「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

Therefore, the transfer of the pattern onto the wafer (substrate) substantially free of defocusing can be actualized without always providing a focus position detection system etc.例文帳に追加

従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 - 特許庁

The photomask which is used to form patterns has the main pattern 101 on a light transmissive base plate 100 to transfer by exposing.例文帳に追加

パターン形成に用いられるフォトマスクにおいて、透過性基板１００の上に、露光により転写される主パターン１０１が設けられている。 - 特許庁

The correction offset quantity Δw is so set that the dimensional fluctuation rate of the resist pattern after transfer attains a range permissible for the device quality.例文帳に追加

修正オフセット量Δｗは転写後のレジストパターンの寸法変動率がデバイス品質上許容される範囲となる様に設定される。 - 特許庁

To reduce defects generated in an etching process and a wiring material embedding process, in a region where the transfer of a pattern by a template is not performed.例文帳に追加

テンプレートによるパターンの転写を行わない領域においてエッチング工程や配線材料埋め込み工程で生じる欠陥を低減する。 - 特許庁

It is provided with a step of forming a transfer lens by transfering the pattern of the lens matrix on the transparent resin layer by dry etching.例文帳に追加

該レンズ母型のパターンを、ドライエッチングにより前記透明樹脂層に転写し、転写レンズを形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure apparatus that can expose and transfer a pattern of finer line width, as compared with an electron beam exposure apparatus of conventional conception.例文帳に追加

従来考えられている電子線露光装置に比して微細な線幅のパターンを露光転写可能な電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

PHOTOMASK DEFECT CORRECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PHASE SHIFT MASK MANUFACTURING METHOD, PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK, PHOTOMASK SET, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、フォトマスク、位相シフトマスク、フォトマスクセット及びパターン転写方法 - 特許庁

To form highly accurately an rugged pattern including elements extending across a plurality of tracks and intersecting the trades on a substrate of a master carrier for magnetic transfer.例文帳に追加

磁気転写用マスター担体の基板に、複数のトラックに跨り、トラック方向に交差するエレメントを含む凹凸パターンを高精度に形成する。 - 特許庁

To provide a method and an aligner for exposure which can transfer an image of a fine isolated pattern formed on a mask to a wafer with high resolution.例文帳に追加

マスク上に形成された微細な孤立パターンの像を高い解像力でウェハ上に転写可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

A mask M is illuminated with linearly polarized illumination light to transfer a pattern of the mask M onto a wafer W through a projection optical system PL.例文帳に追加

直線偏光の照明光でマスクＭを照明し、マスクＭのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に転写する。 - 特許庁

To transfer a pattern on a specimen with high accuracy by the use of an exposure device of a CP type using a beam which varies in blur with the direction of X or Y.例文帳に追加

ＸＹ方向でビームのぼけ量が異なるＣＰ方式の露光装置を用いて、試料上にパターンを高精度に転写すること。 - 特許庁

To apply an unblurred transfer pattern on the surface of a resin frame polished and finished to have a prescribed form.例文帳に追加

所定の形状に整えられ、磨き上げられ最終の製品に仕上げられた樹脂製フレームの表面にぼやけない転写模様を施す事。 - 特許庁

When a driving speed of the intermediate transfer belt is defined as V, the length of the test pattern is set so as to satisfy the following expression: L≤{P-(Q_1+Q_2)}×V.例文帳に追加

中間転写ベルトの駆動速度をＶとした場合に、テストパターンの長さＬが、Ｌ≦{Ｐ−(Ｑ_1＋Ｑ_2)}×Ｖを満足するように定める。 - 特許庁

To provide a transfer device transferring a pattern with high accuracy to a partitioned area provided on a strip type substrate.例文帳に追加

帯状の基板に設けられた区画領域に対して、精度よくパターンを転写することのできる転写装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a printing press which enables the exact regulation a supply of an application liquid and transfer of a pattern having a necessary film thickness.例文帳に追加

塗布液の供給量を正確に調整することができ、必要な膜厚を持ったパターンの転写が可能な印刷装置を提供すること。 - 特許庁

A resist film having a specified pattern is formed on a conductive film provided on at least one surface of an insulative substrate through heat transfer printing.例文帳に追加

絶縁性の基体の少なくとも一面上に設けた導電膜上に熱転写により所定のパターンを有するレジスト膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for electron beam exposing or the like capable of cleaning a reticle in an exposure apparatus and contributing to an improvement in a pattern transfer accuracy or a yield.例文帳に追加

レチクルを露光装置内でクリーニングでき、パターン転写精度や歩留まりの向上に貢献できる電子線露光方法等を提供する。 - 特許庁

To provide technology for suppressing a transfer error being a problem in a magnetic recording medium side by contriving a magnetic pattern formed on the master body.例文帳に追加

