「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(97ページ目) - Weblio英語例文検索

These 'ordinary big hit pattern ', 'probability varying big hit pattern' or 'miss pattern' and 'benifit pattern' are outputted to a display control circuit 95 via an output circuit 79 as a pattern variation starting command (S7, S12 and S14).例文帳に追加

そして、この「通常大当たり図柄」、「確変大当たり図柄」又は「ハズレ図柄」と「特典図柄」とを図柄変動開始指令として出力回路７９を介して表示制御回路部９５に出力する（Ｓ７、Ｓ１２、Ｓ１４）。 - 特許庁

The local density ratio of the pressurized pattern part and the non-pressurized pattern part (pressurized pattern part/non-pressurized pattern) is 3/2 or more while the local density of the pressurized pattern part should be 0.05 g/cm^3 or more, preferably 0.07 g/cm^3 or more.例文帳に追加

加圧パターン部と非加圧パターン部の局部密度比（加圧パターン部／非加圧部）は３／２以上で、かつ、加圧パターン部の局部密度は０．０５ｇ／ｃｍ^3以上、好ましくは０．０７ｇ／ｃｍ^3以上である。 - 特許庁

INFRARED ABSORPTION INK FOR INVISIBLE PATTERN FORMATION, TONER FOR ELECTROPHOTOGRAPHY FOR INVISIBLE PATTERN FORMATION, INK JET RECORDING LIQUID FOR INVISIBLE PATTERN FORMATION, THERMAL TRANSCRIPTION MATERIAL FOR INVISIBLE PATTERN FORMATION, AND INVISIBLE PATTERN FORMATION USING THEM例文帳に追加

不可視パターン形成用赤外線吸収インキ、不可視パターン形成用電子写真用トナー、不可視パターン形成用インクジェット記録液、不可視パターン形成用熱転写材料およびそれらを用いた不可視パターン - 特許庁

To provide a pattern forming material in which fogging due to a printout dye is suppressed and which is excellent in sensitivity, and a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

焼出し染料のカブリが抑制され、かつ、感度に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern cutting apparatus cutting a first pattern and a second pattern in an inner region of the first pattern from a plane ground by pressing the pattern cutting apparatus only once to the plane ground.例文帳に追加

平面の生地に対して１回だけ押し付けられることによって、第１の型と、当該第１の型の内領域における第２の型とを平面の生地から抜くことができる型抜き器を提供すること。 - 特許庁

One or both of a main picture pattern 13 and a subordinate picture pattern 14 are moved, the relative positions of the main picture pattern 13 and the subordinate picture pattern 14 are changed and display deciding success/failure again is performed during picture pattern variation.例文帳に追加

主図柄１３と副図柄１４との双方又は一方が動いて主図柄１３と副図柄１４との相対位置が変化し、図柄変動中に当り外れが再抽選されたような表示を行う。 - 特許庁

A pattern selection part 20 constantly selects one pattern in a prescribed line/column, defines it as a synchronizing signal, selects the pattern according to additional information except the prescribed line/column and embeds the pattern in input image data by a pattern superposing part 21.例文帳に追加

パターン選択部２０は、所定行・列に一方のパターンを常に選択して同期信号とし、それ以外では付加情報に従ってパターンを選択し、パターン重畳部２１で入力画像データにパターンを埋め込む。 - 特許庁

When signals indicating that the pattern piece group is inputted to a pattern controller 24 by a CPU (central processing unit) 16, display data are read in the pattern controller 24, and the pattern piece group is displayed at the pattern display device 4.例文帳に追加

この図柄片群を示す信号がＣＰＵ１６によって図柄制御装置２４に入力されると、図柄制御装置２４では、表示データが読み出され、図柄表示装置４にて図柄片群が表示される。 - 特許庁

The film with hologram pattern is provided with a hologram pattern formed layer 12 on which a rugged hologram pattern is formed, wherein a cover film 15 is fixed on at least a part of the hologram pattern so as to have a gap between the hologram pattern and the cover film.例文帳に追加

凹凸状のホログラムパターンが形成されたホログラムパターン形成層１２を備え、ホログラムパターンの少なくとも一部において、ホログラムパターンとの間に空隙を有するようにカバーフィルム１５が固定されている。 - 特許庁

The mask for measuring flare includes a box pattern as an outer frame, a measurement pattern for measuring the displacement amount inside the box pattern, and an auxiliary pattern, having a dimension lower than the resolution and adjacent to the measurement pattern.例文帳に追加

フレア測定用マスクは外枠となるボックスパターンと、ボックスパターンの内部に位置ズレ量を計測するための計測用パターンと、計測用パターンに隣接した解像限界寸法以下の補助パターンとを備えている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is equipped with a dummy pattern (actual dummy pattern) that is effectively arranged to an actual pattern such as a wiring and as high in pattern density as required, and to provide a method of arranging the actual dummy pattern.例文帳に追加

配線などの実パターンに対し効果的に配置されたダミーパターン（実ダミーパターン）を具備し、所望のパターン密度を有する半導体装置及びそのような実ダミーパターンを配置する方法を提供する。 - 特許庁

