「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(258ページ目)

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patternを含む例文一覧と使い方

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例文

The photomask includes a resolution pattern 1 for wiring and a non-resolution pattern 2 which is disposed apart from the resolution pattern 1 for wiring, in order to correct an optical adjacency effect of the resolution pattern 1 for wiring, and the non-resolution pattern 2 has a shape curved along its lengthwise direction, in plan view.例文帳に追加

配線用解像パターン１と、配線用解像パターン１の光隣接効果を補正するために配線用解像パターン１に離間して配置された非解像パターン２とを具備してなり、非解像パターン２の平面視形状が、その長手方向に沿って湾曲した形状とされていることを特徴とするフォトマスクを採用する。 - 特許庁

When recognizing a big hit state (or a miss state) in a pattern combination effective line L, a pattern is moved from a direction different from a normal pattern variation direction and the opposite direction with respect to a final pattern display position H2 wherein the pattern is finally displayed (Figure 6(a)).例文帳に追加

図柄組み合わせ有効ラインＬ上であって、当該有効ラインＬにおいて大当り状態（又ははずれ状態）を認識するにあたって最後に図柄が表示される最終図柄表示位置Ｈ２に対して通常の図柄変動方向及びその逆方向とは異なる方向から図柄を移動する（図６（ａ））。 - 特許庁

The photomask comprises a mask substrate, a device pattern arranged on the mask substrate, and one or more focus monitoring patterns arranged in a different position from the device pattern on the mask pattern, wherein the focus monitoring pattern has a sawtooth pattern comprising nearly triangular patterns continuously arranged without a space in one direction in a plan view.例文帳に追加

マスク基板と、このマスク基板上に配置されたデバイスパターンと、マスク基板上のデバイスパターンとは異なる位置に配置された１または２以上のフォーカスモニタパターンとを備え、このフォーカスモニタパターンが、平面で見て略三角形が同一方向に隙間なく連続して配置された鋸歯形状のパターンを有するフォトマスクを用いる。 - 特許庁

To provide a magnetic pattern recognition method, an information recording medium, a magnetic pattern recognition device and a composite processor for recognizing a magnetic pattern in a bent state and a magnetic pattern in a non-bent state which are printed on check paper as a number and a symbol by converting the peak interval of a detected magnetic waveform acquired from the magnetic pattern into a bar interval pattern.例文帳に追加

磁気パターンの取得した検出磁気波形のピーク間隔をバー間隔パターンに変換することによって、チェック用紙上に印刷された折り曲げられた状態の磁気パターン及び折り曲げれていない状態の磁気パターンを、数字及び記号として認識する磁気パターンの認識方法、情報記録媒体、磁気パターン認識装置及び複合処理装置を提供する。 - 特許庁

例文

The present invention relates to the positioning pattern which is provided on the top surface 2 and reverse surface 3 of the photomask substrate 1 and formed on the same normal of the photomask 1, the positioning pattern comprising a transmission pattern 4 formed on the reverse surface and a light shield pattern 5 formed on the top surface such that the transmission pattern 4 is larger in area than the light shield pattern 5.例文帳に追加

本発明は、フォトマスク基板１のフォトマスク基板表面２とフォトマスク基板裏面３に設けられ、フォトマスク基板１の同一法線上に略形成される位置あわせパターンであって、裏面に形成される透過パターン４と、表面に形成される遮光パターン５とからなり、透過パターン４の面積が遮光パターン５の面積より大きいことを特徴とする。 - 特許庁

例文

A metronome having an operator (101) for setting a rhythm pattern with an arbitrary combination of strong beats and weak beats, a rhythm pattern memory means (102) for storing the rhythm pattern of the arbitrary combination of strong beats and weak beats set by the operator and a rhythm pattern regeneration means (103) for repeatedly regenerating the rhythm pattern stored in the rhythm pattern memory means is provided.例文帳に追加

