「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(257ページ目) - Weblio英語例文検索

A tendency of inducing wiring failures in a design layout pattern of a semiconductor device by lithography and processing is quantified as a score; whether the design layout pattern is good or not is discriminated by the score; and if the pattern is discriminated as good, a transfer layout pattern transferred from the design layout pattern is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

リソグラフィとプロセスによる半導体装置の設計レイアウトパターンでの配線不良の発生しやすさをスコアとして定量化し、このスコアに基づいて設計レイアウトパターンの良否を判定し、この良否の判定が良であれば設計レイアウトパターンを転写した転写レイアウトパターンを半導体基板上に形成する。 - 特許庁

The wiring circuit board has an emitter pattern connected to the emitter of the power semiconductor element and a gate pattern connected to the gate of the power semiconductor element, the gate pattern having an induction causing pattern extending in parallel to a direction where the current of the main electrode terminal flows while not shielded by the emitter pattern.例文帳に追加

そして、該配線回路基板は、パワー半導体素子のエミッタに接続されるエミッタパターンと、パワー半導体素子のゲートに接続されるゲートパターンとを備え、該ゲートパターンは、該エミッタパターンによりシールドされず該主電極端子の電流の流れる方向と平行方向に伸びる誘導発生用パターンとを有する。 - 特許庁

Specific pattern detecting means 4 and 8 monitor whether data outputted from a compressor 3 and a read buffer 2 match the specific pattern and when they match the specific pattern, specific bit inserting means 5 and 9 insert specific bits showing that the pattern is not the specific pattern having special meaning under the control of the control circuit 1.例文帳に追加

特定パターン検出手段４，８は、圧縮器３，リード・バッファ２から出力されるデータが特定パターンに一致するどうかを監視し、一致する場合には、制御回路１からの制御により、特定ビット挿入手段５，９は、これが特別な意味を持つ特定パターンでないことを示す特定ビットを挿入する。 - 特許庁

The device for correcting layout pattern data is provided with a pattern dividing means with which a layout pattern of a circuit is divided into plural regional patterns on the basis of a predetermined dividing rule, and a pattern classifying means with which plural regional patterns formed by being divided by the pattern dividing means are classified at every different mask on the basis of a predetermined classifying rule.例文帳に追加

回路のレイアウトパターンを、所定の分割ルールに基づいて、複数の領域パターンに分割するパターン分割手段と、該パターン分割手段により分割されてなる複数の領域パターンを、所定の分類ルールに基づいて、異なるマスク毎に分類するパターン分類手段とを設ける。 - 特許庁

A platemaking pattern opening 13 is formed by exposing a sensitive emulsion 12 which is applied to a metal sheet main body 1, positioned in a metal pattern opening 11 formed in the metal sheet main body 1, and a pattern opening 10 obtained by making the opening size of the platemaking pattern opening 13 smaller than that of the metal pattern opening 11 is formed.例文帳に追加

メタル板本体１に形成したメタルパターン開口１１内に位置させて、メタル板本体１に塗布した感光乳剤１２に対する露光によって製版パターン開口１３を形成し、メタルパターン開口１１の開口大きさに比し、製版パターン開口１３の開口大きさを小さくしたパターン開口１０を形成する。 - 特許庁

In a pachinko machine which is one of the game machines, a left pattern display train 110 and a right pattern display train 150 stop variation to once form a ready-to-win pattern array '2, X, 2', and a middle pattern display train 130 stops variation to form a miss pattern array '2, 7, 2'.例文帳に追加

遊技機の一つであるパチンコ機において、左図柄表示列１１０および右図柄表示列１５０が変動を停止して一旦リーチ図柄配列「２，↓，２」を形成し、中図柄表示列１３０が変動を停止してはずれ図柄配列「２，７，２」を形成したのち、中図柄表示列１３０の図柄「７」がねじり変動を行う。 - 特許庁