Further, only a 'common jackpot pattern' and an 'unlucky jackpot pattern' are once to be displayed and at the same time, when the common jackpot pattern or the unlucky jackpot pattern is once displayed, the display of the unlucky jackpot pattern as the confirmed pattern is to be refrained.例文帳に追加

さらに、「普通大当たり図柄」および「アンラッキー大当たり図柄」のみが一旦表示されるとともに、「普通大当たり図柄」あるいは「アンラッキー大当たり図柄」が一旦表示された場合には、「アンラッキー大当たり図柄」が確定表示されないようになっている。 - 特許庁

The special pattern stoppedly displayed in the first special pattern display is not displayed when the fluctuational display of the special pattern is started in the second special pattern display after the special pattern is stoppedly displayed in the first special pattern display.例文帳に追加

第１特別図柄表示装置において特別図柄が停止表示した後に、第２特別図柄表示装置において特別図柄の変動表示が開始されたとき、第１特別図柄表示装置に停止表示されている特別図柄を非表示にする。 - 特許庁

Since the pattern element of an upper stage whose scroll is to be stopped last is displayed larger than the pattern element of a middle stage and the pattern element of a lower stage in the scroll stopped state of all the pattern elements, the visibility of the last pattern element is improved compared to the preceding pattern elements.例文帳に追加

最後にスクロール停止する上段の図柄要素を全ての図柄要素のスクロール停止状態で先の中段の図柄要素および下段の図柄要素に比べて大きく表示したので、最後の図柄要素の視認性が先の図柄要素に比べて高まる。 - 特許庁

In a module for a working machine, no pattern region 60 is provided in a ground pattern 7, wherein the no-pattern region separates a ground pattern region 7b for a sensor circuit corresponding to the sensor circuit of the ground pattern 7 on a substrate 2 from a ground pattern region 7c for a CAN communication circuit corresponding to the CAN communication circuit.例文帳に追加

基板２におけるグランドパターン７のセンサ回路に対応するセンサ回路用グランドパターン域７ｂとＣＡＮ通信回路に対応するＣＡＮ通信回路用グランドパターン域７ｃとを分離させる無パターン域６０を、グランドパターン７に設けてある。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern is characterized in that after a resist pattern is formed, a resist pattern thickening material containing a resin and a surfactant is applied so as to cover the surface of the resist pattern to form a thickened resist pattern by thickening the resist pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、樹脂と界面活性剤とを含有するレジストパターン厚肉化材料を塗布し、該レジストパターンを厚肉化した厚肉化レジストパターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

In a step before the final stopping pattern combination form is derived and displayed, if the game pattern is displayed fluctuatingly as an undecided display before the final stopping game pattern, only the identification pattern is fluctuatingly displayed among the identification pattern and the decorative pattern.例文帳に追加

最終停止図柄の組合せ態様が導出表示される前の段階で、遊技図柄を最終停止前の未確定表示として所要の揺動表示する場合、識別図柄と前記装飾図柄のうち前記識別図柄のみを揺動表示させる。 - 特許庁

The change pattern when change display constitutes the ready-for-winning state is the pattern which is decided on the basis of the stop pattern and comprises a pattern exchange for temporarily stopping the temporary stop pattern which does not constitute the ready-for- winning state and displaying the stop pattern by conversion.例文帳に追加

当該変動表示がリーチを構成する場合の変動パターンは、当該停止図柄に基づいて決定される図柄であって、リーチを構成しない仮停止図柄の仮停止から、当該停止図柄へ変換表示する図柄入替変動を含む。 - 特許庁

When the detection section 10 detects the coincidence between the received pattern P10 and the detected pattern and outputs a trigger signal Tr, the detection section allows a PN pattern generating section 11 to start production of a PN pattern or allows a frame pattern expected value register 13 to start an output of a frame pattern.例文帳に追加

受信パターンＰ１０と検出パターンとの一致が検出されてトリガ信号Ｔｒが出力された時点で、ＰＮパターン生成部１１からＰＮパターンの発生を開始させ、又は、フレームパターン期待値レジスタ１３からフレームパターンの出力を開始させる。 - 特許庁

A normalized correlation value xq between a letter to be discriminated pattern and its vertical inversion pattern, a normalized correlation value yq between the letter to be discriminated pattern and its horizontal inversion pattern, and a normalized correlation value zq between the letter to be discriminated pattern and its point symmetrical pattern are calculated.例文帳に追加

判別対象文字パターンとその上下反転パターンとの正規化相関値ｘｑ、判別対象文字パターンとその左右反転パターンとの正規化相関値ｙｑ、判別対象文字パターンとその点対称パターンとの正規化相関値ｚｑを算出する。 - 特許庁

GRANULAR-PATTERN MEASURING APPARATUS AND GRANULAR- PATTERN EVALUATION METHOD AS WELL AS COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH RECORDED GRANULAR-PATTERN MEASURING PROGRAM OR RECORDED GRANULAR-PATTERN EVALUATION PROGRAM AS WELL AS GRANULAR-PATTERN EVALUATION APPARATUS USING GRANULAR-PATTERN EVALUATION METHOD例文帳に追加