強拍及び弱拍の任意の組み合わせの拍子パターンを設定するための操作子（１０１）と、操作子により設定された強拍及び弱拍の任意の組み合わせの拍子パターンを記憶するための拍子パターン記憶手段（１０２）と、拍子パターン記憶手段に記憶された拍子パターンを繰り返し再生する拍子パターン再生手段（１０３）とを有するメトロノームが提供される。 - 特許庁

A transfer control circuit 152 reads image element data from a selected pattern image data area in a CGROM 142 according to a selected pattern read command, writes them in the selected pattern data buffer 155A of a VRAM 155, also reads image element data from a common pattern image data area in the CGROM 142 according to a common pattern read command and writes them in a pattern array data buffer 155B.例文帳に追加

転送制御回路１５２は、選択図柄読出コマンドに応じてＣＧＲＯＭ１４２における選択図柄画像データエリアから画像要素データを読み出して、ＶＲＡＭ１５５の選択図柄データバッファ１５５Ａに書き込む一方で、共通図柄読出コマンドに応じてＣＧＲＯＭ１４２における共通図柄画像データエリアから画像要素データを読み出して、図柄配列データバッファ１５５Ｂに書き込む。 - 特許庁

After a conductive pattern is formed on a substrate and a first ramp is formed on an edge of the conductive pattern by forming a first insulating film at a sidewall of the conductive pattern, the edge of the conductive pattern has an improved sharpness by forming a second ramp on the edge of the conductive pattern by forming a second insulating film on the upper face of the conductive pattern.例文帳に追加

基板上に導電性パターンを形成し、導電性パターンの側壁に第１絶縁膜を形成して導電性パターンのエッジに第１傾斜を形成した後、導電性パターンの上面に第２絶縁膜を形成して導電性パターンのエッジに第２傾斜を形成することで、導電性パターンのエッジが向上されたシャープネスを有するようにすることができる。 - 特許庁

In a generating device for pattern formation data, a correction rule adding unit 3332 adds a correction rule required to a pattern formation process as a correction rule part to pattern formation data having a basic pattern part; and a corrected data generating unit 3333 corrects a pattern element represented by the basic pattern part, in accordance with the correction rule of the correction rule part to generate corrected data.例文帳に追加

パターン形成用データ生成装置では、補正ルール付加部３３３２により、基礎パターン部を有するパターン形成用データに、パターンの形成処理において求められる補正ルールが補正ルール部として付加され、補正済データ生成部３３３３により、基礎パターン部が示すパターン要素が補正ルール部の補正ルールに従って補正されて補正済データが生成される。 - 特許庁

例文

During rotation of the movable electrode 5, a first state in which either the first or the second electrode pattern and the common electrode pattern are conducted with each other, and a second state in which the first electrode pattern, the second electrode pattern, and the common electrode pattern is not conducted with each other, and at least one of the contact parts 52 is in contact with the contacted parts of the ground electrode pattern take place.例文帳に追加

可動電極５の回転途中に、第一電極パターン及び第二電極パターンの一方と共通電極パターンとが導通する第一状態と、第一電極パターン、第二電極パターン、及び共通電極パターンの何れもが互いに導通せず、かつ、少なくとも一つの接触部５２が接地電極パターンの被接触部に接触する第二状態とが発生する。 - 特許庁

例文

The photomask is to be used for transferring a predetermined transfer pattern including a line-and-space pattern onto a resist film formed on a process object to be etched to obtain a resist pattern in the resist film, which functions as a mask in the etching process, wherein the line pattern of the line-and-space pattern formed on a transparent substrate comprises a translucent portion while the space pattern comprises a light-transmitting portion.例文帳に追加

エッチング加工がなされる被加工体上に形成されたレジスト膜に対して、ライン・アンド・スペース・パターンを含む所定の転写パターンを転写させ、レジスト膜を前記エッチング加工におけるマスクとなるレジストパターンとなすフォトマスクにおいて、透明基板上に形成されるライン・アンド・スペース・パターンのラインパターンを半透光部で設け、スペースパターンを透光部で設ける。 - 特許庁

