「phase patterns」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In this device, effect of the remainder of the equalization to the phase control loop can be reduced and suitable phase error detection can be performed and also stable loop control is made possible by controlling an adaptive equalizer so as to changeover weights for every tap coefficient which is updated at all times by the adaptive equalization by the number of synchronous patterns posterior to decoding.例文帳に追加

復号後の同期パターン数によって適応型等化で随時更新されるタップ係数毎の重み付けを切替えるように制御することによって、位相制御ループへの等化残りの影響を軽減でき、好適な位相誤差検出が行えると共に安定なループ制御を可能にする。 - 特許庁

In the step of forming a non-circuitry phase shift alignment region is formed in the manufacture of a phase shift mask, alignment accuracy is measured at least partially by using an aerial image measurement equipment so as to determine the alignment of patterns to be formed in a photoresist applied a substrate before the material is etched to form the non-circuitry phase shift alignment region and while the photoresist is present on the substrate.例文帳に追加

位相シフトマスクの製造において、非回路位相シフトアライメント領域を形成するとき、前記非回路位相シフトアライメント領域を形成するために材料をエッチングする前で、基板上にフォトレジストがあるときに、前記基板上に受け入れられる前記フォトレジストに形成されるパターンのアライメントを決定するために、少なくとも一部空間イメージ測定装置を用いて、アライメント精度を測定する。 - 特許庁

The nonvolatile semiconductor storage device includes a plurality of lower electrodes 11 arranged in a matrix form; a plurality of recording layer patterns 13 provided on the lower electrodes 11 and containing a phase change material; and an interlayer insulation film 12 provided between the lower electrodes 11 and the recording layer patterns 13, and including a plurality of openings 12a for exposing parts of the lower electrodes 11.例文帳に追加

マトリクス状に配置された複数の下部電極１１と、下部電極１１上に設けられ、相変化材料を含む複数の記録層パターン１３と、下部電極１１と記録層パターン１３との間に設けられ、下部電極１１の一部を露出させる複数の開口部１２ａを有する層間絶縁膜１２とを備える。 - 特許庁

The influence of an optical proximity effect is eliminated by utilizing different phase shift masks 10, 12 depending on the distances W1, W2 between the adjacent patterns, and then introducing the optimum exposing condition for the respective distances W1, W2.例文帳に追加

隣接パターン間距離Ｗ１，Ｗ２に応じて異なる位相シフトマスク１０，１２を用い、それぞれの隣接パターン間距離Ｗ１，Ｗ２に最適な露光条件を採ることにより、光近接効果の影響が排除される。 - 特許庁

At this time, group IB metal element powder is added in addition to the solder alloy powder into the flux and Zn is captured after soldering to suppress the growth of a compound layer generated at the boundary with wiring patterns by the solid phase reaction of the Zn.例文帳に追加

その際、フラックス中に、はんだ合金粉末の他にＩＢ族金属元素粉末を添加し、はんだ付け後にＺｎを捕獲し、Ｚｎの固相反応により配線パターンとの界面に生じる化合物層の成長を抑制する。 - 特許庁

A discriminating circuit 21 is supplied with an AC signal which has the same waveform and phase with the AC signal applied from the AC signal generating circuit 19 to the conductor patterns P1, P2... together with the detection signal of the magnetic sensor 15.例文帳に追加

識別回路２１には、磁気センサ１５の検出信号とともに、交流信号発生回路１９から導体パターンＰ１，Ｐ２，…に印加している交流信号と同じ波形及び位相の交流信号が供給される。 - 特許庁

Resistors R1, R2, R3 to adjust the output voltage of a zero phase current transformer 5 are provided in series on a printed board 8, and patterns 11 are formed at both ends of the resistors R1, R3 and between the resistors R1, R2, R3.例文帳に追加

プリント基板８は、零相変流器５の出力電圧９を調整する抵抗Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３を直列に設け、抵抗Ｒ１，Ｒ３の両端及び抵抗Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３間にパターン１１を形成している。 - 特許庁

The storage section 22 stores N number (N is an integer of 2 or more) of correction patterns created corresponding to N number of temperature values of the spatial light modulation element 10 for correcting phase distortion of the spatial light modulation element 10.例文帳に追加

記憶部２２は、空間光変調素子１０の位相歪みを補正するために空間光変調素子１０のＮ個（Ｎは２以上の整数）の温度値に対応して作成されたＮ個の補正用パターンを記憶している。 - 特許庁

