「patterning process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a circuit board wherein a patterning process is unnecessary, productivity is high and circuit formation is enabled with fine pattern.例文帳に追加

パターンニング工程を必要とすることなく生産性高く、しかもファインパターンで回路形成をすることができる回路基板を提供する。 - 特許庁

To reduce manufacturing cost by attaining simplification of process in an organic EL display panel having an electrode to which patterning has been carried out.例文帳に追加

パターニングされた電極を有する有機ＥＬ表示パネルにおいて、工程の簡略化を達成して製造コストの低減を図る。 - 特許庁

A patterning part fills a template pattern with the resist on the substrate, and the resist is cured, and after that, a release process is performed.例文帳に追加

また、パターニング部は、テンプレートパターンに前記基板上のレジストを充填させて前記レジストを硬化させ、その後、離型処理を行なう。 - 特許庁

To provide a semiconductor element in which the electrical characteristics of patterns formed by a double patterning process can be controlled, and also to provide a method of controlling the patterns.例文帳に追加

ダブルパターニングされたパターンの電気的特性をコントロール可能な半導体素子及びそのパターンコントロール方法を提供する。 - 特許庁

To finally and stably form a pattern in the desired size on a wafer in the pattern forming process performing patterning a plurality of times.例文帳に追加

複数回のパターニングを行うパターン形成処理において、ウェハ上に最終的に所望の寸法のパターンを安定的に形成する。 - 特許庁

The process simultaneously performs the patterning of the cathode 4 and the forming of the layer 5 by using a laser 9.例文帳に追加

本発明では、転写法を用いることにより、陰極４のパターニングと発光層５の形成をレーザー９を用いて同時に行う。 - 特許庁

To realize patterning of high accuracy while reducing the cost and time required for the entire process, and selectively depositing particles in the nano-order.例文帳に追加

プロセス全体に要するコストや時間を軽減させ、微粒子をナノオーダで選択的に堆積させつつ、高精度なパターニングを実現する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which a fine resist pattern with excellent lithography properties can be formed in a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニングプロセスにおいて、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film which does not erode a supplemental electrode when patterning, disusing a complicated patterning process like photolithographic etching, and a manufacturing method of the same, and to provide an electroluminescent element using the same.例文帳に追加

フォトリソ・エッチングなどの複雑なパターニング工程が不要であり、また、パターニング時に補助電極を侵食しない透明導電性フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a reflective mask blank and a process for producing a reflective mask in which displacement of the mask caused by flatness of the patterning surface of a mask is prevented when a pattern is transferred.例文帳に追加

マスクのパターン形成面のフラットネスに起因するパターン転写時の位置ずれを防止することができる反射型マスクブランクおよび反射型マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide for forming a fine pattern of a semiconductor device utilizing a double patterning process, which achieves a contact hole pattern of a fine pitch exceeding the resolution limit in a photolithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程での解像限界を超える微細ピッチのコンタクトホールパターンを実現可能な、ダブルパターニング工程を利用する半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate the need to control synchronization with a process of punching metal foil since patterning is unnecessary in a bonding process when a conductive member for a contactless type data carrier such as a wireless tag is manufactured.例文帳に追加

無線タグ等の非接触型データキャリア用導電部材を製造する際、接着工程でパターンニングが不要のため、金属箔の打ち抜き工程との同期制御を不要とする。 - 特許庁

To make the pattern widths of an isolated process pattern and a dense process pattern, obtained by trimming a resist mask comprising the isolated resist pattern and dense resist pattern and then patterning a layer to be processed, to agree with each other.例文帳に追加

孤立レジストパターンと密集レジストパターンを含むレジストマスクをトリミングし、被加工層をパターニングして得られる孤立加工パターンと密集加工パターンのパターン幅を一致させる。 - 特許庁

The manufacturing method of an element contains a plurality of patterning processes patterning a layer structuring an element on a flexible board 10 as well as forming alignment marks 16, 26 simultaneously, and further, a process patterning another layer selecting an alignment mark formed in some process in the above plurality of patterning processes based on the selected alignment mark when another layer structuring the element is patterned.例文帳に追加

可撓性基板１０上に素子を構成する層をパターニングすると同時にアライメントマーク１６，２６を形成するパターニング工程を複数回含み、さらに、前記素子を構成する別の層をパターニングするときに、前記複数回のパターニング工程において形成したアライメントマークのうち、いずれかの工程で形成したアライメントマークを選択し、該選択したアライメントマークに基づいて前記別の層のパターニングを行う工程を含むことを特徴とする素子の製造方法。 - 特許庁

The process of forming the bank B has a process of forming a plurality of layers B1, B2 made of an inorganic material, a process of patterning these plurality of layers B1, B2 by using an organic mask R and a process of removing the organic mask R.例文帳に追加