When a prescribed jackpot variation pattern command is transmitted to a sub control part 300 according to the jackpot drawing result of the main control part 200, the sub control part 300 draws one jackpot variation pattern command from the variation pattern command and the other jackpot variation pattern commands corresponding to the variation pattern command and transmits it to a performance pattern control part 400.例文帳に追加

主制御部２００の大当たり抽選結果に応じて所定の大当たり用変動パターンコマンドがサブ制御部３００に送信されてきたときは、サブ制御部３００は、この変動パターンコマンドとこの変動パターンコマンドに対応する他の大当たり用変動パターンコマンドのなかから１つの大当たり用変動パターンコマンドを抽選して演出図柄制御部４００に送信する。 - 特許庁

The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.例文帳に追加

透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁

A stripe or linear gate electrode dummy pattern 4 is inserted into the empty region 3 where an active region pattern 1 and a gate electrode pattern 2 are not provided among regions arranged with a circuit pattern, so that the gate electrode circumferential edge length per unit area of the total of the gate electrode pattern 2 and the gate electrode dummy pattern 4 is set within a specified range.例文帳に追加

回路パターンの配置領域のうち、活性領域パターン１及びゲート電極パターン２が設けられていない空き領域３に、短冊状又は線状のゲート電極ダミーパターン４を挿入し、それによってゲート電極パターン２とゲート電極ダミーパターン４との合計の単位面積当たりのゲート電極周縁長が所定の範囲に設定されるようにする。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes a step of applying the resist pattern thinning material to cover the surface of a resist pattern formed on a base layer to form a mixing layer with the resist pattern thinning material on the surface of the resist pattern and developing to form a thinned resist pattern, and a step of patterning the base layer by etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

下地層上に形成したレジストパターンの表面を覆うように該レジストパターン薄肉化材料を塗布し、レジストパターンの表面に該レジストパターン薄肉化材料とのミキシング層を形成し現像処理し、薄肉化したレジストパターンを形成する工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A function showing a transition of a change of a pattern dimension when the electron beam is irradiated on a sample is prepared in each the sample pattern, a dimension value of the pattern measured by scanning the electron beam on a specific pattern is applied to the function prepared for the specific pattern, and the dimension of the specific pattern before the change is calculated.例文帳に追加

この目的を達成するために、本発明によれば、試料パターンの種類ごとに、試料上に電子線を照射したときのパターン寸法の変化の推移を示す関数を用意し、特定パターンに前記電子線を走査して測定された前記パターンの寸法値を、当該特定パターンのために用意された前記関数に当てはめて、前記特定パターンの変化前の寸法を算出する。 - 特許庁

In a conductor pattern formation method wherein photosensitive conductor paste is used, after a pattern which is larger than a desired pattern is formed by partially applying photosensitive conductor paste on a substrate wherein a pattern is formed, exposure and development are carried out by using a photomask of a desired pattern and a desired pattern is formed.例文帳に追加

本発明は、感光性導体ペーストを用いた導体パターン形成方法において、パターンを形成する基板上に感光性導体ペーストを部分的に塗布することにより所望するパターンよりも大きいパターンを形成した後に、所望するパターンのフォトマスクを用いて露光・現像を行い、所望するパターンを形成することを特徴とする導体パターンの形成方法によって達成される。 - 特許庁

The method of manufacturing the photomask for evaluating an exposure apparatus comprises processes for designing an original pattern 14 including a pattern 1 for evaluation, forming a pattern in which the designed original pattern 14 is located on a grid 90, and forming a photomask 5 including a mask pattern by transferring the pattern located on the grid 90 on a transparent substrate 11.例文帳に追加