A CPU of a game control microcomputer mounted on a main board updates data showing the number of pattern increase times stored in a pattern increase number table so as to add one to the number of the pattern increase times according to a probability variable big win pattern inducingly displayed as a determined pattern constituting a big win display result.例文帳に追加

主基板に搭載された遊技制御用マイクロコンピュータのＣＰＵは、大当りの表示結果を構成する確定図柄として導出表示させた確変大当り図柄に応じた図柄増加回数が１加算されるように、図柄増加回数テーブルに格納されている図柄増加回数を示すデータを更新する。 - 特許庁

Further, image presentation is performed in which at least one pattern of the plurality of patterns is temporarily stopped, and the one pattern is configured such that the objects included in the object group are sequentially slid one by one from the player side in the same direction as the pattern variation, and its display pattern is changed to be different from its original pattern.例文帳に追加

そして、これらの図柄のうち少なくとも一つの図柄を仮停止させて、その図柄について当該オブジェクト群に含まれるオブジェクトを遊技者側から一つずつ順に図柄変動と同方向に滑り落としていく画像演出を行い、もとの図柄と異なる表示態様に変更する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a pattern forming apparatus by which a pattern in a relatively wide region of a square millimeter or larger can be formed in a short time by electrochemical lithographic pattern forming method and the pattern can be formed without using an expensive apparatus such as an AFM (atomic force microscope) and an STM (scanning tunneling microscope).例文帳に追加

電気化学リソグラフィーによるパターン形成方法において、平方ミリメートル以上の比較的広い領域に渡るパターン形成を、短時間で行うことを可能とするとともに、ＡＦＭ、ＳＴＭなどの高価な装置を用いることなくパターンを形成し得るパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

After the image of a mask pattern is inputted and processed by using a computer to extract the data of the outline of the pattern, a specified pattern is encoded into vectors and the shape characteristics of the specified pattern are judged and processed to calculate a specified shape characteristic value to evaluate the pattern shape.例文帳に追加

マスクパターン画像を入力し、コンピュータを用いた画像処理によってパターンの輪郭形状データを抽出した後、特定パターンをベクトル符号化し特定パターンの形状特徴を判断処理して、所定の形状特性値を算出することによりパターン形状を評価することを特徴とする。 - 特許庁

To solve a problem that, although there has been a method of evaluating pattern shapes of electronic devices by using design data or a non-defective pattern as a reference pattern, the pattern shape cannot be evaluated with high accuracy because of difficulty in defining an exact shape suitable for manufacturing conditions of the electronic devices by the design data or the non-defective pattern.例文帳に追加

設計データや良品パターンを参照パターンとして、電子デバイスのパターン形状を評価する方法があるが、設計データや良品パターンでは、電子デバイスの製造条件に適合した形状を正確に定義することが困難であり、パターンの形状を高精度に評価することができない。 - 特許庁

To provide photosensitive resist ink which is used for forming a resist pattern by a direct resist drawing method and has sufficiently high resist pattern curing speed, etching resistance, peelability, etc., and with which the manufacturing yield and manufacturing time of a conductor pattern can be improved; and to provide methods of manufacturing resist pattern, conductor pattern, and printed wiring board.例文帳に追加

レジスト直描方式を用いたレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、レジストパターンの硬化速度、耐エッチング性、剥離性等が十分で、導体パターンの製造歩留まりや製造所要時間が満足のいく、感光性レジストインクを提供し、レジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the case of changing an accessory pattern Zs, by changing the accessory pattern Zs corresponding to one of permutation patterns Zj displayed at a big object pattern display device 42, the accessory pattern Zs to be changed is easily recognized by a player at the time of changing the accessory pattern Zs.例文帳に追加

付属図柄Ｚｓの変更を行う場合に、大物図柄表示装置４２に表示されているいずれかの順列図柄Ｚｊに対応した付属図柄Ｚｓを変更することにより、付属図柄Ｚｓを変更する際に変更される付属図柄Ｚｓを遊技者に認識し易くすることができる。 - 特許庁

