patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
A conductive projected part 33 is passed through an insulating layer 14 and one end is connected to the conductor pattern 23 while the other end is fitted into the conductor pattern 24 and is connected to the conductor pattern 24 in three-dimensional way.例文帳に追加
導体突起33は、絶縁層14を貫通し、一端が導体パターン23に接続され、他端が導体パターン24にくい込み、導体パターン24に立体的に接続されている。 - 特許庁
A conductive projected part 32 is passed through an insulating layer 13 and one end is connected to the conductor pattern 22 while the other end is fitted into a conductor pattern 23 and is connected to the conductor pattern 23 in three-dimensional way.例文帳に追加
導体突起32は、絶縁層13を貫通し、一端が導体パターン22に接続され、他端が導体パターン23にくい込み、導体パターン23に立体的に接続されている。 - 特許庁
A plurality of pattern rows are displayed on the display 41 and if a fixed pattern is a big hit pattern, the mechanism 33 is actuated to provide a large number of prize balls for a player.例文帳に追加
表示部41には複数の図柄列が表示され、確定図柄が大当り図柄である場合には特別役物33が作動して遊技者に多数の景品球を獲得させる。 - 特許庁
To provide a pachinko game machine capable of preventing a game from becoming monotonous by forming the relation of a losing pattern displayed by a special pattern display device as a stop pattern and prize ball putout.例文帳に追加
特別図柄表示装置が停止図柄として表示するハズレ図柄と賞球払出しとの関係を作ることにより、遊技の単調化をなくすことができるパチンコ機を実現する。 - 特許庁
To provide a multi-gradation photomask which has a resist pattern having a desired remaining film value of thickness in a translucent area without reference to a pattern shape and a method of manufacturing the same, and a pattern transfer method.例文帳に追加
半透光領域においてパターン形状によらず、所望の厚さの残膜値のレジストパターンを得ることができる多階調フォトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
Based on a second pattern matching technique corresponding to the acquired deterioration state, a second mark comparing unit 202 generates an image pattern dictionary from an image pattern contained in the input image.例文帳に追加
第2のマーク比較部202は、取得された劣化状態に対応する第2のパターンマッチング手法に基づいて、入力画像に含まれる画像パターンから画像パターン辞書を生成する。 - 特許庁
The mask 10 has a mask pattern formed of through holes for charged particles to travel through, and the mask pattern comprises four mask regions 10-1 to 10-4 each having one and the same pattern.例文帳に追加
荷電粒子線が通過する貫通孔によりマスクパターンが形成されたマスク10であって、同一のマスクパターンが形成された4つのマスク領域10−1〜10−4を有する。 - 特許庁
At the 2nd vapor-deposited part, an etching pattern layer 22c having a specified pattern is formed and an illuminaire 30 irradiates the etching pattern layer with light from the back side of the 2nd vapor- deposited part.例文帳に追加
第2の蒸着部には所定のパターンを有するエッチングパターン層22cが形成されており、照明具30は第2の蒸着部の背面側からエッチングパターン層に光を照射する。 - 特許庁
Next, reflow treatment is applied to the resist pattern 31, thereby an outer side wall 41a of the resist pattern 41 is tapered, the lower electrode film 13' is etched from the surface of the resist pattern 41, thereby forming a lower electrode 13, and the resist pattern 41 is removed.例文帳に追加
次に、レジストパターン41をリフロー処理することで、レジストパターン41の外郭の側壁41aをテーパー形状とし、レジストパターン41上から下部電極膜13’をエッチングして、下部電極13を形成し、レジストパターン41を除去する。 - 特許庁
The embossing apparatus 10 has a pattern roll 12 having a rugged pattern on the outer circumference, a support roll 14 arranged oppositely to the pattern roll 12, and a resin feeder 16 feeding a fine particle-like resin 5 on the pattern roll 12.例文帳に追加
エンボス加工装置10は、外周に凹凸形状を有する絵柄ロール12と、絵柄ロール12に対向して配置された支持ロール14と、微粒子状の樹脂5を絵柄ロール12上に供給する樹脂供給装置16と、を備えている。 - 特許庁
An upper side conductive pattern 5 has a first land formed of a high-resistance spiral pattern spirally extending from the center to the outside and a lower side conductive pattern 6 has a second land formed of a spiral pattern similar to that of the first land.例文帳に追加
上側の導電パターン5は、中心部から外側に螺旋状に延びる高抵抗からなる螺旋状パターンからなる第1ランドを形成し、下側の導電パターン6は、第1ランドと同様の螺旋状パターンからなる第2ランドを形成する。 - 特許庁
When the variation period of pattern variation is elongated and contracted depending on the time interval of detecting the game ball B by the detector 1, the timing of varying the pattern is averaged so that the apparent pattern variation is increased to reduce interruption of the pattern variation.例文帳に追加
