「phase patterns」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

On the top surfaces of two layers of a line pattern layer 125 for phase matching and a pattern layer/foot pad layer 127 for phase matching, line patterns 132 and 133 for phase matching are formed respectively.例文帳に追加

位相整合用線路パターン層１２５および位相整合用線路パターン層／フットパッド層１２７の２枚の層の各上面にはそれぞれ、位相整合用線路パターン１３２および１３３が形成されている。 - 特許庁

The phase diffraction optical device has random phase distribution, in which a large number of unit patterns having different phase modulation functions are arranged with each unit pattern, consisting of recesses and projections having a period shorter than the wavelength of the light to be used, and different phase modulation functions in the unit patterns are obtained, by varying the width ratio of the recesses and projections in the recessed and projected part.例文帳に追加

異なる位相変調能を有する単位パターンを多数配置したランダムな位相分布を有し、各単位パターンは、使用光の波長以下の周期をもった凹凸部により構成され、凹凸部における凹部と凸部の幅の比の相違により単位パターン間の位相変調能が異なったものとされている位相型回折光学素子。 - 特許庁

For another concrete example, the 1st and 2nd patterns are formed by forming a pseudo random image and reversing the pseudo random image, and also, the patterns are formed by the phase shift of one image or both images.例文帳に追加

別の具体例においては、第１及び第２のパターンは、疑似ランダム画像及びこの画像の裏返しの形成により、及び一方又は双方の画像の位相ずれにより作られる。 - 特許庁

The legalized block mask patterns and the legalized phase mask patterns that have been colored define features of a block mask and an alternating phase shift mask, respectively, for use in a dual exposure method for patterning features in a resist layer of the substrate.例文帳に追加

ルール適合化ブロック・マスク・パターンおよびカラーリングされたルール適合化位相マスク・パターンが、それぞれ、基板のレジスト層に構造体をパターン化する二重露光方法で使用するためのブロック・マスクおよび交番位相シフト・マスクの構造体を定義する。 - 特許庁

Since heating patterns 113a-113f are added to the Z-phase magnetoresistive patterns 123a-123d for detecting the moving origin position, temperature dispersion among the Z-phase magnetoresistive patterns 123a-123d can be suppressed small, to thereby detect the moving origin position accurately.例文帳に追加

また、移動原点位置を検出するためのＺ相磁気抵抗パターン１２３ａ〜１２３ｄに対して発熱パターン１１３ａ〜１１３ｆを付加したので、Ｚ相磁気抵抗パターン１２３ａ〜１２３ｄの間での温度ばらつきを小さく抑えることができるので、移動原点位置を精度よく検出することができる。 - 特許庁

The halftone phase shift mask has halftone films 12 provided on a translucent substrate 11 where light-shield patterns are formed and where half-light-shield patterns are formed, and light-shield films 13 provided on the halftone films 12 where the light-shield patterns are formed.例文帳に追加

透光性基板11の、遮光パターンが形成される部分、及び半遮光パターンが形成される部分に設けられたハーフトーン膜12と、ハーフトーン膜12のうち、遮光パターンが形成される部分にあるハーフトーン膜12上に設けられた遮光膜13とを備える。 - 特許庁

A magnetic pattern which is made by alternately forming two phase patterns 10A, 10B is recorded to the magnetic recording medium by means of magnetic transfer.例文帳に追加

磁気記録媒体に対して、二つの位相パターン10Ａ，10Ｂが交互に形成されてなる磁気パターンを磁気転写により記録する。 - 特許庁

Three sheets of sinusoidal patterns whose phases are shifted from each other by π/4 individually are projected from a projector 1, and a relative phase ψr is found for each pixel from each reflected image by the principle of a phase shift method.例文帳に追加

プロジェクタ１から、各々π／４だけ位相のずれた正弦波パターンを３枚照射し、位相シフト法の原理によって、各反射画像から画素毎に相対位相ψｒを求める。 - 特許庁

The phase shifters 103 which are the auxiliary patterns pass the exposure light in a phase reverse to the light passing the translucent section 101 and the transparent section 102 and are not transferred by the exposure.例文帳に追加

