「phase patterns」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The phase shift mask has a substrate and a plurality of phase shift patterns formed on the substrate.例文帳に追加

基板とこの基板に形成される複数の位相シフトパターンとを有する位相シフトマスクを開示する。 - 特許庁

A rotary encoder 1 includes: magnetic resistance patterns SIN+ and SIN- having +a phase and -a phase for detecting A phase; and magnetic resistance patterns COS+ and COS- having +b phase and -b phase for detecting B phase, on a magnetic sensor substrate 32.例文帳に追加

ロータリエンコーダ１は磁気センサ基板３２上にＡ相を検出するための＋ａ相、−ａ相の磁気抵抗パターンＳＩＮ＋、ＳＩＮ−、並びに、Ｂ相を検出するための＋ｂ相、−ｂ相の磁気抵抗パターンＣＯＳ＋、ＣＯＳ−を備える。 - 特許庁

Furthermore, the phase matching circuit electrodes 34 and 35 are formed as spiral patterns.例文帳に追加

さらに、この位相整合回路電極３４，３５をスパイラルパターンとした。 - 特許庁

A phase difference detection part 13 detects a phase difference between the two patterns and detects a position of the magnetic head 2.例文帳に追加

位相差検出部１３は、前記２パターン間の位相差を検出し、磁気ヘッド２の位置を検出する。 - 特許庁

To provide a phase servo control system in which phase servo patterns are surely demodulated even during high speed seek.例文帳に追加

位相サーボ制御方式において、高速シーク時でも位相サーボパターンを確実に復調することにある。 - 特許庁

When data of the mask patterns of a phase shifting mask are drawn up, the pattern data are separated into an actual pattern data layer having data of actual patterns and a phase shifting pattern data layer having data of the phase shifting patterns and the mask patterns are examined to find whether they satisfy the rule of the interval between identical phase patterns in which the phases of light passing through adjacent patterns become identical with each other.例文帳に追加

位相シフトマスクのマスクパターンのデータを作成する際に、前記パターンデータを実パターンのデータを有する実パターンデータ層および前記位相シフトパターンのデータを有する位相シフトパターンデータ層に分離した後、マスクパターンが、互いに隣接するパターンを透過した光の位相が同一となる同位相パターンの間隔の規定を満足するか否かを検証する。 - 特許庁

To correct the dependence on the crude density of line widths depending upon the distances between the patterns of fine processing patterns using a phase shift.例文帳に追加

位相シフトを用いた微細加工パターンのパターン間距離に依存した線幅の疎密依存性を補正する。 - 特許庁

The phase shift unit is composed to form a plurality of phase shift patterns of diffraction grating image, which is reflected on the surface of an object (16) to form a plurality of projection phase shift patterns.例文帳に追加

位相シフトユニットは、回折格子像の複数の位相シフトパターンを形成し、それを物体表面（１６）上に反射して、複数の投影位相シフトパターンを形成するように構成される。 - 特許庁

Thereafter, phase mask patterns are generated, legalized and colored.例文帳に追加

その後で、位相マスク・パターンが生成され、ルール適合化され、さらにカラーリングされる。 - 特許庁

A phase correction means 33 selects a phase correction pattern whose current value [A] is minimum from among remaining phase correction patterns, and sets a phase correction amount [degree] in the phase correction pattern as a phase correction amount to be added to a current phase 18.例文帳に追加

位相補正手段３３は、残った位相補正パターンの中から電流値［Ａ］が最小である位相補正パターンを選択し、その位相補正パターンにおける位相補正量［度］を、電流位相１８に加算する位相補正量として設定する。 - 特許庁

The phase of exposure light transmitting the pair of the 1st patterns 13a, 12b and the auxiliary aperture patterns 12a, 13b and the phase of exposure light transmitting the 2nd patterns 22a, 22b, 23a, 23b are mutually reversed between adjacent patterns.例文帳に追加

第１のパターン対１３ａ、１２ｂ及び補助開口パターン１２ａ、１３ｂを透過する露光光の位相、及び、複数の第２のパターン２２ａ〜ｂ、２３ａ〜ｂを透過する露光光の位相は、隣接するパターンにおいて互いに逆位相である。 - 特許庁

