「patterning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The patterning process includes a first etching process for etching the processed film in a first etching condition and a second etching process for etching further the processed film in a second etching condition different from the first etching condition.例文帳に追加

このパターニング工程は、第１のエッチング条件で前記被処理膜のエッチングを行なう第１エッチング工程、および、第１のエッチング条件とは異なる第２エッチング条件で前記被処理膜のエッチングを更に行なう第２エッチング工程を含む。 - 特許庁

In the patterning method of impurity doped indium oxide thin film, the patterning method includes: a process for etching the impurity doped indium oxide thin film in a dry etching method; and a process for etching the impurity doping indium oxide thin film, which was subjected to the dry etching method, in a wet etching method.例文帳に追加

不純物ドープ酸化インジウム薄膜のパターニング方法において、ドライエッチング法により該不純物ドープ酸化インジウム薄膜のエッチングを行う工程と、ウェットエッチング法により前記ドライエッチング法を行った不純物ドープ酸化インジウム薄膜のエッチングを行う工程とを行うパターニング方法を用いる。 - 特許庁

To provide a semiconductor element having an arrangement structure capable of high density patterning with ultra-fine width and interval by utilizing a pattern of expressible size in a resolution limit of a photolithographic process, and to provide a patterning method of the semiconductor element.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程の解像限界内で、具現可能なサイズのパターンを利用して超微細な幅及び間隔を持つ高密度パターンを形成できる配置構造を持つ半導体素子及びその半導体素子パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the contact pin for the electrical test, which is characterized by being made of porus metal, is desired to have metal coating process for providing a metal coating on a substrate, resist layer forming process, patterning process, porus metal filling process, resist layer removing process and porus metal removing process.例文帳に追加

多孔質金属からなることを特徴とする電気テスト用コンタクトピンであり、その製造方法としては、基板上に金属被覆膜を設ける金属被覆工程、レジスト層形成工程、パターニング工程、多孔質金属充填工程、レジスト層除去工程、多孔質金属部分離工程を有することを特徴とする電気テスト用コンタクトピンの製造方法が好ましい。 - 特許庁

This strain sensor is manufactured by a patterning process for forming a pattern having a beltlike aperture surrounding a predetermined point in one surface of the substrate, and a process for etching the substrate along the beltlike aperture by a predetermined amount after this patterning process, and integrally forming the diaphragm copying the outline of the beltlike aperture and the needlelike projection supported at the center of the diaphragm on the substrate.例文帳に追加

この歪センサは、基板の一面に、所定の点を取り囲む帯状の窓を設けたパターンを形成するパターニング工程と、このパターニング工程の後に帯状窓に沿って基板を所定量エッチングし、基板に帯状の窓の外形に倣ったダイアフラムとダイアフラムの中央に支持された針状突起とを一体に形成する工程によって製造される。 - 特許庁

A process of manufacture of an organic EL display device simultaneously performs patterning of a cathode 4 and transferring of a light emitting layer 5 by a transferring method using a laser beam, simplifies the process and improves display performance.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置の製造方法において、レーザー光を用いる転写法により、陰極のパターニングと発光層の転写を同時に行い、プロセスの簡略化と表示性能の向上を実現した。 - 特許庁

Since the alignment marks can be easily identified in contact with a resin for patterning in an imprint process, the alignment between the template and the substrate for imprint can be easily achieved and an imprint process for a large area is enabled.例文帳に追加

これにより、インプリント工程時にパターン用レジンとのコンタクト識別が容易であるので、テンプレートとインプリント用基板との間の整列を容易に合わせることができ、大面積のインプリント工程が可能である。 - 特許庁

To perform patterning by wet etching with a high aspect ratio even on a thick metal plate in a process for producing a circuit board, a process for producing a power module substrate, the circuit board, and the power module substrate.例文帳に追加

回路基板の製造方法及びパワーモジュール用基板の製造方法並びに回路基板及びパワーモジュール用基板において、厚い金属板でも高アスペクト比でウェットエッチングによりパターン形成を行うこと。 - 特許庁

Therefore, an expensive circuit board, which was necessary in a conventional apparatus, is not necessary, and a process for patterning the wiring pattern and a process for connecting the external terminals to the wiring pattern are not necessary when the apparatus is manufactured.例文帳に追加