To speedily and accurately detect whether a 1st common control channel is available even when various transmission diversity patterns are applied in the case that whether the 1st common control channel is available for a succeeding subframe is detected according to the phase difference between 1st and 2nd known codes for phase difference detection arranged in the same subframe like a TD-SCDMA system.例文帳に追加

ＴＤ−ＳＣＤＭＡ方式のように同一サブフレーム内に配置された第１及び第２の位相差検出用の既知コードの位相差に基づいて、続くサブフレームでの第１共通制御チャネルの有無を検出する際、種々の送信ダイバーシチパターンが適用された場合でも、迅速かつ正確に第１共通制御チャネルの有無を検出すること。 - 特許庁

In each of sinusoidal stripe patterns required for measuring a three-dimensional shape utilizing a phase shift method, a projection pattern in which sinusoidal amplitude A_n is changed for each period is generated and projected to the object M to be measured for imaging.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンの各々において、１周期毎に正弦波の振幅Ａ_ｎを変化させた投影パターンを生成して被計測物Ｍに投影して撮像する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape measurement method and device using a phase shift process, capable of improving the measurement accuracy, using a simple constitution, even in measured bodies having mixed areas with different reflectances due to characters, patterns, or the like, on their surfaces.例文帳に追加

位相シフト法を用いる３次元形状計測方法および装置において、簡単な構成により、表面に文字や柄などによる反射率の異なる領域が混在する被計測物体についても計測精度を向上可能とする。 - 特許庁

To enhance the accuracy of measurement with a simple structure even if an object to be measured where surface regions having different reflectivities due to letters, patterns, etc., coexist, by a three-dimensional shape measuring method and its device using a phase shift method.例文帳に追加

位相シフト法を用いる３次元形状計測方法および装置において、簡単な構成により、表面に文字や柄などによる反射率の異なる領域が混在する被計測物体についても計測精度を向上可能とする。 - 特許庁

By this arrangement, even if the abnormality occurs in the first priority magnetic pole sensor H1, the sustention of the motor control is guaranteed by switching phase-switch patterns according to the output change of the second priority magnetic pole sensor H2 as far as the second preferred magnetic sensor H2 is normal.例文帳に追加

このため、第１優先の磁極センサＨ１に異常が発生しても、第２優先の磁極センサＨ２が正常であれば該磁極センサＨ２の出力変化に応じて相切換パターンを切り換えることで、モータ制御の継続が保証される。 - 特許庁

In the optical disk device, matching between combination of appearing patterns of phase reverse parts included in a wobble period pattern and previously prepared patterns for determination is detected and whether PLL synchronization can be applied is discriminated for a plurality of states according to the degree of matching with the detected pattern for determination and the PLL synchronization is applied by a prescribed procedure according to the state.例文帳に追加

この発明の光ディスク装置は、ウォブル周期パターンに含まれる位相反転部の出現パターンの組み合わせが予め用意されている判定用パターンと一致することを検出し、検出された判定用パターンとの一致の程度に応じて、ＰＬＬ同期が可能か否かを複数のステートに識別し、ステートに応じて、所定の手順でＰＬＬ同期をかけることを特徴とする。 - 特許庁

A filter connected between a transmission input port of the FET switch SW50 and a transmission circuit and a phase-setting means connected between the filter and the transmission input port are obtained, with electrode patterns being formed in the dielectric layers of the laminate 1.例文帳に追加

ＦＥＴスイッチＳＷ５０の送信入力ポートと送信回路との間に接続されるフィルタおよび、該フィルタと送信入力ポートとの間に接続される位相設定手段は、積層体１の各誘電体層に形成された電極パターンにより実現される。 - 特許庁

A part where a diffusion layer 1 of a transistor and a basic pattern OP of a gate pattern overlap with each other is computed, patterns of specific width are formed on both the sides of the overlap part, and both the sides of the pattern are extended to outside the diffusion layer 1 to obtain a pattern P3 of the phase shifter.例文帳に追加

トランジスタの拡散層１とゲートパターンの基本パターンＯＰとの重複部分を算出し、重複部分の両側に所定幅のパターンを生成し、前記パターンの両側を拡散層１外まで延長して、位相シフタのパターンＰ３として生成する。 - 特許庁

The surface of a transparent substrate is provided with colored picture element patterns at least composed of a red picture element pattern, a green picture element pattern and a blue picture element pattern having respectively different retardation, and each colored picture element pattern is respectively provided with a phase difference control layer.例文帳に追加