検出器1が遊技球Bを検出する時間間隔に応じて図柄変動の変動期間を伸縮すると、当該図柄変動を行うタイミングが平均化し、見た目の図柄変動が多くなって図柄変動の途切れが少なくなる。 - 特許庁
A part provided on the first shield pattern 71 of the first dummy pattern 73 is formed so as to linearly extend along the entire outer edge area of the first shield pattern 71 and to at least partially expose the first shield pattern 71.例文帳に追加
第1ダミーパターン73のうち第1シールドパターン71上に設けられた部分は、第1シールドパターン71の外縁全域に沿って線状に延びるとともに、第1シールドパターン71を少なくとも部分的に露出させるよう形成されている。 - 特許庁
The electromagnetic wave absorber has such a structure that an outside pattern layer 6 having a first conductive pattern, electromagnetic wave absorption layer 5, intermediate pattern layer 4 having a second conductive pattern, dielectric layer 3, and conductive reflection layer 2, are stacked in this order from the electric wave incident side.例文帳に追加
電波入射側から、第1導電性パターンを有する外パターン層6と、電磁波吸収層5と、第2導電性パターンを有する中間パターン層4と、誘電体層3と、導電性反射層2の順序で積層して構成される。 - 特許庁
A pattern belonging to a stoppage expected pattern group constituted by including at least a fixing stopping pattern for constituting the same pattern group finally fixed and stopped among revarying second patterns 20, is brightly displayed at lot-redrawing time.例文帳に追加
再抽選時において、再変動する第2図柄20のうち、最終的に確定停止する同一図柄群を構成する確定停止図柄を少なくとも含んで構成された停止予期図柄グループに属する図柄を明るく表示させる。 - 特許庁
A main board 20 does not overwrite a failed ready-to-win state pattern in a failed ready-to-win pattern storage area when the failed ready-to-win pattern is in a ready-to-win state by a determined selection pattern selected by the operation button 66 (S170, S171, S172: YES).例文帳に追加
そして、メイン基板20は、ハズレリーチ図柄が、操作ボタン66により選択された確定選択図柄によってリーチ状態となるものである場合には(S170,S171,S172:YES)、そのようなハズレリーチ図柄はハズレリーチ図柄用記憶領域に上書きしない。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which, when used for forming a pattern image, can keep proper adhesion of the pattern image to a substrate on which the pattern image is formed, while retaining water repellence and ink repellence of the upper surface of the pattern image.例文帳に追加
パターン画像を形成した場合に、該パターン画像上面の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性を良好に保つことができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
A plurality of alignment marks 3R for the coloring pattern of R, a plurality of alignment marks 3G for the coloring pattern of G, and a plurality of alignment marks 3B for the coloring pattern of B are disposed on a substrate 1 at different intervals for each coloring pattern.例文帳に追加
また、基板1に、Rの着色パターン用の複数のアライメントマーク3R、Gの着色パターン用の複数のアライメントマーク3G、及びBの着色パターン用の複数のアライメントマーク3Bを、着色パターン毎に異なる間隔で設ける。 - 特許庁
Pattern is controlled so that the pattern variation time of this time is selected on the basis of elapsed time for which the pattern variation time for the previous prescribed number of times is accumulated or the elapsed time after the start of pattern variation the prescribed number of times before.例文帳に追加
先の所定回数分の図柄変動時間を累積してなる経過時間または所定回数前の図柄変動開始からの経過時間に基づいて当回の図柄変動時間を選定するようにした図柄制御を行うようにした。 - 特許庁
A characteristic pattern extracting part 15c extracts the characteristic pattern of each text data by using the frequency pattern as attributes, and a tree preparing part 15d prepares a classification rule 40 based on the characteristic pattern and a class data group 22, and stores it in a storage part 11.例文帳に追加
特徴パターン抽出部15cは、頻出パターンを属性として各テキストデータの特徴パターンを抽出し、ツリー作成部15dは、特徴パターンとクラスデータ群22とをもとに分類ルール40を作成し、記憶部11に格納する。 - 特許庁
When the special pattern game starts after finishing the special pattern game based on the former start win, the variable time of the special pattern game is determined by the later retained storage number of the start wins and the special pattern game is executed at the determined variable time.例文帳に追加
先の始動入賞に基づく特図ゲームが終了して特図ゲームが開始されるときに、さらに後の始動入賞の保留記憶の数によって、特図ゲームの変動時間が決定され、決定された変動時間で特図ゲームが実行される。 - 特許庁
