor is transferred onto transfer paper by the transfer roller that comes into contact with the photoreceptor and the image density of the toner pattern formed on the photoreceptor is detected by a photo-sensor.例文帳に追加

感光体に形成したトナー像を、感光体に接触する転写ローラによって転写紙上に転写すると共に、感光体に形成されたトナーパターンの画像濃度を光学センサによって検知する画像形成装置において、トナーパターンが転写ローラを通るとき、転写ローラを感光体表面に当接させたままにできるようにする。 - 特許庁

To provide a magnetic transfer master body which maintains vertical symmetry of magnetic transfer waveform without changing L/S ratio of a magnetic pattern when microfabricating the magnetic transfer body, to provide a magnetic transfer unit thereof, magnetic recording medium manufactured by using the magnetic transfer unit, and magnetic recording system using the magnetic recording medium.例文帳に追加

磁気転写マスタ体の微細加工時における磁気パターンのＬ／Ｓ比を変えずに磁気転写波形の上下対称性を維持できる磁気転写マスタ体、磁気転写装置、この磁気転写装置を用いてつくられる磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体を用いた磁気記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then, the main controller 102 adjusts the voltage value of the transfer bias which is applied to the secondary transfer roll 8 by the transfer device control section 118, according to an adjusting operation manually performed based upon the calibration pattern PT, and sets the adjusted voltage value, as the set value of the transfer bias, for the transfer device control section 118.例文帳に追加

次いで、メインコントローラ１０２が、転写装置コントロール部１１８により二次転写ロール８に印加される転写バイアスの電圧値を、キャリブレーションパターンＰＴに基づいてマニュアルで行われる調整操作に応じて調整し、この調整後の電圧値を転写装置コントロール部１１８に転写バイアスの設定値として設定する。 - 特許庁

To provide a pattern formation device, a pattern formation method, and a mold for pattern formation, capable of measuring accurately a spatial positional relation between a surface including a working face formed with a transfer pattern of a mold, and a substrate of a worked member.例文帳に追加

モールドの転写パターンが形成された加工面を含む表面と、被加工部材である基板との間の空間的な位置関係を正確に計測することが可能となるパターン形成装置、パターン形成方法およびパターン形成用モールドを提供する。 - 特許庁

A dummy pattern to be preliminarily included in the design pattern is produced not in the whole memory cell array which contains not only a memory cell part but a sense-up part and a decoder part, but in an individual block unit by using CAD tools so as to obtain a desired pattern form of the transfer pattern after exposure.例文帳に追加

露光後の転写パターンを所望のパターン形状にするために、ＣＡＤツールを用いて、メモリセル部のみならずセンスアンプ部やデコーダ部を含んだメモリセルアレイ部全体ではなく、個別ブロック単位に、予め設計パターンに入れておくダミーパターンを発生させる。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

When abnormality is found on a transfer belt, formation positions of a toner pattern and a position detection pattern are changed so that the toner pattern and the position detection pattern used for concentration detection and position detection are formed at the positions avoiding an abnormal region causing reduction in accuracy of the concentration detection and the position detection on the transfer belt.例文帳に追加

転写ベルト上に異常がある場合には、転写ベルト上における、濃度検出や位置検出の精度低下の原因となる異常領域を避けた位置に、これらの濃度検出や位置検出に用いるトナーパターンや位置検出パターンが形成されるように、これらのトナーパターンや位置検出パターンの形成位置を変更する。 - 特許庁

The light diffraction structure transfer sheet 1 comprises a transfer layer 12 in which a light diffraction structure 12a with a first pattern is formed, laminated on a substrate sheet 10 and a pattern region 12b in which a second pattern different from the first pattern is formed, is built in the light diffraction structure 12a at a size as not visible with naked eyes.例文帳に追加

基材シート１０上に第１のパターンを有する光回折構造１２ａが形成された転写層１２が積層された光回折構造転写シート１であって、光回折構造１２ａには、前記第１のパターンと異なる第２のパターンが形成されたパターン領域１２ｂが肉眼では視認できない大きさで組込まれている。 - 特許庁

The typical configuration of the conductor pattern formation apparatus for forming a conductor pattern on a substrate comprises an ink jet head which jets out a conductive ink and forms the conductor pattern; a transfer member which is formed with the conductor pattern on the surface by the ink jet head and then transfers the conductor pattern to the substrate; and a heating means which heats the transfer member to harden the conductor pattern.例文帳に追加

本発明に係る導体パターン形成装置の代表的な構成は、基板に導体パターンを形成する導体パターン形成装置であって、導電インクを噴射して導体パターンを形成するインク吐出ヘッドと、該インク吐出ヘッドにより表面に導体パターンを形成され、該導体パターンを前記基板に転写する転写部材と、該転写部材を加熱して前記導体パターンを硬化させる加熱手段と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

Additionally a defect transfer property onto the exposure substrate of defect seed generated at a pattern connection section or the like can be reduced.例文帳に追加