Auxiliary patterns for light shielding of the halftone phase shift mask are formed of organic films.例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクにおいて遮光用補助パターンを有機膜で形成する。 - 特許庁

A line estimation candidate generator 152 generates a candidate signal whose phase is varied by the phase difference between the symbol patterns.例文帳に追加

回線推定候補生成器１５２は、信号の位相をシンボルパターン間の位相差で変化させた候補信号を作成する。 - 特許庁

To form phase shift patterns having good transparency and phase differences with respect to a light source of a short wavelength with good accuracy.例文帳に追加

短波長の光源に対して良好な透明性及び位相差を有する位相シフトパターンを精度良く形成する。 - 特許庁

The second mask patterns 28B have main light transparent patterns 26c1, plural auxiliary light t transparent patterns 26c2 arranged at their circumferences and phase shifters S arranged on the main light transparent patterns 26c1.例文帳に追加

第２のマスクパターン２８Ｂは、主光透過パターン２６ｃ１と、その周囲に配置された複数の補助光透過パターン２６ｃ２と、主光透過パターン２６ｃ１に配置された位相シフタＳとを有している。 - 特許庁

The mask patterns are also examined to find whether they satisfy the rule of the interval between different phase patterns in which the phases of light passing through adjacent patterns become different from each other.例文帳に追加

また、マスクパターンが、互いに隣接するパターンを透過した光の位相が異なる位相となる異位相パターンの間隔の規定を満足するか否かを検証する。 - 特許庁

A plurality of phase change substance patterns are arranged in two dimensions on the insulating film.例文帳に追加

前記絶縁膜の上部に複数の相変移物質パターンが二次元的に配列される。 - 特許庁

To ameliorate the deviation in position and the degradation in contrast in exposure patterns of a Levenson type phase shift mask.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスクの露光パターンに位置ずれ、コントラスト低下の改善を図る。 - 特許庁

A phase shifter is generated for a mask pattern corresponding to the extracted patterns (S3).例文帳に追加

抽出されたパターンに対応するマスクパターンに対して位相シフタを発生させる（Ｓ３）。 - 特許庁

To provide a phase transition memory device capable of minimizing thermal interference phenomenon between mutually adjacent phase transition patterns.例文帳に追加

互いに隣接する相転移パターン間の熱的干渉現象を最小化することができる相転移メモリ素子を提供する。 - 特許庁

The even number of same-shaped conductor patterns are arranged in positions where a phase difference between the first set of conductor patterns 11, 12, 13, 14 and the second set of conductor patterns 21, 22, 23, 24 is brought into λ/2 when conductor patterns are divided evenly into the two sets.例文帳に追加

また、この偶数個の導体パターンは、２組に等分割したときに、１組目の導体パターン１１，１２，２１，２２と２組目の導体パターン１３，１４，２３，２４との位相差がλ／６となる位置に配置される。 - 特許庁

Even if phase deviation is generated due to voltage unbalance, a lost phase can be detected accurately and quickly regardless of the deviation of phase due to noises and voltage unbalance since the patterns of the plurality of sampling values differ from normal patterns.例文帳に追加

電圧不平衡により位相にずれが生じた場合でも、複数のサンプリング値のパターンが正常のパータンと異なるので、ノイズや電圧不平衡による位相のずれに係わらず、精度よく短時間で欠相を検出できる。 - 特許庁

To satisfactorily achieve the correcting of the phase of a reproducing clock even when a dropout is generated in reference patterns for correcting the phase of the reproducing clock.例文帳に追加

再生クロックの位相補正用の参照パターンにドロップアウトが発生しても再生クロックの位相補正を良好に達成すること。 - 特許庁

To change generated noise patterns by phase-adjusting contact of a link of a chain and a sprocket tooth.例文帳に追加

チエーンのリンクとスプロケット歯との接触を位相調整して発生するノイズパターンを変更する。 - 特許庁

A rectangular wave generating portion 56 switches SW patterns for realizing rectangular wave voltages corresponding to different phase values in the order of the phase values.例文帳に追加