補助パターンである位相シフター１０３は、半遮光部１０１及び透光部１０２を基準として露光光を反対位相で透過させると共に、露光により転写されない。 - 特許庁

An auxiliary pattern 103 comprising a phase shifter part that transmits exposure light in an inverted phase to the exposure light transmitting the light-transmitting part is formed between the main patterns 111, 112.例文帳に追加

主パターン１１１及び１１２間に、透光部を透過する露光光に対して反転位相で露光光を透過させる位相シフター部よりなる補助パターン１０３が形成されている。 - 特許庁

To suppress the lowering of the accuracy of a detection angle caused by a distance difference between a sine-phase patterns and a cosine-phase coil pattern which is disposed at the stator side and constitutes an exciting coil or a detection coil, and a coil pattern which is disposed at the rotor side and constitutes a detection phase or an excitation phase.例文帳に追加

ステータ側に配置された励磁コイルまたは検出コイルを構成するｓｉｎ相およびｃｏｓ相のコイルパターンと、ロータ側に配置された検出相または励磁相を構成するコイルパターンとの距離の違いに起因する検出角度の精度の低下を抑える。 - 特許庁

Since an intensity ratio of the three colors is different in each subpattern, a subpattern number of the repetitive patterns can be specified, and an absolute phase can be found from a relative phase ψ, by finding an intensity ratio of the three colors with respect to the flat pattern from reflected images of these four-in-total patterns.例文帳に追加

この合計４パターンの反射画像から３色の平坦状パターンに対する強度比を取ると、サブパターンごとに３色の強度比が異なるので、繰り返しパターンのサブパターン番号を特定でき、相対位相ψから絶対位相が求められる。 - 特許庁

Each recording area has data area patterns 58, where the shape of magnetic material is patterned and a plurality of servo area patterns 60 which are provided with a prescribed phase in the circumferential direction of the substrate.例文帳に追加

各記録領域は磁性体形状がパターン化されたデータ領域パターン５８および基板の円周方向に所定の位相で設けられた複数のサーボ領域パターン６０を有している。 - 特許庁

Thus the correction patterns related to both the U-turn conveyance path and the ASF conveyance path, or a plurality of the correction patterns of the same initial phase related to EJ recording can be recorded to one recording medium.例文帳に追加

これにより、１枚の記録媒体にＵターンとＡＳＦ両方の搬送路に関する補正用パターンやＥＪ記録に関する同じ初期位相の複数の補正用パターンを記録することができる。 - 特許庁

Then, the gratings are written in the core part of the optical fiber by irradiating it with a laser beam through the transferred phase modulation patterns (S160).例文帳に追加

そして転写された位相変調パターンを通してレーザを照射して光ファイバのコア部分にグレーティングを書き込む（Ｓ１６０）。 - 特許庁

To achieve high precision position demodulation while reducing the table size in a position demodulating device to recover the correct positioning by using phase servo patterns.例文帳に追加

位相サーボパターンを用いて、位置を復調する位置復調装置において、テーブルサイズを削減し、高精度の位置復調を実現。 - 特許庁

The optical component patterns emitted from the lighting system 3 have wavelength components different each other, and are different each other in relative phase relation.例文帳に追加

照明装置３から照射される光成分パターンは、互いに異なる波長成分を有し、互いに相対位相関係が異なる。 - 特許庁

The halftone phase shift mask has halftone films 12 provided on a light-transmissive substrate 11 where light-shield patterns are formed and where half-light-shield patterns are formed, and light-shield films 13 provided on the halftone films 12 formed where the light-shield patterns are formed.例文帳に追加

透光性基板11の、遮光パターンが形成される部分、及び半遮光パターンが形成される部分に設けられたハーフトーン膜12と、ハーフトーン膜12のうち、遮光パターンが形成される部分にあるハーフトーン膜12上に設けられた遮光膜13とを備える。 - 特許庁