透明基板上に、それぞれ異なるリタデーションを有する、少なくとも赤色画素パターン、緑色画素パターン、および青色画素パターンからなる着色画素パターンを設け、前記着色画素パターン毎にそれぞれ位相差制御層を設けることにより解決した。 - 特許庁

The jackpot patterns influence the availability of a time/ball-saving game mode, and a seven-segment display part 14 segment-displays either '7' or '-' after the jackpot phase, where the '7' display ensures another time/ball-saving game mode.例文帳に追加

大当たり図柄によって時短モード獲得の有無が決定されるとともに、大当たり後において第２の７セグ表示部１４に「７」又は「−」のいずれかのセグメント表示を行い、「７」が表示されるとさらに時短モードを獲得できるように構成されている。 - 特許庁

The phase shift interferometer comprises: an illumination optical system 200 for emitting P wave and S wave; a collimate lens 110; a reference half mirror 120; a pinhole plate 130 having a pinhole 131; and a phase shift interference pattern acquiring section 300 for making object light included in a luminous flux passing the pinhole 131 interfere with the reference light at four different phases, and for acquiring interference patterns of differential phases.例文帳に追加

Ｐ波とＳ波とを発射する照明光学系２００と、コリメートレンズ１１０と、参照ハーフミラー１２０と、ピンホール１３１を有するピンホールプレート１３０と、ピンホール１３１を通過する光束に含まれる物体光と参照光とを４つの異なる位相で干渉させて異なる位相の干渉縞を得る位相シフト干渉縞取得部３００と、を備える。 - 特許庁

In this manufacturing method, when a group of resist patterns are formed, a first photo mask 1 composed of a phase shift mask is used for exposure by circular illumination, and a second photo mask 6 composed of a chrome mask is used for exposing by oblique incidence deformation illumination, thus allowing accurate transfer in both the patterns to be transferred by the first and second photo masks 1 and 6.例文帳に追加

一群のレジストパターンを形成する際、まず、位相シフトマスクで構成される第１のフォトマスク１を用いて円形照明により露光し、次いでクロムマスクで構成される第２のフォトマスク６を用いて斜入射変形照明により露光することにより、第１のフォトマスク１で転写されるパターンおよび第２のフォトマスク６で転写されるパターンの両者において高精度な転写が可能となる。 - 特許庁

After resist is applied on a substrate, a region where a logic with patterns arranged at random is formed is subjected to a first exposure process, using the interference of light penetrating through slit grooves 3 and 4 located on each side of the line of a pattern provided on a Levenson phase shift mask.例文帳に追加

基盤上にレジストを塗布した後、レベンソン位相シフトマスクに設けられたパターンにおける線幅方向の両側のスリット溝３とスリット溝４とをそれぞれ透過する光の干渉を用いて、ランダムに配置されたパターン形状を有するロジック部の形成領域に対して１回目の露光を行う。 - 特許庁

To obtain a material for bakery capable of reducing the tackiness of a pasty material, simply be formulated in a bakery dough, producing a bakery product good in flavor and having good patterns in the appearance and inner phase and reduced in mutual adhesion of the material during preservation.例文帳に追加

ペースト状素材の粘着性を減じ、ベーカリー生地に簡単に配合することができ、風味良好で外観、内相とも良好な模様を有するベーカリー製品を製造することが可能であり、また保存時の素材の相互付着性を減じた、ベーカリー用素材を提供する。 - 特許庁

A translucent section 101 is formed to shade exposure light on a light transmissive base plate 100 together with a transparent section 102 which is surrounded by the translucent section 101 and passing the exposure light, and auxiliary patterns (phase shifters) 103 provided around the transparent section 102.例文帳に追加

露光光に対して遮光性を有する半遮光部１０１と、半遮光部１０１により囲まれ且つ露光光に対して透光性を有する透光部１０２と、透光部１０２の周辺に位置する補助パターン（位相シフター）１０３とが透過性基板１００上に設けられている。 - 特許庁

A translucent section 101 to shade exposure light is formed on a light transmissive substrate 100 together with a transparent section 102 which is surrounded by the translucent section 101 and passing the exposure light, and auxiliary patterns (phase shifters) 103 provided around the transparent section 102.例文帳に追加

露光光に対して遮光性を有する半遮光部１０１と、半遮光部１０１により囲まれ且つ露光光に対して透光性を有する透光部１０２と、透光部１０２の周辺に位置する補助パターン（位相シフター）１０３とが透過性基板１００上に設けられている。 - 特許庁