矩形波発生部５６は異なる位相値に対応した矩形波電圧を実現するＳＷパターンを、位相値の順序に従って切り替える。 - 特許庁

Each of the phase patterns P1, P2, etc., is formed, in such a way that the phase contrast given in its pitch in the direction y varies nonlinearly.例文帳に追加

それぞれの基準位相パターンＰ1，Ｐ2，...は、ｙ方向においてそのピッチ内で与える位相差が非線形に変化するよう形成されている。 - 特許庁

A phase difference detecting device outputs information on a phase difference of the two detecting object patterns from output information of this rotary encoder.例文帳に追加

位相差検出装置は、このロータリエンコーダの出力情報から上記２つの被検知パターンの位相差に関する情報を出力する。 - 特許庁

Since Ix, Iy, and Iz are all 3-phase balanced currents, the currents of 6 patterns except for 2 patterns set to all positives and all negatives, are outputted.例文帳に追加

Ｉｘ、Ｉｙ、Ｉｚが三相平衡電流であるため、全てが正または全てが負の２パターンを除いた６パターンの電流が出力される。 - 特許庁

To provide a magnetic recording disk which includes track identification function using phase-type servo patterns, and a disk drive.例文帳に追加

位相型サーボパターンを用いるトラック識別を備える磁気記録ディスクおよびディスクドライブを提供する。 - 特許庁

The chronology of the five-phase type in view of these changes, patterns and arrangements was completed. 例文帳に追加

これらの変化と文様やその配置などを勘案した5段階の型式編年ができあがっている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The method of forming a phase change memory device includes a step of preparing a substrate with bottom patterns.例文帳に追加

この相変化記憶素子の形成方法は下部パターンが備えられた基板を準備する工程を含む。 - 特許庁

The phase shift mask 10 is used for a isolated pattern 161 composed of patterns in which the distance between adjacent patterns W1 is 400 nm or more, while the phase shift mask 12 is used for a crowded pattern 162 in which the distance between adjacent patterns W2 is under 400 nm.例文帳に追加

位相シフトマスク１０は隣接パターン間距離Ｗ１が４００ｎｍ以上のパターンからなる孤立パターン１６１用とし、位相シフトマスク１２は隣接パターン間距離Ｗ２が４００ｎｍ未満のパターンからなる密集パターン１６２用としている。 - 特許庁

The conductive patterns 3 are like mesh of ≤50 μm in line width and ≥75% in aperture ratio and is formed by gaseous phase plating or liquid phase plating.例文帳に追加

導電性パターン３は線幅５０μｍ以下で開口率７５％以上のメッシュ状であり、気相メッキ又は液相メッキにより形成される。 - 特許庁

The number of outputs of the cylinder signal discrimination signals Phase, Phase 2 are counted between reference crank angle positions detected as missing of position signals POS to carry out a cylinder discrimination based on combination patterns of the number of the output of the cylinder signal discrimination signals Phase 1, Phase 2.例文帳に追加

そしてし、ポジション信号ＰＯＳの歯抜け位置として検出される基準クランク角位置間で、気筒判別信号Phase1，Phase2の出力数をカウントし、気筒判別信号Phase1，Phase2の出力数の組み合わせパターンから気筒判別を行う。 - 特許庁

The CrAlON film of the phase shift layer of the phase shift mask exhibits a relatively high transmittance to exposure light having a short wavelength and inverts the phase of the exposure light to 180° at a prescribed thickness and is therefore capable of forming photoresist film patterns of fine patterns.例文帳に追加

位相シフトマスクの位相シフト層のＣｒＡｌＯＮ膜は短波長を有する露光光に対して相対的に高透過率を示して所定厚さで露光光の位相を１８０°に反転させるので微細なパターンのフォトレジスト膜パターンが形成できる。 - 特許庁

To eliminate an output amplitude error and a phase error of a phase signal due to dispersion in the parasitic capacitance and the wiring resistance of wiring patterns of the 90-degree phase shifter and a circuit block of the next stage.例文帳に追加