A pattern control means has a control content for generating a variable probability pattern state in a predetermined state or improving an occurrence probability in the case that a regular hit pattern state determined by a hit pattern determining process and a hit pattern state definitely displayed previously satisfy the specified correlation of patterns.例文帳に追加

図柄制御手段が、当り図柄決定行程により決定された通常当り図柄態様と、以前に確定表示された当り図柄態様とが特定の図柄相関条件を充足していた場合に、所定態様で確変当り図柄態様を発生又は発生確率を向上させる制御内容を備えるものとした。 - 特許庁

In the optical pulse pattern generator 1, a pattern generating circuit 6 generates a pulse pattern 11 based on a pattern information inputted from a CPU 3, and the generated pulse pattern 11 is converted into a differential electric pulse signal 12 by a high speed differential I/O8 to output to an LD driving circuit 9.例文帳に追加

本発明の光パルスパターン生成器１において、パターン生成回路６はＣＰＵ３から入力したパターン情報に基づいてパルスパターン１１を生成し、生成されたパルスパターン１１は高速差動Ｉ／Ｏ８で差動電気パルス信号１２に変換されてＬＤ駆動回路９に出力される。 - 特許庁

To provide a pattern-forming method with which a defect-free permanent pattern, such as a wiring pattern can be efficiently formed with high definition by suppressing distortion of an image provided on a pattern forming material and setting the total light transmittance and the haze value of a support in the pattern forming material within a prescribed range.例文帳に追加

パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、該パターン形成材料における支持体の全光線透過率及びヘイズ値を所定の範囲とすることにより、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁

When there is a bit pattern identical to a frame synchronization pattern at a predetermined position of a TS packet, a transmission apparatus 2-1 replaces the bit pattern by a bit pattern computed by using a spread code to store the computed pattern in a data slot, and gives data replacement information indicating the replacement to a TSMF header to transmit the information.例文帳に追加

送信装置２−１は、ＴＳパケットの所定位置に、フレーム同期パターンと同じビットパターンが存在する場合、そのビットパターンを、拡散符号を用いて演算したビットパターンに置き換えてデータスロットに格納し、置き換えたことを示すデータ置き換え情報をＴＳＭＦヘッダに付与して送信する。 - 特許庁

To provide a picture pattern display device for Pachinko machine, with which the display of picture pattern elements can be dramatically, speedily and unpredictably directed in the case of displaying the picture pattern elements at the time of ordinary play and the picture pattern elements stopped in a picture pattern display area can easily be watched.例文帳に追加

通常遊技時に図柄要素を表示するに際して意外性を発現して図柄要素の表示をドラマチックに且つスピード感をもって演出することが可能であり、また、図柄表示領域で停止表示された図柄要素を容易に視認することが可能なパチンコ遊技機の図柄表示装置を提供する。 - 特許庁

Thus, a player can easily watch the lottery result displayed with the combination of patterns of the external pattern sheet 44 and patterns of the internal pattern sheet 54 by making the distance between the external pattern sheet 44 and the internal pattern sheet 54 small and equalizing the number of the transparent members interrupting from the player to the pattern sheet.例文帳に追加

これにより、外図柄シート４４と内図柄シート５４との距離を小さくするとともに、遊技者から図柄シートまでの間をさえぎる透明部材の数を等しくして、外図柄シート４４の図柄と内図柄シート５４の図柄との組み合わせで表示される抽選結果を見やすくすることができる。 - 特許庁

In addition, since the two-layer resist pattern 5 covered by the soluble layer 2 is removed by using a solvent which can dissolve both the two-layer resist pattern 5 and soluble layer 2 after the first thin film pattern 17 is formed, the separation of the thin film pattern 17 and two-layer resist pattern 5 from each other can be performed without trouble.例文帳に追加

さらに、ドライエッチングにより第１の薄膜パターン１７を形成したののち、２層レジストパターン５および可溶層２を共に溶解可能な溶剤を用い、可溶層２に覆われた２層レジストパターン５を除去するようにしたので、第１の薄膜パターン１７と２層レジストパターン５との分離を支障なく行うことができる。 - 特許庁