To provide a phase shifting mask capable of reducing errors in transfer of patterns due to aberration caused by a difference in transmittance by reducing the difference between the light transmittance of the inside of a larger pattern and that of the outside of the larger pattern.例文帳に追加

他よりも大きなパターンの内側の光の透過率とのその他よりも大きなパターンの外側の光の透過率との差を小さくすることにより、透過率の差によって生じる収差に起因したパターンの転写誤差を小さくすることができる位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

By generating the pulse patterns of a second inverter 15 with correcting reference waves, obtained by dividing sine-wave reference waveforms in a control circuit by a second inverter input voltage waveforms and carrier waves, a high-speed and high-precision output current feedback circuit is made unnecessary in phase response and transfer characteristics.例文帳に追加

制御回路内の正弦波基準波形を第２インバータ入力電圧波形で除算して得た補正基準波と、搬送波とで第２インバータ１５のパルスパターンを生成することにより、位相特性と増幅特性において高速且つ高精度の出力電流フィードバック回路を不要とする - 特許庁

A Rake synthesis section applies Rake synthesis to a channel estimate value and an individual pilot symbol, multiplies complex conjugate values of modulation patterns of respective pilot symbols of antennas 1, 2 to restore a modulation phase and to obtain a Rake synthesis output of signals from the respective antennas.例文帳に追加

Ｒａｋｅ合成部では、チャネル推定値と個別パイロットシンボルをＲａｋｅ合成し、さらにアンテナ１および２それぞれの個別パイロットシンボルの変調パターンの複素共役を乗算することにより変調位相をもどし、それぞれのアンテナからの信号のＲａｋｅ合成出力を得る。 - 特許庁

Rugged shape equivalent to one rotation of the drum is formed at the end of the surface of the drum 100, and correlation is taken between two image patterns obtained by picking up the image of the length equivalent to one cycle of the rugged shape at different time twice so as to detect phase fluctuation within one cycle.例文帳に追加

この感光体ドラム１００の表面端部にドラム１回転分の凹凸形状が施され、異なる２つの時間に凹凸形状の１周期分の長さを撮像した２つの画像パターンについて相互相関をとり、１周期内の位相変動を検出する。 - 特許庁

With respect to the driving pattern, a type A of a fundamental pattern comprising a bit array indicating drive to turn on or off a liquid crystal element per subfield and types B, C, and D of shift patterns resulting from shifting the phase of the bit array of the type A with four subfields as a unit are prepared for one gradation level.例文帳に追加

駆動パターンには、一の階調レベルに対し、サブフィールド毎に液晶素子をオン駆動またはオフ駆動を指示するビット配列からなる基本パターンのタイプＡと、当該タイプＡに対し、サブフィールド数の「４」を単位としてビット配列の位相をシフトさせたシフトパターンのタイプＢ、Ｃ、Ｄとがある。 - 特許庁

Concerning the branching filter device using two surface acoustic wave(SAW) filters having different band center frequencies, a circuit for phase matching for matching the phases of two SAW filters is formed from line patterns, at least one line pattern is formed while being divided over the plural inner layers of a multi-layer package, and the forms of the line patterns formed over adjacent layers are different at least.例文帳に追加

異なる帯域中心周波数を有する２つの弾性表面波フィルタを用いた分波器デバイスにおいて、２つの弾性表面波フィルタ同士の位相を整合させる位相整合用回路が線路パターンで形成され、かつ少なくとも１つの線路パターンが多層パッケージの複数の内層にわたって分割して形成され、少なくとも隣接する層に形成された前記線路パターンの形状が異なっていることを特徴とする。 - 特許庁

An EUV mask 10 includes the substrate 11, a reflective multilayer 12 on the substrate 11, a phase-shifting material 13 disposed above the multilayer in at least one first portion 111 and a masking material 14 disposed above the multilayer in second portions of the substrate and corresponding to mask patterns of the EUV mask.例文帳に追加

ＥＵＶマスク１０は、基板１１と、基板上の反射性多層膜１２と、少なくとも１つの第１部分１１１の範囲内において多層膜上に配置された位相シフト材料１３と、多層膜上で基板の第２部分１１２の範囲内に配置された、ＥＵＶマスクのマスクパターンに対応するマスク材料１４とを備える。 - 特許庁

The visual inspection device 10 calculates a phase of brightness variation corresponding to the second stripe pattern at a measurement point in the inspection object based on brightness at the measurement point in the first projection images and the second projection images, and known relation between the brightness variations corresponding to the respective first and second stripe patterns.例文帳に追加