マスター体に形成する磁気パターンを工夫することにより、磁気記録媒体側で問題となる転写誤差を抑制する技術を提供する。 - 特許庁

The number N of times by which the operations are repeated is determined based on a position alignment accuracy (accuracy of superposition) of patterns or a time taken for pattern transfer.例文帳に追加

繰り返しの回数Ｎは、パターンの位置合わせ精度（重ね合わせ精度）又はパターンの転写に要する時間に基づいて定められる。 - 特許庁

To provide a transfer/exposure method, etc., by which the connecting error between two superimposed pattern layers can be reduced by improving the superimposing accuracy of the layers.例文帳に追加

重なり合う２つのパターン層間の重ね合わせ精度を向上し、つなぎ誤差を小さくできる転写露光方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of easily imprinting, with high positional accuracy, an irregular pattern possessed by an original plate, to a transfer liquid layer on a substrate.例文帳に追加

原板が有する凹凸パターンを容易にかつ高い位置精度で基板上の転写液層にインプリントすることのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transfer conductor having a fine pattern and a thick film, and to provide a method for manufacturing a green sheet laminate using the method.例文帳に追加

ファインパターンで且つ膜厚の厚い転写導体の製造方法およびそれを用いたグリーンシート積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To precisely and speedily transfer a pattern by providing an accurate alignment system suitable to a charged particle beam exposure device of a reflection type.例文帳に追加

反射型の荷電粒子ビーム露光装置に適した高精度なアライメント方式を提供し、高精度・高速度なパターン転写を可能とする。 - 特許庁

A pattern transfer paper 1 comprising a water-absorbing support 2, a water-soluble layer 3 to be provided thereon and an image carrying layer 5 to be provided thereon is used.例文帳に追加

吸水性の支持体２とその上に設ける水溶層３とその上に設ける像担持層５とからなる絵柄転写紙１を用いる。 - 特許庁

Therefore, transfer of a pattern onto an almost defocus-free wafer (substrate) can be achieved without necessarily arranging a focal position detection system or the like.例文帳に追加

従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 - 特許庁

To transfer a designated pattern well even when an exposure light over the wavelength of 200 nm is used in an exposure process using a resist mask.例文帳に追加

レジストマスクを用いた露光処理において波長２００ｎｍを越える露光光を用いる場合でも、所定のパターンを良好に転写する。 - 特許庁

To prevent an electrifying means from being soiled by a density sensor pattern or untransferred toner when transfer material is jammed in a cleaner-less image forming apparatus.例文帳に追加

クリーナーレスの画像形成装置において、濃度センサーパターンや転写材のジャム時の未転写トナーにより帯電手段が汚れることを防止する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transfer mask having an extremely high precision of corner squareness of an opening pattern and an extremely high connecting precision.例文帳に追加

開口パターンのコーナー直角度の精度が極めて高く、つなぎ合わせ精度が極めて高い転写マスクの製造方法等を提供する。 - 特許庁

To a printed matter printed by the flexographic printing, a pseudo-etching and a hologram pattern are additionally partly formed by a UV-curing coating transfer method.例文帳に追加

フレキソ印刷された印刷物に対して更に、ＵＶ（紫外線硬化）コーチング転写法により擬似エッチングや、ホログラムパターンを部分的に作成する。 - 特許庁

A solder pattern 30 is formed on the top surface of a polyimide film 14 on an underboard 10 for solder transfer by screen printing.例文帳に追加

スクリーン印刷によって半田転写用アンダーボード１０上のポリイミド膜１４の上面にスクリーン印刷によって半田パターン３０を形成する。 - 特許庁

To provide a gauze cloth 1 having a pattern sublimation transfer-printed on the back side set to be held even when exposed with a physical stimulation.例文帳に追加

ガーゼ織物１の裏面に施された昇華転写プリントによる模様が、物理的刺激によっても当初の模様が保持されるようにする。 - 特許庁

To make a reference pattern possible to be formed on an image carrier with the short peripheral length, even in the case of adopting transfer material with a large peculiar size.例文帳に追加

大きな特殊サイズの転写紙を用いる場合でも、周囲長の短い像担持体に基準パターンを作成することを可能にする。 - 特許庁

In addition, the invention refers to a method of determining at least one parameter of a transfer process such as an imaging process making use of such a test pattern 1.例文帳に追加

加えて，テストパターン１を用いるイメージングプロセスのような転移処理の，少なくとも一つのパラメータを決定する方法について言及する。 - 特許庁

Further, after the laminated film of the transfer film is formed by transferring so as to abut the inorganic pigment layer on a substrate and the resist layer is subjected to exposure processing, a resist pattern is manifested by carrying out development processing, an inorganic pigment pattern and a phosphor pattern corresponding to the resist pattern are formed, and firing processing is carried out, thereby simply and efficiently forming the inorganic pattern.例文帳に追加