本発明における露光装置評価用フォトマスクの製造方法は、評価用パターン１を含む原画パターン１４を設計する工程と、設計された原画パターン１４をグリッド９０上に位置づけられたパターンとする工程と、グリッド９０上に位置づけられたパターンを透明基板１１上に転写することで、マスクパターンを有するフォトマスク５を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The forming method for conductive patterns includes a lipophilic-pattern forming process of forming a lipophilic pattern on the substrate which has on a base material an insulating layer containing inorganic particles and having a hydrophilic property, and includes a conductive-pattern forming process of so feeding a fluidic electrode material to the substrate, whereon the lipophilic pattern has been formed in the lipophilic-pattern forming process as to form a conductive pattern.例文帳に追加

基材上に、無機粒子を含有しかつ親水性を有する絶縁性層を有する基板上に、親油性パターンを形成する親油性パターン形成工程と、前記親油性パターン形成工程で親油性パターンが形成された基板に流動性電極材料を供給して導電性パターンを形成する導電性パターン形成工程とを含む。 - 特許庁

In this game machine provided with a pattern display device where a display part provided with an area for displaying the plural pattern elements is formed, the pattern element is changed to a different pattern element by being rotated and displaced at a displayed position and is changed to the different pattern element by copying a part or all of the pattern element symmetrically on a mirror surface and integrally combining them.例文帳に追加

複数の図柄要素を表示する領域を有する表示部が形成された図柄表示装置を有する遊技機において、図柄要素が、表示された位置で回転変位することにより異なる図柄要素に変化し、また図柄要素の一部または全部を鏡面で対称に複写して一体に組み合わして異なる図柄要素に変化してなることを特徴とする。 - 特許庁

The method of coating leather comprises putting Japanese lacquer 3 of a desired color for pattern formation added with a softener on the surface of water in a container, forming a pattern with the lacquer for pattern formation by moving water 1, bringing leather 5 into contact with the pattern to transfer the pattern to the leather and coating the pattern-formed surface of the leather with a top coat 7.例文帳に追加

容器内の水面上には柔軟剤を添加してなる所望の色の模様形成用漆３を乗せ、水１を動かすことにより該模様形成用漆による模様を形成し、皮革５を該模様に接触させて該模様を該皮革上に転写し、該皮革における該模様を形成した表面に上塗り塗装７を行なうことを特徴とする皮革の塗装方法。 - 特許庁

To provide a conductor pattern precursor capable of forming a conductor pattern of high reliability in which a connection failure with another electronic component is prevented, a substrate with a conductor pattern precursor including the conductor pattern, the conductor pattern of high reliability formed by the conductor pattern precursor, a wiring board of high reliability including the conductor pattern, and a method of manufacturing the wiring board capable of manufacturing the wiring board of high reliability.例文帳に追加

他の電子部品との接続不良が防止された、信頼性の高い導体パターンを形成することのできる導体パターン前駆体、該導体パターンを備えた導体パターン前駆体付基板、該導体パターン前駆体によって形成される信頼性の高い導体パターン、該導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板および、信頼性の高い配線基板を製造することのできる配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Alternatively, the inspection image pattern is formed by avoiding the characteristic point.例文帳に追加

あるいは、特徴点を避けて検査画像パターンを形成する。 - 特許庁

Thereafter, an electronic component 30 is mounted on the conductive pattern.例文帳に追加

その後、導電性パターン上に電子部品３０を実装する。 - 特許庁

SIGNAL GENERATOR, TEST PATTERN, AND EVALUATION METHOD OF VIDEO APPARATUS例文帳に追加

信号発生装置、テストパターン及び映像機器の評価方法 - 特許庁

FITTING TYPE PROTOTYPE MAKER AND METHOD FOR DRAWING PAPER PATTERN OF CLOTHING例文帳に追加

装着式原型製作器及び衣服の型紙の作図方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

LATENT IMAGE PATTERN-FORMED BODY FOR PREVENTING FORGERY AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

偽造防止用潜像模様形成体及びその作製方法 - 特許庁