The automatic modeling device retrieves a shape pattern that agrees with the shape pattern name of the list 101, sets the dimensional parameter value and the location parameter value to a data file having the same shape as the shape pattern and outputs this pattern (103) as a three-dimensional solid model by using a CAD system.例文帳に追加
自動モデリング装置では入力表の形状パターン名と一致する形状パターンを検索し、形状パターン同形データファイルに寸法パラメータ値、配置パラメータ値を設定し、CADシステムにより三次元ソリッドモデルとしてアウトプットする103。 - 特許庁
Probability of display of the specified display mode in the first pattern display part 22a by the first pattern is set to be higher than probability of display of the specified display mode in the second pattern display part 22b by the second pattern.例文帳に追加
第1の図柄表示部22aに第1の図柄によって所定の表示態様が表示される確率を、第2の図柄表示部22bに第2の図柄によって所定の表示態様が表示される確率よりも高い確率に設定する。 - 特許庁
To provide a hologram sheet material in which a repeated pattern or a meaningful geometrical pattern can be simultaneously duplicated, the pattern including a decoration effect of a duplicated hologram using a rugged surface of a hologram film and the pattern positively eliminating the effect.例文帳に追加
本発明は、ホログラムフィルムの凹凸面を利用した複製ホログラムの装飾効果とその効果を積極的に排除した繰り返し模様または意味のある幾何学形状等を同時に複製することができるホログラム生地を提供する。 - 特許庁
After elapse of a detection timing delay time td1 corresponding to the predetermined section from the point of the auxiliary sync pattern detection, detection of the sync pattern 301 is executed over a period of a sync pattern detection extent TS1 determined to correspond to a sync pattern length.例文帳に追加
シンク補助パターン検出時点から所定区間に対応した検出タイミング遅延時間td1が経過した後に、シンクパターン長に対応して設定したシンクパターン検出範囲TS1の期間に亘ってシンクパターン301の検出を行なう。 - 特許庁
An input signal pitch pattern IPP of a prescribed processing unit component and a target pitch pattern TPP are input and a deterioration degree DGR at which the waveform of the input signal in performing the pitch conversion from the input signal pitch pattern IPP to the target pitch pattern TPP is calculated.例文帳に追加
所定の処理単位分の入力信号ピッチパターンIPPと目標ピッチパターンTPPとを入力して、入力信号ピッチパターンIPPから目標ピッチパターンTPPへのピッチ変換を行う際に入力信号の波形が劣化する劣化度DGRを算出する。 - 特許庁
The gate pattern of the dimension shift quantity larger than the prescribed value is extracted and parallel auxiliary patterns are formed in a parallel auxiliary pattern forming section 607 in accordance with the dimension shift quantity to this gate pattern, by which the mask data 610 of the gate wiring pattern is formed.例文帳に追加
寸法シフト量が所定の値よりも大きいゲートパタンを抽出し、そのゲートパタンに対し寸法シフト量に基づいて平行補助パタン作成部607で平行な補助パタンを作成し、ゲート配線パタンのマスクデータ610を作成する。 - 特許庁
In the servo writing method for writing a target servo pattern constituting concentric servo tracks on the basis of the spiral servo pattern, the inclination of the spiral servo pattern is calculated on the basis of an amplitude integrated value of a reproduction waveform of the spiral servo pattern.例文帳に追加
スパイラルサーボパターンに基づいて、同心円状のサーボトラックを構成する目標サーボパターンを書き込むサーボ書込み方法において、スパイラルサーボパターンの再生波形の振幅積算値に基づいてスパイラルサーボパターンの傾きを算出する構成である。 - 特許庁
To keep a large area of contact between a metal support substrate and a conductor pattern while keeping high a degree of freedom of design of the conductor pattern by preventing a conductor pattern formation area other than a semiconductor pattern coming into contact with the metal support substrate from being limited.例文帳に追加
金属支持基板と接触する導体パターン以外の導体パターン形成エリアが限られてしまうことを防止して導体パターンのデザイン自由度を高い状態で維持しつつ、金属支持基板と導体パターンの密着面積を大きく保つこと。 - 特許庁
The reflection type mask (R) having a pattern domain (Ra) in which a reflection pattern is formed includes additionally a non-pattern domain (Rb) for reflecting or scattering incident light in a direction different from the reflecting direction of the pattern domain (Ra).例文帳に追加
反射パターンが設けられたパターン領域(Ra)を有する反射型マスク(R)であって、入射した光をパターン領域(Ra)が反射する反射方向とは異なる方向に反射又は散乱させる非パターン領域(Rb)を有する。 - 特許庁
A pattern matching device 10 compresses the standard pattern by unifying elements similar to an adjoining feature element, into one feature element, in a pattern compression section 12, for each feature element of B1, B2 and B3 for composing the standard pattern.例文帳に追加