本発明においては、バンクＢの形成工程は、無機質の材料からなる層Ｂ１，Ｂ２を複数層形成する工程と、これら複数の層Ｂ１，Ｂ２を有機マスクＲを用いてパターニングする工程と、有機マスクＲを除去する工程とを有する。 - 特許庁

A method of manufacturing the multilayer wiring board has a process of forming an insulating layer 5 on a base on which bumps 4 for interlayer connection are formed, a process of sandwiching the base with stainless plates 22 and thermocompression-bonding the copper foil 3 onto the insulating layer 5, and a process of patterning the copper foil 3.例文帳に追加

層間接続のためのバンプが形成された基材上に絶縁層を形成する工程と、ステンレス板で挟み込み絶縁層上に銅箔を熱圧着する工程と、銅箔をパターニングする工程とを有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which prevents the corrosion of a metal wiring during an ITO (indium tin oxide) wet etching process and conducts in-plane uniform patterning of ITO.例文帳に追加

ＩＴＯウエットエッチング処理時の金属配線腐食を防止し、かつ面内均一なＩＴＯパターニングを行う製造方法を提供する。 - 特許庁

To avoid erosion by a chemical liquid in a patterning process in a semitransmission type liquid crystal display and to prevent disconnection due to corrosion of a terminal.例文帳に追加

半透過型の液晶表示装置において、パターニング工程での薬液の浸食を受けにくくし、端子の腐食による断線を防止する。 - 特許庁

The conductive layer is subjected to a patterning process to form a second gate electrode 25 having a second work function value different from the first work function value.例文帳に追加

導電層（１８）にパターニングを行い、第１仕事関数値とは異なる第２仕事関数値を有する第２ゲート電極（２５）を形成する。 - 特許庁

Therefore, an etching mask is formed, and etching can be carried out, without the use of a patterning process by a lithography technique.例文帳に追加

そのため、リソグラフィ技術によるパターニング処理を必要とせずにエッチングマスクの形成、エッチングを行うことが出来ることを特徴としている。 - 特許庁

A 3rd patterning process is performed to form a thin-film transistor 1, a scanning line 2, a data line 4, a terminal contact 4, and a pixel electrode 5.例文帳に追加

第３パターン化プロセスが実行されて薄膜トランジスタ１、走査線２、データ線３、ターミナルコンタクト４及び画素電極５が形成される。 - 特許庁

In the method for patterning a semiconductor element, a fine pattern is formed according to a BLR (bi-layer resist) process using the negative resist composition.例文帳に追加

本発明の半導体素子のパターン形成方法では、ネガティブ型レジスト組成物を使用してＢＬＲ工程によって微細パターンを形成する。 - 特許庁

The time until start of the second patterning from the end of the flat film forming process is controlled to be constant among the wafers.例文帳に追加

このときの平坦化膜の形成処理の終了から２回目のパターニングの開始までの時間がウェハ間で一定になるように管理される。 - 特許庁

The SAP is included in a mask layout for efficient self-alignment of various sub-layouts of a target pattern in a multi-patterning lithography process.例文帳に追加

ＳＡＰは、マルチパターニングリソグラフィ工程中のターゲットパターンの様々なサブレイアウトの効率的なセルフアライメントのためにマスクレイアウト内に含まれる。 - 特許庁

The method comprises the step of supplying a cleaning plasma for removing the coating material from the patterning device by means of a plasma etching process.例文帳に追加

この方法は、パターニングデバイスからコーティング材料をプラズマエッチング処理により除去するための洗浄プラズマを供給する工程を含む。 - 特許庁

To provide a self-align patterning method for forming patterns capable of forming fine pitch patterns by overcoming the resolution limit of a photolithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程での解像限界を克服し微細ピッチのパターンを実現可能なパターン形成のためのセルフアラインパターニング方法を提供する。 - 特許庁

By use of the hard mask manufactured by such a process of a two-time exposure and two-time processing, it becomes possible to process a more micro and identical contact hole than patterning by a reticle of a hole-shaped pattern.例文帳に追加

このような二回露光二回加工プロセスにより作製されるハードマスクを用いることで、穴状のパターンのレチクルでパターニングを行うよりも微細でより忠実なコンタクトホールの加工が可能となる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a color conversion filter enabling a precise patterning while simplifying the manufacturing process, and a color filter with color converting function.例文帳に追加

製造工程を簡略化すると同時に、高精細のパターニングを可能とする色変換フィルタの製造方法、ならびに色変換機能付カラーフィルタの提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for enabling a double patterning process in which a substrate is processed by one-time dry etching, and a resist material used therefor.例文帳に追加