９０°移相器とその次段の回路ブロックとの配線パターンに起因する寄生容量値及び配線抵抗値のバラツキによる位相信号の出力振幅誤差や位相誤差を除去する。 - 特許庁

The method comprises utilizing a stress-assisted rolling process for a microstructure phase film layer to form a microstructure phase film pattern with a plurality of openings and a plurality of phase retarder patterns.例文帳に追加

この方法は、マイクロ構造位相フィルム層に対する応力アシスト圧延プロセスを利用して複数の開口部および複数の位相リターダパターンを備えたマイクロ構造位相フィルムパターンを形成するステップを含む。 - 特許庁

Two layers (not shown) on which wiring patterns similar to the wiring patterns on the surface layer are formed are provided, to have respective ring-shaped patterns to which other two phase and a neutral are connected shifted downward by 30 degrees respectively to compose the multilayer printed board 11.例文帳に追加

図示しないが、表面層と同様の配線パターン，を備えた層が下に３０度ずつずれて２相分と中性点を接続するリング状の配線パターンを備え、多層プリント基板１１を構成している。 - 特許庁

The substrate B, including the phase patterns P1, P2, etc., comprises a transparent resin material or a glass material.例文帳に追加

基板Ｂは、基準位相パターンＰ1，Ｐ2，．．．も含めて透明な樹脂材料、またはガラス材料で形成されている。 - 特許庁

The width of the phase shifter is adjusted based on the distance from the pattern and other patterns near the pattern.例文帳に追加

前記パターンと近接する他のパターンから前記パターンまでの距離に基づいて、位相シフターの幅を調整する。 - 特許庁

The mask pattern of a phase shift mask has a light shielding pattern and first and second transmitting patterns which transmit exposure light.例文帳に追加

位相シフトマスクのマスクパターンを、遮光パターンと、露光光を透過する第１、第２の透過パターンとから構成する。 - 特許庁

The mask formed by forming phase shift patterns on the flat main surface of a transparent plate and coating the ends of the phase shift patterns with light shielding film patterns of a dielectric substance, high resistor or organic material having the reflectivity smaller than the reflectivity of a metallic film of Cr, etc., is used and the mask patterns are transferred by projection exposing to a photosensitive material formed on the surface of a work piece.例文帳に追加

透明板の平坦な主表面に位相シフトパターンを形成し、この位相シフトパターンの端部をＣｒ等の金属膜よりも反射率の小さい誘電体、高抵抗体、又は有機体の遮光膜パターンで被覆したマスクを用いて、被加工物の表面に形成された感光性膜に対してこのマスクパターンを投影露光して転写する。 - 特許庁

In the phase adjusting process, phase shift detection patterns are successively drawn on an intermediate transfer belt 3, and the absolute position information of the pattern detected by a pattern detection sensor is recorded in a memory.例文帳に追加

位相調整行程では、位相ずれ検出パターンを中間転写ベルト３上に順次描き、パターン検知センサによりパターンの絶対位置情報をメモリに記録する。 - 特許庁

The proximate regions around the corners of the opaque mask patterns are evenly divided to the three different phase shift regions 430, 440 and 450 at a phase shift of 120° from each other.例文帳に追加

不透明マスクパターンのコーナー周囲の近接領域は、互いから１２０°の位相シフトで異なる３つの位相シフト領域４３０、４４０，４５０に均等に分割される。 - 特許庁

When patterns 32 comprising a halftone phase shifter film 31 are disposed on a transparent substrate to obtain a mask for exposure, dummy patterns 33 are arranged around patterns (peripheral patterns 32') used for exposure to a relatively thin part of a resist film to be exposed.例文帳に追加

透明基板上にハーフトーン位相シフタ膜３１で構成されたパターン３２を設けてなる露光マスクにおいて、パターン３２のうち、露光対象となるレジスト膜の膜厚が相対的に薄い部分への露光に用いられるパターン（周縁パターン３２’）の周囲に、ダミーパターン３３を配置してなる。 - 特許庁