A mutual effect between the CCD shift control signal and the video signal of a CCD solid-state imaging element 45 is prevented by arranging the ground pattern PG between the pattern region PS wherein the wiring pattern for the CCD shift control signal is arranged and the pattern region PI wherein the wiring pattern of the video signal is arranged.例文帳に追加

ＣＣＤ移動制御信号の配線パターンが配置されるパターン領域ＰＳと映像信号の配線パターンが配置されるパターン領域ＰＩの間にグラウンドパターンＰＧを配設することにより、ＣＣＤ移動制御信号とＣＣＤ固体撮像素子４５の映像信号が互いに影響を与えることを防ぐ。 - 特許庁

In the case of forming a lower electrode of a wire or a non-linear element by a tantalum pattern 13x containing nitrogen, a nitrogen-contained resist pattern 60 having an inverted pattern of the tantalum pattern is formed on a substrate 20x in a resist pattern formation process, and then a tantalum film 13 is formed on the substrate 20x in a film formation process.例文帳に追加

配線や非線形素子の下電極を窒素含有のタンタルパターン１３ｘにより形成するにあたって、レジストパターン形成工程において、タンタルパターンの反転パターンを有する窒素含有のレジストパターン６０を基板２０ｘ上に形成した後、成膜工程において、基板２０ｘ上にタンタル膜１３を成膜する。 - 特許庁

After simultaneously forming a resist pattern 22A for ion implantation and a resist pattern 22B for an alignment mark on a semiconductor film 13, ion implantation 23 is applied to the whole surface of that patterns, and after applying ashing 24 to an altered layer 16 formed on a resist pattern 22A' other than a resist pattern forming part B' for the alignment mark, the resist pattern 22A' is removed.例文帳に追加

半導体膜１３上にイオン注入用レジストパターン２２Ａとアライメントマーク用レジストパターン２２Ｂを同時に形成した後、その全面にイオン注入２３し、アライメントマーク用レジストパターン形成部Ｂ’以外のレジストパターン２２Ａ’を、表面に形成された変質層１６をアッシング２４した後レジストパターン２２Ａ’を除去する。 - 特許庁

Correcting the target time of each pattern PF on the track TF by using a timing error of the pattern PE, and modulating the clock frequency using the difference of the reading time of each pattern PF and its corrected target time, each pattern PG is written on a track TG with the time delay obtained by calculation after reading the pattern PF.例文帳に追加

トラックTFの各パターンPFのターゲット時刻をパターンPEのタイミング誤差を使用して補正し、各パターンPFの読み出し時刻とその補正されたターゲット時刻との差分を使用してクロック周波数を変調しながら、各パターンPFを読み出してから計算で求められた遅延時間後にトラックTGに各パターンPGを書き込む。 - 特許庁

The pattern controller receives and analyzes the pattern variation command transmitted from the main controller and establishes a single variation pattern corresponding to hit out information by drawing lots and controls pattern variations based on the variation pattern over a period directed by the variation time information.例文帳に追加

図柄制御手段は、主制御手段から送信される図柄変動コマンドを受信し、その図柄変動コマンドを解析し、当たり外れ情報に対応する１つの変動パターンを抽選により設定し、その変動パターンに基づいて変動時間情報で指示される時間に亙って図柄変動制御する。 - 特許庁

The method for drawing the fine pattern comprises putting a paper pattern expressing a proper pattern on a denim cloth, coating a chemical paste from above the paper pattern, sufficiently drying the paste, decoloring the denim cloth 1, and cleaning the remaining paste to draw the pattern 2 with the color of the denim cloth 1 before the decoloration at the part coated with the paste.例文帳に追加

適宜模様を表現した型紙をデニム地上に置き、前記型紙の上から化学のりを塗布し、前記のりを十分に乾燥させた後デニム地１を脱色し、残ったのりを洗浄することにより、前記のり塗布部分に当該デニム地１の脱色前の色にて前記模様２を描出することを特徴とする。 - 特許庁