外観検査装置１０は、第２縞パターンに対応する被検査体の計測点の明るさ変動の位相を、第１投影画像及び第２投影画像における当該計測点の明るさと、第１縞パターン及び第２縞パターンのそれぞれに対応する明るさ変動の既知の関係とに基づいて求める。 - 特許庁

To provides method and device for exposure capable of exposing a pattern, having a fine hole diameter and patterns of rows of contact holes or mixed independent contact holes with the rows of contact holes, with a high degree of resolution (or the degree of resolution equal to L-and-S pattern employing a phase shift mask for the rows of contact holes) without exchanging any mask.例文帳に追加

微細なホール径を持ち、コンタクトホール列のパターン、あるいは孤立コンタクトホールとコンタクトホール列とが混在するパターンを、マスクを交換せずに、高解像度（即ち、コンタクトホール列については位相シフトマスクを用いたＬ＆Ｓパターンと同等の解像度）で露光可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In addition, since the reception signals are transmitted from the base station 1 to the control station 2 as holding relative phase difference and relative intensity of each reception signal, the position of a subscriber is grasped on the side of the control station, and radiation patterns of radio signals to be transmitted from the base station are controlled on the side of the control station.例文帳に追加

また、各受信信号の相対位相差と相対強度を維持したままで、基地局１から制御局２に受信信号を伝送するため、加入者の位置を制御局側で把握することができ、基地局から送信する無線信号の放射パターンを制御局側で制御することが可能になる。 - 特許庁

If a phase shift mask formed with the semipermeable film 12 on a transparent glass substrate 10 is regulated in the thickness of the semipermeable film 12 so as to be made optimum for the pitch of the patterns in fine pattern regions 14, the sub-peaks by adjacent apertures overlap each other in some cases in isolated pattern regions 16.例文帳に追加

透明なガラス基板１０上に半透過膜１２が形成された位相シフトマスクで、微細パターン領域１４におけるパターンのピッチに対して最適となるように半透過膜１２の厚さを調整すると、孤立パターン領域１６において、隣接する開口部によるサブピークが重なり合うことがある。 - 特許庁

To provide an earth leakage circuit breaker enhanced in insulation properties and preventing the malfunction that the earth leakage circuit breaker is tripped by waterdrops making contact with patterns of a zero-phase-current transformer input terminal and of a charged part on a printed circuit board thereby causing them to conduct to each other when water drops intrude into the earth leakage circuit breaker.例文帳に追加

漏電遮断器内に水滴が浸入した際に、プリント基板の零相変流器入力端子部と充電部とのパターン間に水滴が接触して導通することで漏電遮断器がトリップする誤作動を防止すると共に、絶縁性を向上する漏電遮断器を提供する。 - 特許庁

The laser beam source device is provided with at least one laser beam source 1, a mask 2 provided on the optical path of emitted light from the laser beam source 1, having a plurality of irregularly arrayed patterns of a size equal to or more than the wavelength of the laser beam source for shifting the phase of the emitted light from the laser beam source and a driving device 3 rocking the mask 2.例文帳に追加

少なくとも一つのレーザ光源１と、レーザ光源１からの放射光の光路上に設けた、前記レーザ光源からの放射光の位相をずらす不規則配列をした大きさが前記レーザ光源の波長以上である複数のパターンを有するマスク２と、マスク２を揺動させる駆動装置３と、を設ける。 - 特許庁

A light shielding film 5 comprising a resist film and light transmissive patterns 6a formed by partly removing the light shielding film 5 are formed on a main surface of a mask substrate 2, a flat film 8 is formed in such a way as to cover the light shielding film 5, and phase shifters 7a comprising a resist film are further formed on the flat top surface of the flat film 8.例文帳に追加

マスク基板２の主面上に、レジスト膜からなる遮光膜５と、その遮光膜５の一部を開口することにより形成された光透過パターン６ａとを形成し、その遮光膜５を覆うように平坦性膜８を形成し、さらにその平坦性膜８の平坦な上面上にレジスト膜からなる位相シフタ７ａを形成した。 - 特許庁

A part, where phase reversion patterns of a burst part added to a tip of a data symbol of a signal which is to be received by a receiver 10 are equal, is made long.例文帳に追加