粒状模様測定装置及び粒状模様評価方法、並びに粒状模様測定プログラム若しくは粒状模様評価プログラムを記録したコンピュ—タ読み取り可能な記録媒体、並びに粒状模様評価方法を用いた塗装条件設定方法 - 特許庁

A pattern coincidence detection section 10 stores a particular pattern partly included in patterns as a detected pattern by each kind of the patterns used to measure a bit error rate and detects coincidence / dissidence between a received pattern P10 and the detected pattern in response to the received pattern.例文帳に追加

パターン一致検出部１０は、符号誤り率を測定するために用いるパターンの種類毎に、その一部として含まれる特定のパターンを検出パターンとして記憶し、受信パターンＰ１０と、このパターンに応じた検出パターンとの一致不一致を検出する。 - 特許庁

When a correction mask pattern has the required size, no pattern remains after the computer micrographics-macrographics of the difference graphic pattern, and when the correction mask pattern is larger, a pattern remains after the computer micrographics-macrographics of the difference graphic pattern, accordingly inappropriate correction can be detected.例文帳に追加

補正マスクパターンが所望サイズであれば、差分図形パターンを縮小−拡大処理するとパターンが残らず、補正マスクパターンが大きい場合には、差分図形パターンに縮小−拡大処理するとパターンが残るため、不適切な補正を検出可能である。 - 特許庁

A replacement pattern detecting part 53 detects an individual conversion code pattern generated by converting a second data pattern made to corresponded to a second code pattern in a second table to code patterns individually from a code pattern converted by the RLL conversion pattern processing part 51.例文帳に追加

置換パターン検出部53は、RLL変換パターン処理部51により変換された符号パターンから、第２のテーブルにおいて第２の符号パターンに対応付けられている第２のデータパターンを個別に符号パターンに変換して生成される個別変換符号パターンを検出する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device, in which a photoresist pattern of a line pattern is formed, and by using a resist flow process, a further finer line pattern can be formed, wherein the photoresist pattern of the line pattern is formed by overlapping a plurality of contact hole patterns on a line.例文帳に追加

本発明は、複数のコンタクトホールパターンが重なりながら一列に形成されたラインパターンのフォトレジストパターンを形成することにより、レジストフロー工程時にさらに微細なラインパターンを形成することができる半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

INSPECTION METHOD FOR CONTOUR PATTERN AND ITS DEVICE例文帳に追加

輪郭パターン検査方法およびその装置 - 特許庁

CIRCUIT PATTERN INSPECTION DEVICE AND INSPECTION METHOD例文帳に追加

回路パターン検査装置および検査方法 - 特許庁

WIRING PATTERN INSPECTION DEVICE AND INSPECTION METHOD例文帳に追加

配線パターン検査装置および検査方法 - 特許庁

VENEER WITH GRAIN PATTERN AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

木目模様単板及びその製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING PATTERN AND SUBSTRATE TREATING DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法、及び基板処理装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR EXTRACTION OF VERIFICATION PATTERN例文帳に追加

検証パターン抽出装置とその方法 - 特許庁

FIELD PATTERN IDENTIFICATION DEVICE AND EDIT DEVICE例文帳に追加

フィールドパターン識別装置及び編集装置 - 特許庁

PATTERNING METHOD AND PATTERN FORMING SUBSTRATE例文帳に追加

パターン形成方法およびパターン形成基板 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR FINDING TIME-SERIES PATTERN例文帳に追加

時系列パターン発見装置及び方法 - 特許庁

ELASTIC WARP KNIT HAVING UNEVEN PATTERN例文帳に追加

凹凸模様を有する伸縮性経編地 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN FORMATION SUBSTRATE例文帳に追加

導電パターン形成基板の製造方法 - 特許庁

OPTICAL MODULATOR HAVING PATTERN IMPROVED IN DEFINITION例文帳に追加

高精細化パターンを有する光変調器 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING METHOD AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

微細パターン形成方法及び露光装置 - 特許庁

PATTERN EXPOSURE METHOD AND APPARATUS FOR COLOR FILTER例文帳に追加

カラーフィルタのパターン露光方法及び装置 - 特許庁

PATTERN REGONITION METHOD AND CLAMP THEREFOR例文帳に追加

パターンの認識方法及びこのためのクランプ - 特許庁

MOLDING METHOD FOR RESIN MOLDED BODY WITH PATTERN例文帳に追加

模様付樹脂成形体の成形方法 - 特許庁

PLATING PATTERN MEMBER, AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MATERIAL例文帳に追加

めっきパターン部材及び電磁波シールド材 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING METAL FILM PATTERN FORMING BODY例文帳に追加

金属膜パターン形成体の製造方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR AUTOMATIC PATTERN DETECTION例文帳に追加

パターン自動検出方法及びその装置 - 特許庁

Measurements of the perimeter of the resist pattern is obtained.例文帳に追加

レジストパターンの周囲長を測定値する。 - 特許庁