パターンマッチング装置10は、標準パターンを構成する各特徴要素B1,B2,B3について、パターン圧縮部12で、隣接する特徴要素と近似しているものを1つの特徴要素に統合することによって標準パターンを圧縮する。 - 特許庁
A curved road time pattern restricting unit 88 restricts selection of the high beam light distribution pattern in at least one of the lighting fixture unit during curved road travel, regardless of the light distribution pattern determined by the pattern determining part 80, when determined as the curved road.例文帳に追加
曲路時パターン制限部88は、曲路と判定されたときに、パターン決定部80で決定された配光パターンにかかわらず、曲路走行の間は灯具ユニットの少なくとも一方におけるハイビーム配光パターンの選択を制限する。 - 特許庁
A pattern determining means avoids the combination advantageous for the player comparing the pattern combination stopped and shown before the refluctuation with the pattern combination in the ready-to-win state shown after the refluctuation when the refluctuation pattern is selected.例文帳に追加
図柄決定手段は、再変動パターンが選択された場合に、再変動の前に停止表示する図柄組合せを、再変動の後で表示させるリーチ状態の図柄組合せと比べて遊技者に有利な組合せとなるのを回避する。 - 特許庁
To provide a pattern recognizer and pattern recognition program capable of preventing lowering of pattern recognition accuracy even if smear occurs in an obtained image when recognizing a pattern on a mobile object moving within the visual field of a photographic device.例文帳に追加
撮影装置の視野内を移動する移動体上のパターンを認識する場合において、得られる画像の中にスミアが発生しても、パターン認識の正確性が下がらないようにできるパターン認識装置及びパターン認識プログラムを、提供する。 - 特許庁
When an arbitrary pattern is stopped and displayed on a prescribed position in the continuous figure patterns fluctuatingly displayed on a liquid crystal display screen 15M of a pattern display device 15, another pattern is stacked on the top or under the bottom of the pattern to be stopped and displayed.例文帳に追加
図柄表示装置15の液晶表示画面15M上に変動表示されている連続数字図柄のうち任意の図柄が所定位置に停止表示されると、その図柄の上または下にさらに他の図柄が重ねられて停止表示される。 - 特許庁
In a case where fluctuations in a left pattern display row 110 and a middle pattern display row 130 are stopped and a next-to-win line is formed on a line L1, the fluctuation of a right pattern display row 150 is stopped without forming a big win pattern disposition.例文帳に追加
左図柄表示列110及び中図柄表示列130の変動が停止して、ラインL1上にリーチラインが形成されている場合において、右図柄表示列150が大当り図柄配列を形成しないで変動を停止する。 - 特許庁
The image forming apparatus forms a test pattern only on one side of a recording paper, outputs the recording paper after the test pattern is fixed once, then forms the test pattern only on one side of the recording paper and outputs the recording paper after the test pattern is fixed once.例文帳に追加
画像形成装置は、記録用紙の片面にのみテストパターンを形成して一回の定着を行った記録用紙を出力し、次に記録用紙の片面にのみテストパターンを形成して一回の定着を行った記録用紙を出力する。 - 特許庁
On the upper right part of a game board 30, a special pattern simple display device 50 for simply displaying the drawing result of a special pattern and a normal pattern simple display device 51 for simply displaying the drawing result of a normal pattern are provided closely.例文帳に追加
遊技盤30の右上部には、特別図柄の抽選結果を簡易的に表示するための特図簡易表示装置50と普通図柄の抽選結果を簡易的に表示するための普図簡易表示装置51とが近接して設けられている。 - 特許庁
The method includes a step for generating pattern information for describing a symbol of a pattern in the section, using an algorithm of defining the position coding pattern over the wide area, and a step for printing out the pattern information on a base by the printer unit 106.例文帳に追加
この方法は、広域にわたる位置コーディングパターンを画定するアルゴリズムを用いて、セクション中のパターンの記号を記述する図形情報を発生するステップと;図形情報をプリンタユニットによってベース上にプリントアウトするステップと;を含む。 - 特許庁
Further, an angle detector 7 detects the rotation angle of the candidate with respect to the standard pattern by comparing the target image and the angle detection pattern around the representative point of the standard pattern with respect to the candidate to be matched with the standard pattern.例文帳に追加
角度検出部7では、標準パターンとマッチングする候補に対して標準パターンの代表点の周りで対象画像と角度検出パターンとを比較することにより標準パターンに対する候補の回転角度を検出する。 - 特許庁