The conductive pattern 3 is connected to a large current circuit, and comprises a upper conductive pattern formed on one surface of the base film 2 and a lower conductive pattern formed on the other surface thereof, and the upper conductive pattern and the lower conductive pattern are formed by being overlapped so as to interpose the base film 2.例文帳に追加

導電パターン３は、大電流回路に接続されるもので、ベースフィルム２の一方の表面に形成された上側導電パターンと他方の表面に形成された下側導電パターンとからなり、上側導電パターン及び下側導電パターンはベースフィルム２ａを挟むように重ねて形成されている。 - 特許庁

To display a lot of pattern names on a screen as many as possible while effectively utilizing a pattern name display picture on pattern name display, to display only the pattern name of a sewing object while excluding the display of unwanted file names which are not the sewing object, and to simultaneously display additional data related to the pattern name within one line.例文帳に追加

模様名表示における模様名表示画面を有効活用して、極力多数の模様名を画面表示できること、縫製対象でない不要なファイル名の表示を除いて縫製対象の模様名だけを表示すること、模様名に関連する付随データも同時に１行表示できること。 - 特許庁

When a variation start condition is established, the main controller 71 determines the variable display time and variation pattern of patterns to be variably displayed at a pattern display device 41 and the kind of the pattern to be finally stop-displayed, etc., and outputs a stop pattern command and a variation pattern command to a sub controller 65.例文帳に追加

主制御装置７１は、変動開始条件が成立すると、図柄表示装置４１にて変動表示される図柄の変動表示時間や変動パターン、最終停止表示させる図柄の種別等を決定し、サブ制御装置６５に対して停止パターンコマンドと変動パターンコマンドを出力する。 - 特許庁

The measurement pattern is used for formation of contact and via holes over a diffusing layer and an underlay wiring layer from a photoresist, and the pattern includes a first pattern 16 as an object of length measurement by a length measurement SEM and a second pattern 17 laid apart from the first pattern 16 and used for aligning and focusing the length measurement SEM.例文帳に追加

拡散層および下層配線上にそれぞれコンタクトおよびビアをフォトレジストで形成する際の測長パターンであって、測長ＳＥＭの測長対象となる第１パターン１６と、該第１パターン１６と離間して設けられ、測長ＳＥＭの位置および焦点合わせに用いられる第２パターン１７と、を含む。 - 特許庁

To provide a liquid-repellent monolayer pattern forming method using no glass mask and excellent in pattern forming accuracy and reproducibility of position and to provide a pattern of a semiconductor, a metal or the like formed using the monolayer pattern, an electro-optic device manufactured using the formed pattern and an electronic machine with the electro-optic device.例文帳に追加

ガラスマスクを使用せず、しかもパターン形成精度や位置の再現性の優れた撥液性単分子層のパターン形成方法、及びその単分子層パターンを用いて形成する半導体、金属などのパターン、更にそれを用いて製造される電気光学装置、及びこの電気光学装置を備える電子機器を提供すること。 - 特許庁

The pattern retrieving device comprises a means for storing the feature quantities of images of a plurality of definitions different from each other of each sample pattern, a means for calculating the feature quantity of the presented pattern, and a means for measuring a distance between the feature quantity of the image of each definition of each sample pattern and the feature quantity of the presented pattern.例文帳に追加

各サンプル模様の相互に異なる複数の解像度の画像の特徴量を格納する手段と、提示された模様の特徴量を計算する手段と、各サンプル模様の各解像度の画像の特徴量と前記提示された模様の特徴量との間の特徴量距離を測定する手段と、を備える。 - 特許庁

In the pattern storage means, when the corresponding flow rate pattern could not retrieved, the gas flow rate pattern concerned is newly stored as a flow rate pattern by combination with a certain specified gas apparatus or a plurality of specified gas apparatuses, and this stored flow rate pattern is returned as the retrieval result.例文帳に追加