したがって、従来装置で必要とされた高価な回路基板が不要であり、しかも、装置を製造する際に、配線パターンをパターニングする工程、および、外部端子を配線パターンに接続する工程が不要である。 - 特許庁

To provide a TFT array substrate in which a process is simplified by directly exposing and patterning a protective film without using a photoresist, and the unit price of the process is reduced, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

フォトレジストを用いることなく保護膜を直接露光及びパターニングすることによって工程を簡素化し工程単価を節減することができるＴＦＴアレイ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflectively backed photosensitive element which reduces small defects, enhances production yield in patterning process and in subsequent process of the reflectively backed photosensitive resin layer, and improves reliability of parts.例文帳に追加

微小欠陥を低減させ、反射下地感光性樹脂層のパターニング工程やその後工程での製造歩留りを向上させ、部品の信頼性を向上することができる反射下地感光性エレメントを提供する。 - 特許庁

There are provided a process of forming a film of the piezoelectric precursor on a lower electrode, a process of patterning the piezoelectric precursor film into a predetermined shape, a process of obtaining a piezoelectric film by crystallizing the patterned piezoelectric precursor film, and a process of forming an upper electrode onto the piezoelectric film.例文帳に追加

下部電極上に圧電体前駆体膜を成膜する工程と、前記圧電体前駆体膜を所定の形状にパターニングする工程と、前記パターニングされた圧電体前駆体膜を結晶化させ圧電体膜を得る工程と、前記圧電体膜上に上部電極を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The method for forming a reticle includes a process of providing a reticle blank having a quartz layer, attenuation phase change layer and metal layer, a process of coating the reticle blank with a resist, a process of patterning the resist into a plurality of levels, and a process of etching the reticle blank in accordance with the multilevel resist pattern.例文帳に追加

本発明のレチクル形成方法は、石英層、減衰位相変化層および金属層を有するレチクルブランクを提供する工程と、該レチクルブランクをレジストで覆う工程と、該レジストを複数レベルにパターンニングする工程と、該マルチレベルレジストパターンに従って該レチクルブランクをエッチングする工程とを包含する。 - 特許庁

An exposure process for patterning for making the area of the SiO_2 film to be polished by CMP uniform and exposure for patterning for imparting step-difference to an alignment mark are covered by the same exposure, thereby reducing the number of times of exposure processing to two.例文帳に追加

あるいは、ＣＭＰで研磨するＳｉＯ_2膜の面積を揃えることを目的としたパターニングのための露光工程と、アライメントマークに段差を持たせることを目的としたパターニングのための露光を同一露光で賄うことで、露光工程の回数を２回に低減する。 - 特許庁

In the liquid crystal display device and the method for fabricating the liquid crystal display device, the number of mask further can be reduced by forming an active pattern and a storage electrode with a single mask process and also by patterning a pixel electrode, too simultaneously upon the patterning of a gate line.例文帳に追加

アクティブパターンとストレージ電極を１回のマスク工程で形成することによって、また、ゲート配線のパターニング時に画素電極をも同時にパターニングすることによって、マスク数をさらに減少させた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A process from the deposition of a substrate-protecting layer to the deposition of a gate-writing layer is performed in a state of being isolated from an atmosphere outside a device, and thereafter, the patterning of the gate wiring, the crystallization of the semiconductor layer and the patterning of a gate-insulating film and the semiconductor layer are performed.例文帳に追加

下地保護層堆積工程からゲート配線層堆積工程までを装置外の雰囲気から隔離した状態で連続して行い、その後に、ゲート配線のパターニング、半導体層の結晶化、ゲート絶縁膜、半導体層のパターニングを行う。 - 特許庁

An interlayer insulating layer 60 is formed and a 2nd patterning process is performed to define a source/drain contact hole 66, a data line contact hole 68, and a terminal contact hole 65.例文帳に追加

層間絶縁層６０が形成され、第２パターン化プロセスが実行されてソース／ドレインコンタクトホール６６、データ線コンタクトホール６８、及びターミナルコンタクトホール６５が画定される。 - 特許庁

Then, in the second process, concurrently with patterning of the barrier rib forming material layer 120, a positioning mark 113 is formed by a surface treatment of the rear substrate 103.例文帳に追加