One layer is formed by plural times of exposure including high- resolution exposure using plural fine patterns (gate finger parts) and plural phase shift patterns (shifters) which are respectively arranged on both sides in the fine line width direction of the fine patterns and negate the interference of light by the phase difference of the light passing the same and ordinary exposure exclusive of the fine pattern points.例文帳に追加

複数の微細パターン（ゲートフィンガ部）と、当該微細パターンの微細線幅方向両側にそれぞれ配置され、透過する光の位相差により光の干渉を打ち消す複数の位相シフトパターン（シフタ）と用いた高解像度露光と、微細パターン箇所以外の通常露光とを含む複数回露光により一つの層を形成する。 - 特許庁

The switching pattern determining means 16 determines switching patterns of a switch S11, etc. by performing pulse with modulation using the phase voltage command values converted by the phase voltage command value conversion means 14.例文帳に追加

スイッチングパターン決定手段１６は、相電圧指令値変換手段１４で変換された各相電圧指令値を用いてパルス幅変調を実施することにより、スイッチＳ11，…のスイッチングパターンを決定する。 - 特許庁

To generate phase shifting patterns to improve patterning of gates and other layers, structures or regions needing sub-nominal dimensions.例文帳に追加

位相シフトパターンを生成して、準呼び寸法（サブノミナル寸法）を要するゲートその他の層、構造、又は領域についてのパターニングを改良する。 - 特許庁

Six current-carrying patterns #1 to #6 for making currents flow to three-phase coils are executed in order when detecting the rotor stop position of a brushless motor.例文帳に追加

ブラシレスモータのロータ停止位置を検出する際に、３相のコイルに電流を流すときの６つの通電パターン＃１〜＃６を順番に実施する。 - 特許庁

Then each of the ground patterns GP7-GP9 has a gap with other phase until it reaches a ground pattern GPW for its electrical isolation.例文帳に追加

そして、グランドパターンＧＰ７〜ＧＰ９は、グランドパターンＧＰＷに達するまでは他相との間に間隙を有し、電気的に絶縁されている。 - 特許庁

After a pattern layout is made as well as the transmittance T of a phase shifter is determined, the pattern layout is divided to generate a plurality of split patterns.例文帳に追加

パターンレイアウトを作成すると共に位相シフターの透過率Ｔを決定した後、パターンレイアウトを分割して複数の分割パターンを生成する。 - 特許庁

The resist film on the semiconductor substrate is exposed by a diagonal incident illumination method by using the phase shift mask 100, by which resist patterns are formed.例文帳に追加

前記位相シフトマスク１００を用いて、斜入射照明法により半導体基板上のレジスト膜を露光して、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

In this design, though little difference is detected between the track of electrons passing through the patterns A1 and A2 and the track of electrons passing through the patterns B1 and B2, yet a phase difference is created due to difference in electron wave lengths resulting from difference in electron velocity.例文帳に追加

よって、パターンＡ１、Ａ２を通過する電子と、パターンＢ１、Ｂ２を通過する電子との間には、軌道の距離の差はほとんど無いが、電子の速度差のために、電子の波長に違いができて、位相差ができる。 - 特許庁

In the coverage of low antenna gain, a plurality of neighboring active phased array antennas 3 form antenna patterns 4 in the same direction at the same time and by combining these antenna patterns with the equal phase, the antenna gain is enhanced.例文帳に追加

アンテナ利得の低い覆域において、隣接する複数のアクティブフェーズドアレーアンテナ３が同一方向に同時にアンテナパターン４を形成し、それらを等位相合成することにより、アンテナ利得を改善する。 - 特許庁

In the method of manufacturing an exposure mask which is used to perform pattern exposure with a high resolution by shifting the phase of light transmitting both sides in the line width direction of a mask pattern, high-precision patterns requiring line width precision and high-resolution patterns requiring pattern exposure with high resolution are extracted from gate patterns (design patterns) (S2).例文帳に追加