パターン記憶手段では、流量パターンを検索できなかったときに、計測された使用流量及び時間に基づいて、ガスの流量パターンを或る特定ガス器具又は複数の特定ガス器具の組み合わせによる流量パターンとして新たに記憶し、記憶した流量パターンを検索結果として返す。 - 特許庁

To provide an resist ink for forming a resist pattern using a direct resist drawing system for achieving smaller number of resist pattern forming steps, sufficient etching resistance of the resist pattern, and a satisfactory manufacturing yield and required manufacturing time for a conductor pattern, and provide a method for manufacturing a conductor pattern and a printed wiring board using the ink.例文帳に追加

レジストパターンの形成工程が少なく、レジストパターンの耐エッチング性が十分で、導体パターンの製造歩留まりや製造所要時間が満足のいく、レジスト直描方式を用いたレジストパターン形成用レジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a plurality of special pattern games happen to progress simultaneously, a variable time of a special pattern of the special pattern games simultaneously progressing is adjusted so that variable completion of a display device starting the special pattern game early is synchronized with variable completion of the display device starting the special pattern game later.例文帳に追加

複数の特別図柄ゲームが同時に進行する事態が生じたときは、先に特別図柄ゲームを開始した表示装置の変動終了と、後から特別図柄ゲームを開始した表示装置の変動終了が同期するように、同時進行している特別図柄ゲームの特別図柄の変動時間を調整する。 - 特許庁

The apparatus is provided with a pattern registering means 12 in which a graphic pattern P with a tool arrangement set is registered and a tool arranging means 13 which recognizes in a form of a pattern each part of the component graphic G as a combination with the graphic pattern P registered in the pattern registering means 12 and which performs the tool arrangement for the component graphic G in accordance with the recognition result.例文帳に追加

工具配置を設定した図形パターンＰを登録するパターン登録手段１２と、部品図形Ｇの各部分をパターン登録手段１２に登録された図形パターンＰの組み合わせとしてパターン認識しその認識結果に応じて部品図形Ｇに工具配置を行う工具配置手段１３とを設ける。 - 特許庁

Based on an input spike pattern that is a distribution of the scores to input data of the nodes of the input network net_11 and an output spike pattern that is a distribution of the scores to input data of the nodes of the output network net_12, pattern-correspondence information for associating the input spike pattern with the output spike pattern is learnt.例文帳に追加

そして、入力ネットワークnet_11のノードの、入力データに対するスコアの分布である入力発火パターンと、出力ネットワークnet_12のノードの、出力データに対するスコアの分布である出力発火パターンとに基づいて、入力発火パターンと出力発火パターンとを対応付ける対パターン対応情報を学習する。 - 特許庁

A made characteristic vector is checked with a standard pattern stored in a pattern dictionary, the standard pattern, having a distance near an input pattern in a characteristic quantity space is selected, only a character corresponding to the designated recognizing object character set among the selected standard pattern is selected, and is used as a recognizing result.例文帳に追加

作成された特徴ベクトルを、パターン辞書に格納されている標準パターンと照合して、特徴量空間において入力パターンと近い距離を持つ標準パターンを選択し、当該選択された標準パターンのうち上記指定された認識対象文字集合に該当する文字のみを選択して認識結果とする。 - 特許庁

The step difference pattern includes a first step difference pattern 11, formed by digging down a principal surface of a substrate 2; and a second step difference pattern 13, formed by further digging down the principal surface of the substrate 2, in continuation with the first step difference pattern 11 below the first step difference pattern 11 formed by digging down the principal surface of the substrate 2.例文帳に追加

段差パターンは、基板２の主面を掘り下げて形成された第１段差パターン１１と、基板２の主面を掘り下げた第１段差パターン１１の下方に、第１段差パターン１１に連続して更に基板２の主面を掘り下げて形成された第２段差パターン１３と、を有している。 - 特許庁