そして、第２工程において、隔壁形成材料層１２０のパターニングと同時に、背面基板１０３の表面を加工して位置合わせマーク１１３を形成する。 - 特許庁

In the inkjet recording process, dots are formed by ink droplets for which the volume of one ink droplet impacted onto the recording surface 72 is equal to or more than 45pl, and patterning is performed.例文帳に追加

インクジェット記録工程では、記録面７２に着弾する一滴のインク滴の体積が４５ｐｌ以上のインク滴によって、ドットが形成されて模様付けされる。 - 特許庁

To provide a device and method for manufacturing display plate, permitting to carry out patterning of a thin film with efficiency and high accuracy without using a photo etching process.例文帳に追加

本発明は、写真エッチング工程を使用せずに効率的でかつ、高精度に薄膜をパターニングできる表示板の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

As a result, there is no need to conduct masking which avoids the exposed region of the high heavily-doped layer 30a, when patterning in a device forming process is performed.例文帳に追加

この結果、デバイス作製工程のパターン付けをする際は、この従来の高濃度不純物層３０ａの露出した領域を避けてマスキングする必要がない。 - 特許庁

To provide a highly practicable patterning process capable of forming a further finer pattern simply and efficiently and applicable to semiconductor manufacturing.例文帳に追加

より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であり、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

When patterning the zinc oxide-based transparent conductive film by etching, the zinc oxide-based transparent conductive film is treated with water before the etching process.例文帳に追加

酸化亜鉛系透明導電膜をエッチングによりパターニングするに際し、エッチング工程より前に酸化亜鉛系透明導電膜を水で処理することを特徴とする。 - 特許庁

The interval between color filter materials is set so as to eliminate any gap after fusion when patterning by considering the amount of fusion at thermal process and the characteristics of color filter material.例文帳に追加

パターンニング時に、カラーフィルタ材料間の間隔は、カラーフィルタ材料の特性や熱処理時の溶融量を考慮して、溶融後に隙間がなくなるような間隔に設定する。 - 特許庁

An STI element isolation layer 2 is formed on a semiconductor substrate 1, a gate oxide film 3 and a conductive film 4 are formed (a), the resulting laminate is subjected to a patterning process to form a gate electrode 5.例文帳に追加

半導体基板１上にＳＴＩ素子分離２を形成し、ゲート酸化膜３と導電膜４とを形成し（ａ）、これらをパターニングしてゲート電極５を形成する。 - 特許庁

To provide a system and method which measure a different interlayer overlay in a semiconductor manufacturing technology such as double patterning process and the like by the use of an imaged device pattern.例文帳に追加

撮像されたデバイス・パターンを使用して、ダブル・パターニング・プロセス等の、半導体製造技術における異なる層間のオーバレイを測定するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

Further, by patterning the guide groove 5 and the optical waveguide 6 with the same process, the core adjusting between the optical fiber F and the optical waveguide 6 becomes easy, and is performed precisely.例文帳に追加

また、ガイド溝と光導波路とを同じ工程でパターニングすることで光ファイバと光導波路との調芯を容易に、かつ精度良く行うことができる。 - 特許庁

When embossing and lifting off are used as the patterning method of a flexible substrate provided in a PIRM module, the manufacturing process of the module can be simplified remarkably.例文帳に追加

モジュール内のフレキシブル基板のためのパターニング方法として、エンボスおよびリフトオフを用いることにより、ＰＩＲＭモジュールの製造工程を著しく簡単にすることができる。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film, a base material with the transparent conductive film, an organic electroluminescent element using the same and a manufacturing method thereof, in which a patterning process is simply performed.例文帳に追加

透明導電膜、透明導電膜付き基材、及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、並びにその製造方法において、パターニング処理を簡易に行う。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film by a CVD method which makes a large-scale evacuation device or a neutralization device unnecessary and which does not required a patterning process after forming a thin film.例文帳に追加

大掛かりな真空排気装置や無害化処理装置が不要であり、薄膜形成後のパターニング工程が不要な、ＣＶＤ法による薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method with which it becomes possible to precisely and simply inspect the quality of a process for patterning a photosensitive resin film using a semiconductor lithography technique.例文帳に追加

半導体リソグラフィ技術を用いて感光性樹脂膜をパターニングする工程の良否を正確且つ簡易に検査することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which ensures small line edge roughness, high sensitivity, high throughput and small substrate dependence of a pattern, and to provide a patterning process using the negative resist composition.例文帳に追加