受信装置１０が受信する信号のデータシンボルの先頭に付加されたバースト部の位相反転パターンが等しい部分を長くし、具体的には、前半のＸ区間においてＷｉｒｅｌｅｓｓ１３９４の場合のＡ１６，ＩＡ１６，Ａ１６，ＩＡ１６，Ａ１６のパターンをＡ１６，ＩＡ１６，Ａ１６，ＩＡ１６，ＩＡ１６に変更し、さらに、後半のＹ区間においてＷｉｒｅｌｅｓｓ１３９４の場合のＡ１６，ＩＡ１６，Ａ１６，ＩＡ１６，ＩＡ１６と同パターンとして、後半区間のピークに所定長さのフラット部が存在するようにしている。 - 特許庁

This controller diagnoses the faulty section and the state of fault of the inverter 2 and the SRM, based on a winding current detected by winding current sensors 4a-4c and DC power voltage detected by a DC voltage detector 5c, by performing the switching, according to a plurality of switching patterns, for the switching elements of each phase of the inverter 2.例文帳に追加

インバーター２の各相のスイッチング素子に対して複数のスイッチングパターンにしたがってスイッチングを行い、巻線電流センサー４ａ〜４ｃより検出された巻線電流と直流電圧検出部５ｃにより検出された直流電源電圧とに基づいて、インバーター２およびＳＲＭの故障の部位と故障の状態とを診断する。 - 特許庁

The genuineness identifying body S which is formed by laminating a light diffraction structure layer 4 on the under surface of a latent image sheet 5 consisting of ≤2 regions varying in phase differences and having latent image patterns visible through a polarizing plate and further laminating a light reflective layer 6 on the under surface is preferably applied to an adherend 2 through an adhesive layer 3.例文帳に追加

位相差の異なる二以上の領域からなり、偏光板を介して視認可能な潜像パターンを有する潜像シート５の下面に光回折構造層４が積層され、さらに下面に光反射性層６が積層された真正性識別体Ｓが、好ましくは接着剤層３を介して被着体２に適用し、課題を解決した。 - 特許庁

A printed condition inspecting device 1 is provided with a table 2 for mounting a printed circuit board K printed with cream soldering, a lighting system 3 for emitting plural sine-wavelike phase-varying optical component patterns from an upper side orthogonal to a surface of the printed circuit board K, and a CCD camera 4 for imaging reflected light from the board K.例文帳に追加

印刷状態検査装置１は、クリームハンダの印刷されてなるプリント基板Ｋを載置するためのテーブル２と、プリント基板Ｋの表面に対し斜め上方から正弦波状の複数の位相変化する光成分パターンを照射するための照明装置３と、プリント基板Ｋからの反射光を撮像するためのＣＣＤカメラ４とを備えている。 - 特許庁

When forming a correction table used in an image signal conversion part 60, a test image T including a plurality of density patterns output from a test image data generation circuit 64 is repeatedly formed twice at the interval of 1/2 of the circumferential length of a photoreceptor (interval of 180° being the rotational phase difference of the photoreceptor), and read by an image reading part 12.例文帳に追加

画像信号変換部６０で使用する補正テーブルを作成する際は、テスト画像データ発生回路６４から出力された複数の濃度パターンを含むテスト画像Ｔを感光体周囲長の１／２の間隔（感光体の回転位相差１８０度の間隔）を隔て２回繰り返して形成し、これを画像読取部１２に読み取らせる。 - 特許庁

In the optical phase correcting element constituted by holding a liquid crystal layer between a 1st base and a 2nd base which have transparent electrodes inside and are transparent, at least one transparent electrode is constituted in multi-layered electrode structure having different aberration correction patterns laminated and arranged, and a plurality of kinds of aberrations are corrected individually or.例文帳に追加

内側に透明電極を有する透明性の第１の基台と第２の基台とで液晶層を挟持してなる光学位相補正素子において、少なくとも一方の透明電極が、異なる収差補正パターンが積層配置された多層電極構造により構成され、複数種の収差補正を、個別に、または同時に補正することが出来るようにとした。 - 特許庁

A printing state-inspecting apparatus 1 includes a table 2 for loading thereon a printed board K with a solder paste printed, an illumination device 3 for irradiating a plurality of sine wave-shaped light patterns, changing in phase from slantwise above to a surface of the printed board K, and a CCD camera 4 for imaging a reflecting light from the printed board K for each wavelength component.例文帳に追加

印刷状態検査装置１は、クリームハンダの印刷されてなるプリント基板Ｋを載置するためのテーブル２と、プリント基板Ｋの表面に対し斜め上方から正弦波状の複数の位相変化する光パターンを照射するための照明装置３と、プリント基板Ｋからの反射光を波長成分毎に撮像するためのＣＣＤカメラ４とを備えている。 - 特許庁