When one operation is finished, the pattern screen of the granulated cylinder pattern 31 and the tank pattern 33 are cleared and the integrated value with the fuel consumption in this time is reflected to next operation as the variation display of an integrated pattern 36.例文帳に追加
一回の運転が終了するとメスシリンダー図柄31及びタンク図柄33はすべてクリアされ、その回の消費燃料分を併せた積算燃料消費量は積層図柄36の変動画像として次回の運転時に反映される。 - 特許庁
An etching pattern is provided on a stopper pattern and a region that is adjacent to and outside the stopper pattern, the depths of the etching patterns provided to the stopper pattern and the region respectively are measured with a probe and compared with each other to measure the amount of overetching, and the etching conditions are specified and monitored by the use of the amount of over etching.例文帳に追加
ストッパパターン上とこれに隣接したストッパパターン外にエッチングパターンを設け、探針でこれらのエッチパターンの深さを計測・比較することによって、オーバーエッチ量を計測し、エッチングの条件だし、条件のモニターに用いる。 - 特許庁
Pattern CAD data prepared for the actual pattern at a time when the reticle is manufactured are used as they are in this case, the inversion pattern can be manufactured simply when a resist in the case of the processing of a reticle pattern is inverted to a negative or positive state, and the number of processes is omitted and the reticle can be prepared efficiently.例文帳に追加
この場合には、レチクル作製時に実パターン用に作製したパターンCADデータをそのまま使い、レチクルパターン加工時のレジストをネガ、ポジ反転すれば簡単に反転パターンを作製でき、工程数を省け効率的なレチクル作製ができる。 - 特許庁
Test pattern data is generated based on this read out program data, and memory BIST is performed by comparing data read out after the test pattern data is written in a memory to be tested with expected value pattern data corresponding to the test pattern data.例文帳に追加
この読み出されたプログラムデータに基づいてテストパタンデータを生成し、被テスト対象メモリがテストパタンデータを書き込んだ後で読み出されたデータと、当該テストパタンデータに相当する期待値パタンデータとを比較することによりメモリBISTを行う。 - 特許庁
A signal processing part 50 intermittently transmits the control signals by forming a non-directional pattern, receives the control signals from a mobile station by forming an array antenna pattern and further, transmits link channel allocation by the non-directional pattern or the array antenna pattern.例文帳に追加
信号処理部50は、制御信号を無指向性パターンを形成して間欠送信し、移動局からの制御信号に対してアレイアンテナパターンを形成して受信し、さらに、リンクチャネル割当を無指向性パターンとアレイアンテナパターンの何れかで送信する。 - 特許庁
The ON period of the waveform pattern PT1 is more finely divided than the ON period of the waveform pattern PT2, and a time ratio occupied by the ON period in the waveform pattern PT1 is smaller than a time ratio occupied by the ON period in the waveform pattern PT2.例文帳に追加
ここで、波形パターンPT1におけるオン期間は、波形パターンPT1におけるオン期間よりも細分化されており、波形パターンPT1に占めるオン期間の時間比率は、波形パターンPT2に占めるオン期間の時間比率よりも小さい。 - 特許庁
To provide a marking pattern suppressing impairment of a predetermined shape of the marking pattern due to wear of a part caused by the direct contact of the part formed in the predetermined shape with other members in the marking pattern, and to provide a method for forming the marking pattern.例文帳に追加
マーキングパターンにおける所定の形状をした部分の他の部材などが直接接触することで、部分が磨耗し、所定の形状が損なわれることを抑制することができるマーキングパターン、及びマーキングパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
In the selection processing of a notice performance pattern, a distribution value larger than 0 is set on a drawing table for the notice performance pattern related with the variation pattern of this time, and the distribution value is set to 0 for the unrelated performance pattern.例文帳に追加
予告演出パターンの選択処理において、今回の変動パターンに関連付けされた予告演出パターンに対して抽選テーブル上で0より大きい振り分け値を設定し、関連付けのない演出パターンについては振り分け値を0とする。 - 特許庁
To provide an apparatus for preparing picture pattern data and a program for printing capable of deforming a picture pattern without breaking an image of the whole picture pattern when the picture pattern is deformed in accordance with a shape of a predetermined printing region of a sheet material such as a fabric.例文帳に追加
布帛等のシート材の所定のプリント領域の形状に合わせて絵柄を変形させる際に、絵柄全体のイメージを崩すことなく絵柄を変形することができるプリント用絵柄データ作成装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁
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