また、前記転写フィルムの積層膜を、基板上に無機顔料層が当接するように転写して形成し、レジスト層を露光処理した後、現像処理してレジストパターンを顕在化させ、該レジストパターンに対応する無機顔料パターンおよび蛍光体パターンを形成し、焼成処理することにより、無機パターンを簡便かつ効率的に形成することができる。 - 特許庁

In this manufacturing method for the organic electroluminescent element, the organic electroluminescent element with a uniform organic film pattern is manufactured by forming a transfer layer for laser thermal-transfer of an organic substance with a molecular weight of 500-70,000.例文帳に追加

レーザー熱転写用転写層で５００ないし７０，０００の分子量を持つ有機物質で形成することによって、均一な有機膜パターンを持つ有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since a decorative layer can be effectively given onto a complicated rugged pattern by combining it with decorating transfer by bead shot transfer thereafter, the decorative material having a sense of much higher grade can be obtained.例文帳に追加

また、その後のビーズショット転写による絵付け転写と組み合わせることにより、複雑な凹凸模様上にも確実に装飾層を付与することができるので、さらなる高級感を有する化粧材を得ることができる。 - 特許庁

To collectively demagnetize data areas between servo pattern transfer sections with a simple configuration with respect to a medium for the demagnetization mask, a perpendicular medium magnetic transfer/demagnetization method, a vertical recording medium and a magnetic disk device.例文帳に追加

消磁マスク用媒体、垂直媒体磁気転写／消磁方法、垂直記録媒体、及び、磁気ディスク装置に関し、サーボパターン転写部の間のデータ領域に対する消磁を簡単な構成により一括して行う。 - 特許庁

A processing execution confirming part 14 instructs translation or transfer of the external subroutine P2 and external pattern P3 to a source program translation part 11 or an execution program transfer part 12, according to the contents of the program table T1.例文帳に追加

処理実行確認部１４は、外部プログラムテーブルＴ１の内容に応じて、外部サブルーチンＰ２及び外部パターンＰ３の翻訳又は転送をソースプログラム翻訳部１１又は実行プログラム転送部１２に指示する。 - 特許庁

The pattern transfer via the projection optical system with its imaging properties adjusted in consideration of the optimum environmental correction coefficients can correct the transfer errors, caused by an environmental variation with a high degree of accuracy.例文帳に追加

ここでは、最適な環境補正係数を考慮して結像特性が調整された投影光学系を介してパターンの転写が行なわれるために、環境変化に起因する転写誤差を精度良く補正することができる。 - 特許庁

To provide a light shielding transfer film which enables low-temperature film formation and easily and inexpensively obtaining light shielding property by simple film transfer, a method for producing the same, and a method for forming a light shielding pattern using the same.例文帳に追加

低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により遮光性を容易に安価に得ることのできる遮光性転写フィルム及びその製造方法、それを用いた遮光性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To restrict heating due to positioning of a substrate table when transferring in a transfer device for transferring a fine transfer pattern by moving a mold holder holding a mold toward the positioned substrate table holding a substrate.例文帳に追加

基板を保持し位置決めがされている基板テーブルに、型を保持した型保持体を近づけて、微細な転写パターンを転写する転写装置において、転写をする際に、基板テーブルの位置決めによる発熱を抑制する。 - 特許庁

The articles 12 can be surely arranged in the stacking pattern by the transfer robot 14, and shaped into the stacking attitude by the shaping means 24 of the transfer device main body 15, and the articles 12 can be stabilized in the state of being stacked on the pallet.例文帳に追加

移載ロボット14で物品12を積付パターンに確実に配列でき、かつ、移載装置本体15の整形手段24で積付姿勢に整形し、物品12をパレットに積み付けた積付状態を安定させることができる。 - 特許庁

A pattern P is thermally transferred to the surface of an article to be printed by using a transfer film having a laminated structure wherein a release layer 11, a surface protective layer 12, a transfer layer 13 and an adhesive layer 14 are laminated on a film base material 10.例文帳に追加

フィルム基材１０上に離型層１１、表面保護層１２、転写層１３及び接着層１４の積層構造を有する転写フィルム１で図柄Ｐを被印刷物表面に熱転写する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory capable of eliminating the need of uselessly prolonging a distance between transfer transistors and reducing the pattern occupancy area of a row decoder by appropriately arranging the transfer transistors.例文帳に追加

転送トランジスタを適切な配置にすることによって、転送トランジスタ間の距離を無駄に広げる必要がなくなり、ロウデコーダのパターン占有面積を小さくできる半導体記憶装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

A pattern P is thermally transferred to the surface of an article to be printed by using a transfer film having a laminated structure wherein a release layer 11, a surface protective layer 12, a transfer layer 13 and an adhesive layer 14 are laminated on a film base material 10.例文帳に追加

フィルム基材１０上に、離型層１１、表面保護層１２、転写層１３及び接着層１４の積層構造を有する転写フィルム１で図柄Ｐを被印刷物表面に熱転写する。 - 特許庁