１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法及びこれに用いるレジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a method for nano-patterning by incorporating one or more block copolymers and one or more nano-imprinting steps in a fabrication process.例文帳に追加

１つ以上のブロック共重合体および１つ以上のナノインプリントステップを製造プロセスに組込むことによってナノパターン化するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal mask in which patterning superior in handling property and of high precision is enabled in a vacuum vapor deposition process when manufacturing an organic EL element.例文帳に追加

有機ＥＬ素子製造における真空蒸着工程において、取り扱い性の良い且つ高精細パターニングを可能とする金属マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist composition less liable to cause bridges and having small substrate dependency of a pattern thereof, and to provide a patterning process using the same.例文帳に追加

ブリッジが発生しにくく、また、パターンの基板依存性の小さな化学増幅ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a formation of an inversely tapered cross-sectional end portion of a scan line due to alkali formed from peeling liquid and water during a resist-peeling process after patterning of the scan line.例文帳に追加

走査線をパターニング後、レジスト剥離の際、剥離液と水で形成されるアルカリによって走査線の断面端部が逆テーパとなることを防止する。 - 特許庁

A pad oxide film 112 and a silicon nitride film 113 are deposited on a semiconductor substrate 111 and then subjected to a patterning process to make a trench 115 therein.例文帳に追加

半導体基板１１１上にパッド酸化膜１１２及びシリコン窒化膜１１３を堆積し、パターニングを行って溝（トレンチ）１１５を形成する。 - 特許庁

The masking layer is removed and the conductive nitride layer is subjected to a patterning process to form a first gate electrode 23 having a first work function value.例文帳に追加

マスキング層（２０）を除去し、導電性窒化物層（２４）にパターニングを行い、第１仕事関数値を有する第１ゲート電極（２３）を形成する。 - 特許庁

To provide a beam shaping method which offers high energy efficiency in the electrode patterning process of a tin oxide film by a laser beam shaped into a rectangular cross section.例文帳に追加

断面矩形に整形したレーザービームによる酸化錫膜の電極パターン加工において、エネルギ利用効率の高いビーム整形方法を提供する。 - 特許庁

To form an electrode pattern for an organic device in any given shape with high accuracy, without being tied to various hurdles in an electrode patterning process.例文帳に追加

電極パターニング工程に伴う種々の制約に捕われることなく、自由な形状にかつ高精度に有機デバイスの電極パターンを形成する。 - 特許庁

To solve such a problem that a conventional etching process for patterning a thin film with fluid causes defects originating from foreign matters precipitated by a treatment fluid which is projected to the back side.例文帳に追加

薄膜パターンを流体によるエッチング処理工程では、裏面に照射した処理流体により異物が析出し、不良の原因となる。 - 特許庁

To provide a pattering method of an organic EL semiconductor element in which a production process cost for an organic EL semiconductor element is reduced and a highest possible flexibility in a patterning is secured as well.例文帳に追加

有機ＥＬ半導体素子の製造プロセスに係るコストを低減し、同時にパターニングにおいてできるだけ高いフレキシビリティを保証する。 - 特許庁

To provide a barrier film with a transparent electrode which decreases damages of a barrier layer in a post process such as patterning of the transparent and hardly causes deterioration in the barrier property.例文帳に追加

透明電極のパターニング等の後加工におけるバリア層のダメージを軽減させ、バリア劣化の少ない透明電極付きバリアフィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film laminate which can provide a thin EL light-emitting element that does not have deterioration in printing precision and has a good yield in the patterning process of the emitter.例文帳に追加

発光体パターニング工程で、印刷精度が低下せず歩留まり良好で、薄型ＥＬ発光素子を提供できる透明導電フィルム積層体。 - 特許庁

To provide an etching method and an etching process device which obtain a patterning shape which is more uniform and does not have variations due to locations on a substrate.例文帳に追加

基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of a substrate is a method comprises a patterning process wherein a semiconductor substrate 1 on an insulating layer 4 formed with a recessed part 7 is polished and the substrate 1 is left only in the recessed part 7.例文帳に追加

凹部７が形成された絶縁層４上の半導体基板１を研磨し、凹部７内にのみ半導体基板１を残すパターニング工程を行う。 - 特許庁

To obtain a process for producing electric wiring in which patterning is carried out efficiently by minimizing adverse effect of etching on a substrate.例文帳に追加

エッチング処理時に基板への悪影響を極力小さくして、効率的にパターン形成を行うことができる電気配線の製造方法を得ることにある。 - 特許庁

To provide an exposure mask blank which prevents an ITO film as a semi-transmitting film from being worn in a process of patterning a light-shielding film.例文帳に追加

遮光膜のパターニングを行う工程に際して、半透過膜であるＩＴＯ膜が損耗することを抑制できる露光マスクブランクを提供する。 - 特許庁