ラインエッジラフネスが小さく、また、高感度でスループットの高い、更に、パターンの基板依存性の小さなネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To form a device pattern of uniform thickness on a substrate while reducing the production process and production cost in a device patterning method employing a liquid ejection head.例文帳に追加

液体吐出ヘッドを用いたデバイスパターン形成方法において、製造工程および製造コストを抑えつつ、基板上に均一な膜厚のデバイスパターンを形成可能にする。 - 特許庁

A projection formed in a patterning process of an insulating film and an electrode metal layer formed on the projection are provided to obtain electric conduction between an electrode metal and driving IC bumps.例文帳に追加

絶縁膜のパターニングプロセスで形成させた突起と、突起上に成膜された電極メタル層を備えることにより、電極メタルと駆動ＩＣバンプの電気導通を取る。 - 特許庁

In addition, a lift-off method without requiring an etching process for patterning a source electrode and a drain electrode of the pixel part, and source wiring extending in the terminal part is employed.例文帳に追加

さらには、画素部のソース電極及びドレイン電極と端子部に延在するソース配線のパターニングにエッチング工程を必要としないリフトオフ方法を採用する。 - 特許庁

By the processing using the ultrasonic wave in a liquid, the plastic deformation does not occur on the plate and the patterning of the adhesive is efficiently carried out by a batch process.例文帳に追加

この液中超音波による処理では、プレートに塑性変形を生じさせず、しかもバッチ処理により効率良く接着剤のパターニングを行うことができる。 - 特許庁

The method of manufacturing the fine pattern of the semiconductor device using a double exposure patterning process capable of forming a secondary photoresist pattern by simple exposure without using an exposure mask is disclosed.例文帳に追加

露光マスクなしに単純露光により２次フォトレジストパターンを形成可能な二重露光パターニング工程を用いた半導体素子の微細パターン形成方法が開示される。 - 特許庁

The method also includes developing design and/or guidelines for splitting a pattern to be processed using the multiple patterning lithographic process based on the evaluation.例文帳に追加

方法は、前記評価に基づいて多重パターニングリソグラフプロセスを用いて処理すべきパターンを分割するための設計及び／又は分割指針を導出することを含む。 - 特許庁

In addition, the manufacturing process of a digital circuit can be remarkably simplified when embossing lithography is used as the patterning method used on the flexible substrate.例文帳に追加

さらに、フレキシブル基板上で用いられるパターニング方法として、エンボス加工リソグラフィを用いることにより、デジタル回路の製造工程を著しく簡単にすることができる。 - 特許庁

To conduct patterning using reticles for satisfying forming accuracy of resist mask in the semiconductor device manufacturing process without dependence on the absolute accuracy evaluation of reticles.例文帳に追加

レチクルの絶対精度評価に依存することなく、半導体装置の製造工程におけるレジストマスクの形成精度を満足するレチクルを用いてパターニングを行う。 - 特許庁

To improve uniformity within a wafer surface in the size of circuit pattern obtained in the trimming process of a photoresist mask formed with a double patterning technology using a freezing method.例文帳に追加

フリージング法を用いたダブルパターニング技術により形成されたフォトレジストマスクのトリミング工程において、得られる回路パターン寸法のウエハ面内の均一性を改善する。 - 特許庁

A clear photoresist pattern is formed by using the photoresist composition to improve the reliability of patterning of a lower film, whereby the reliability of a manufacturing process can be improved.例文帳に追加

これによって、鮮明なフォトレジストパターンを形成して、下部膜のパターニングの信頼性を向上させることにより、製造工程の信頼性を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a sandblasting device to make patterning of a barrier of a plasma display panel whereby its base board is prevented from being ill influenced in the quality by the static electricity generated during the sandblasting process.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの障壁をサンドブラスト法によりパターニングするに際し、サンドブラスト加工時に生じる静電気により基板品質に悪影響を与えないようにする。 - 特許庁

To achieve both the suppression of scum generation in an opening of a positive photosensitive resin composition and improvement of sensitivity in exposure, in a process of patterning the positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物パターニング工程において、ポジ型感光性樹脂組成物開口部のスカム発生の抑制と感度を両立することにある。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming process of applying the above resist pattern thickening material to cover the surface of a resist pattern after the resist pattern is formed on the objective surface to be worked; and a patterning process of patterning the surface to be worked by etching by using the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

被加工表面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