マスクパターンの線幅方向両側を透過する光の位相をシフトさせることで高解像度のパターン露光を行う際に用いられる露光マスクの作製方法であって、ゲートパターン（設計パターン）の中から、線幅精度が要求される高精度パターンと、高解像度でのパターン露光が要求される高解像度パターンとを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

In the minimum stroke position and the maximum stroke position, as the patterns of the output voltage 15U, 15V, 15W of the hall elements 14U, 14V, 14W for U phase, V phase, and W phase change, the positions of the minimum and maximum stroke can be detected.例文帳に追加

最小ストローク位置及び最大ストローク位置において、Ｕ相、Ｖ相、Ｗ相のホール素子１４Ｕ，１４Ｖ，１４Ｗの出力電圧１５Ｕ，１５Ｖ，１５Ｗのパターンが変化することから、最小ストローク位置及び最大ストローク位置を検出できる。 - 特許庁

A micro retarder film comprises: a first homogeneous layer 56; a microstructure phase layer 58 including a plurality of retardation patterns formed alternately on the first homogeneous layer; and a second homogeneous layer 59 formed on the microstructure phase layer.例文帳に追加

マイクロリターダフィルムは第１均質層５６、第１均質上に交互に形成される複数の遅延パターンを備えるマイクロ構造フェーズ層５８、およびマイクロ構造層上に形成される第２均質層５９からなる。 - 特許庁

The rate for inputting these commutation patterns to a three-phase inverter 11 is varied in real time according to a duty ratio calculated by a duty generator 9.例文帳に追加

これら転流パターンを３相インバータ１１に入力する割合をデューティ発生器９で算出したデューティ比に従ってリアルタイムに変化させる。 - 特許庁

A plurality of interference patterns are generated from one piece of phase distribution data generated by causing the reference light group and object light interfere with each other.例文帳に追加

参照光群と物体光とを干渉させることによって生成される１つの位相分布データから、複数の干渉パターンを生成する。 - 特許庁

The phase shift region 3Y is divided into a plurality of grating patterns whose both sides are inclined in opposite directions, where a Y direction (track direction) is a boundary.例文帳に追加

位相シフト領域３Ｙは、Ｙ方向（トラック方向）を境界として、両側を反対方向に傾斜させた複数のグレーティングパターンに分割されている。 - 特許庁

The line patterns 132 and 133 for phase matching are extended around in the two layers to obtain a sufficient inductance value even when a package is made small-sized.例文帳に追加

位相整合用線路パターン１３２、１３３を２層にわたり引き回すことで、パッケージを小型化しても充分なインダクタンス値を得ることができる。 - 特許庁

To provide an array with the optimum phase shift values of respective antenna elements, set upon accommodating two patterns (transmission and reception) on the array.例文帳に追加

アレイ上の２つのパターン（送信及び受信）を内蔵する場合に、それぞれのアンテナ要素の最適な位相シフト値が設定されたアレイを提供すること。 - 特許庁

QAM is a method for encoding digital data in an analog signal in which each combination of phase and amplitude represents one of sixteen four bit patterns. 例文帳に追加

直交振幅変調(QAM)は,位相と振幅の組合せがそれぞれ16個の4ビットパターンの1つを表しているアナログ信号内のディジタルデータをコード化する方式である． - コンピューター用語辞典

A plurality of patterns of phase compensation circuits, each including a resistor and a capacitor connected in series, are provided at an input portion (a base of a transistor Q5) of a buffer in the amplifying apparatus.例文帳に追加

増幅装置内のバッファの入力部（トランジスタＱ５のベース）に、直列接続した抵抗とコンデンサからなる位相補償回路を複数パターン設ける。 - 特許庁

To make it possible to more exactly measure the phase difference of halftone films by real patterns in production of a halftone mask.例文帳に追加