A control section 12 uses each key entry pattern after depression of a particular key to reference a lookup table cross-referencing operations with a blink pattern stored in a built-in memory, reads blink pattern information corresponding to the key entry pattern, and acquires a code string corresponding to each word indicated by the blink pattern information from a blink information code table.例文帳に追加

制御部１２は、特定のキー押下後の各キー入力パターンで、内蔵のメモリの操作対明滅パターン対応テーブルを参照し、キー入力パターンに対応した明滅パターン情報を読み出し、その明滅パターン情報の各語に対応した符号列を明滅情報の符号テーブルから取得する。 - 特許庁

To provide a mask pattern formation support apparatus, a mask pattern formation support method, a program, a storage medium, and an exposure mask, which facilitate the formation of a mask pattern for the manufacture of a semiconductor device having a circuit pattern with the figure and dimensions both in high fidelity to the aimed circuit pattern designed by a designer.例文帳に追加

設計時に設計者が意図した回路パターンに対して、形状および寸法がともに忠実な回路パターンを有する半導体デバイスを製造するマスクパターンの作成を容易化することができるマスクパターン作成支援装置、マスクパターン作成支援方法、プログラム、記憶媒体および露光用マスクを提供する。 - 特許庁

Since the 1st wiring pattern and the 2nd wiring pattern are just connected by a 3rd wiring pattern formed on a flexible substrate, the substrate and a mirror base are fixed with resin and it is enough to bend the mirror base vertically, the need for the bonding operation between the 1st wiring pattern and the 2nd wiring pattern is eliminated to facilitate the manufacture.例文帳に追加

第１の配線パターンと第２の配線パターンとをフレキシブル基板に形成された第３の配線パターンで接続すると共に、基板とミラーベースとを樹脂で固定してミラーベースを垂直に折り曲げるだけでよいので、第１の配線パターンと第２の配線パターンとの間のボンディング作業が不要となり、製造が容易となる。 - 特許庁

The pattern measuring system is provided with a simulator which determines the dimension measuring position of a pattern to be transferred on a wafer in accordance with dimensional distribution of the pattern within photomask surface, gauging equipment which measures dimension of the pattern in the dimension measuring position, and photomask database which stores data concerning dimensional distribution of the pattern within the photomask surface.例文帳に追加

フォトマスク面内におけるパターンの寸法分布に応じ、ウエーハ上に転写されるパターンの寸法計測位置を決定するシミュレータと、寸法計測位置においてパターンの寸法を計測する寸法検査装置と、フォトマスク面内におけるパターンの寸法分布に関するデータを格納するフォトマスクデータベースとを有する。 - 特許庁

In a mask 1 for drawing disclosed electron beams, a membrane structure 2 where a donut-like pattern (a pattern in an endless shape) 4 is formed, and a stencil structure 3 where a pattern in a straight line shape (a pattern other than the pattern in an endless shape) 5 is formed are bond by an insulating resin or the like such as resin in one piece.例文帳に追加

開示されている電子線描画用マスク１は、ドーナッツ形状パターン（無端形状パターン）４が形成されたメンブレン構造体２と、直線形状パターン（無端形状パターン以外のパターン）５が形成されたステンシル構造体３とが、樹脂等の絶縁性接着剤等により貼り合わされて一体化されている。 - 特許庁

An antenna substrate 12 is arranged so as to be erected on an antenna base 10, and a first pattern 12a, a second pattern 12b connected to the first pattern 12a through a connection line, and a third pattern 12e connected to the second pattern 12b through a first coil 12c and a second coil 12d are formed in the antenna substrate 12.例文帳に追加

アンテナベース１０上にアンテナ基板１２が立設されて配置され、アンテナ基板１２には第１パターン１２ａと、接続ラインを介して第１パターン１２ａに接続される第２パターン１２ｂと、第１コイル１２ｃと第２コイル１２ｄを介して第２パターン１２ｂに接続される第３パターン１２ｅとが形成されている。 - 特許庁