本発明は、ハーフトーン・マスクの製造において、ハーフトーン膜の位相差を実パターンにより正確に測定できるようにすることを最も主要な特徴とする。 - 特許庁

In the optical branch transmission line (100), the optical branch elements (110) are a plurality of strip reference phase patterns formed on a substrate in parallel at an equal pitch, and are grating elements that use the reference phase patterns formed so that a phase difference to be given in the pitch changes nonlinearly to substantially divide incident light into a plurality of luminous flux having the same intensity.例文帳に追加

この光分岐伝送路（１００）のおいて、光分岐素子（１１０）は、基板上に等ピッチで多数並列に形成された帯状の基準位相パターンであって、ピッチ内で与える位相差が非線形に変化するように形成された基準位相パターンを用いて、入射光を実質的に強度が同一である複数の光束に分割するグレーティング素子である。 - 特許庁

To improve the accuracy of detecting specific patterns, such as synchronizing patterns, without increasing redundancy of a format when an optical disk device is applied to a reproducing system of a phase change type optical disk device relating to, for example, high-density recording.例文帳に追加

本発明は、光ディスク装置に関し、例えば高密度記録に係る相変化型光ディスク装置の再生系に適用して、フォーマットの冗長度を増大させることなく、同期パターン等の特定パターンの検出精度を向上する。 - 特許庁

A portion of the phase shift mask above the contact holes is covered with one of patterns, a portion of the phase shift mask above respective transistors and the anti-electrostatic-discharge protecting circuit in the active area has a low light transmissivity pattern, and other parts of the phase shift mask have a high light transmissivity pattern.例文帳に追加

そのうち、コンタクトホール上方の一部の位相シフトマスクはいずれのパターンにも被覆されず、アクティブ領域内の各トランジスタ上方と抗静電放電保護回路上方の一部の位相シフトマスクは低透光率パターンを具え、位相シフトマスクのその他の部分は高透光率パターンを具えている。 - 特許庁

To provide a method for correcting a phase-shift mask, wherein the method can accurately correct a micropattern without degrading throughput, damaging glass substrates and other half-tone patterns, or leaving correction traces, when correcting black defects in a half-tone phase-shift mask, and to provide a corrected phase-shift mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの黒欠陥修正において、スループットを低下させずに、ガラス基板や他のハーフトーンパターンに損傷を与えず、修正痕を残さずに、微細パターンの修正を精度良く行うことができる位相シフトマスクの修正方法および修正された位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

Phase shift reticles Rps having test patterns PA1 to PA4 including a phase shifter for changing a phase of a transmitted illumination light are disposed on a surface of an object of the projection optical system 22 so as to be substantially perpendicular to an optical axis of the light from an illumination optical system 11.例文帳に追加

投影光学系２２の物体面に、透過する照明光の位相を変化させる位相シフト部が設けられたテストパターンＰＡ１〜ＰＡ４を有する位相シフトレチクルＲｐｓを、照明光学系１１からの照明光の光軸に対してほぼ直交するように配置する。 - 特許庁

In this closed-loop optical path, two optical phase modulation parts individually changing the optical phase of the first component and that of the second component according to first and second control optical signals having intensity patterns in accordance with signal sequences are provided.例文帳に追加

この閉ループ光路には、信号系列に応じた強度パターンを有する第１及び第２の制御光信号に応じ、それぞれ、第１成分、第２成分の光位相を変化させる２つの光位相変調部が設けられている。 - 特許庁

A PLL (Phase Locked Loop) 303 generates a timing signal 311 for detecting non-discharge nozzles composed of pulse trains at regular time intervals corresponding to the regular arrangement intervals of patterns on the basis of read image signals output from the imaging element.例文帳に追加

ＰＬＬ（Phase Locked Loop）３０３は、撮像素子から出力された読取画像信号に基づいて、パターンの等配置間隔に対応した等時間間隔のパルス列からなる不吐出ノズル検出用のタイミング信号３１１を生成する。 - 特許庁