「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To give a resist pattern an excellent etching resistance, concerning the method of forming a minute pattern including a new processing method for a resist pattern.例文帳に追加

本発明はレジストパターンの新規な処理方法を含む微細パターン形成方法に関し、レジストパターンに優れたエッチング耐性を与えることを目的とする。 - 特許庁

PATTERN CONTOUR EXTRACTION METHOD, IMAGE PROCESSING METHOD, PATTERN EDGE RETRIEVAL METHOD, PROBE SCANNING METHOD, PRODUCTION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加

パターン輪郭の抽出方法、画像処理方法、パターンエッジの探索方法、プローブの走査方法、半導体装置の製造方法、パターン検査装置およびプログラム - 特許庁

To provide a photomask capable of performing similar pattern formation processing again, even after pattern formation, and to provide a pattern transfer method which uses the photomask.例文帳に追加

パターン形成後であっても再度同様のパターン形成処理を行うことが可能であるフォトマスク及びそれを用いたパターン転写方法を提供すること。 - 特許庁

The invention comprises: a display section, a pattern specifying code input section for entering a pattern specifying code externally, a pattern storage section for storing therein an image of a predetermined pattern, and a pattern display processing section for reading the image of the pattern specified by the pattern specifying code from the pattern storage section and displaying the image on the display section.例文帳に追加

表示部と、外部からパターン指示コードを入力するパターン指示コード入力部と、あらかじめ決められたパターンの画像を格納したパターン格納部と、パターン指示コードによって指定されるパターンの画像をパターン格納部から取り出して表示部に表示させるパターン表示処理部とを備える。 - 特許庁

Processing result records are read one by one from a work processing result DB 10, judged whether they are OK or NG, confirmation results are held by sorting them into an OK pattern file and an NG pattern file of a comparison processing result pattern DB 30.例文帳に追加

業務処理結果ＤＢ１０から処理結果レコードを１件づつ読み出して、ＯＫかＮＧかの判定を行い、確認結果を比較処理結果パターンＤＢ３０のＯＫパターンファイルとＮＧパターンファイルとに振り分け保持する。 - 特許庁

A pattern information generating section 100 generates pattern information of an image line pattern by employing a twice-difference arithmetic processing (A-2×C+E) for luminance values among opposed pixels on three adjacent lines of a field image, a coring processing, and an information collection processing.例文帳に追加

パターン情報生成部１００において、フィールド画像の隣接３ラインで対向画素間の輝度値２回差分演算（Ａ−２×Ｃ＋Ｅ）とコアリング処理、情報収集処理により画像ラインパターンのパターン情報を生成する。 - 特許庁

Then processing using a pattern on the resist film as a mask (e.g. etching processing using the pattern on the resist film as the mask and an ion injection processing using the pattern on the resist film as the mask) is applied to the wafer on which the resist film having the rugged surface is formed.例文帳に追加

その後、レジスト膜の表面に凹凸が形成されたウエハは、レジスト膜のパターンをマスクとした処理（たとえば、レジスト膜のパターンをマスクとするエッチング処理、レジスト膜のパターンをマスクとするイオン注入処理）を受ける。 - 特許庁

A corrected pattern adding position deciding part 3 reads a wiring pattern and a contact pattern from a wiring pattern storage device 2 and decides a correcting pattern adding position, and a pattern correction processing part 4 processes a wiring pattern in a predetermined range into a wiring pattern subjected to space generation in each decided correcting pattern adding position, and decides a space by using the subject wiring pattern.例文帳に追加

補正図形付加場所決定部３で配線図形記憶装置２から配線図形及びコンタクト図形を読み込んで補正図形付加場所を決定し、決定された補正図形付加場所毎に図形補正処理部４で所定の範囲内の配線図形を間隔発生対象の配線図形とし、その対象とされる配線図形を用いて間隔を決定する。 - 特許庁

Afterwards, the input pattern inputted from the input switch 1-1 is analyzed by an input pattern analytic part 1-2 and when it is discriminated by a pattern comparing part 1-4 the input pattern is matched to the registered pattern, prescribed processing corresponding to that pattern registered in the storage part 1-3 is executed by a processing executing part 1-5.例文帳に追加

その後、入力スイッチ１−１から入力した入力パターンを入力パターン解析部１−２で解析して、パターン比較部１−４で入力パターンが登録パターンに一致したと判定した場合には、記憶部１−３に登録されているそのパターンに対応する所定の処理を処理実行部１−５で遂行する。 - 特許庁

Then, when the shutter button is fully pressed (Y at S6), the pattern recognition processing for recognizing a prescribed pattern is started (S7) and, when the prescribed pattern is recognized (Y at S8), still picture photography processing is performed (S10).例文帳に追加

そして、シャッタボタンが全押しされると（Ｓ６でＹ）、所定のパターンを認識するパターン認識処理を開始し（Ｓ７）、所定のパターンが認識されると（Ｓ８でＹ）、静止画撮影処理を行う（Ｓ１０）。 - 特許庁

To realize synchronous pattern removal processing for performing conversion so as not to be a synchronous pattern by inserting delimiter data into a bit string coinciding with a synchronous pattern in an encoded signal with a small amount of processing.例文帳に追加

符号化信号中から同期パターンに一致するビット列に区切りデータを挿入し同期パターンにならならいように変換する同期パターン除去処理を、少ない処理量で実現すること。 - 特許庁

A processing part executes, when a rhythm pattern corresponding to the acquired rhythm pattern is held by the holding part 130 as a result of collation by the collation part 150, a processing content paired with this rhythm pattern.例文帳に追加

処理部は、照合部１５０による照合の結果、取得されるリズムパターンに対応するリズムパターンが保持部１３０に保持されている場合、そのリズムパターンと組をなす処理内容を実行する。 - 特許庁

Control processing related to random number acquisition in each display processing, the start of pattern variation, the stop of pattern variation, pattern determination, and the like is carried out by a CPU 21 which is one control part.例文帳に追加

それぞれの表示処理における乱数取得、図柄変動開始、図柄変動停止、および図柄判定等に関する制御処理は、１つの制御部であるＣＰＵ２１によって行われる。 - 特許庁

A specific rule conversion pattern processing control part 54 detects whether a DSV control bit is included in the second data pattern or not and controls conversion processing to the second code pattern so as to surely perform DSV control.例文帳に追加

特定規則変換パターン処理制御部54は、第２のデータパターン内に、DSV制御ビットが含まれているかを検出し、確実にDSV制御ができるように、第２の符号パターンへの変換処理を制御する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of improving production efficiency by allowing the film thickness of pattern-formed photoresists to be uniform in a substrate plane and shortening a processing time required for pattern formation, in reflow processing for dissolving a photoresist pattern to form a desired resist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、パターン形成されたフォトレジストの膜厚を基板面内で均一とし、且つ、パターン形成にかかる処理時間を短縮し生産効率を向上することのできる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the communication processing burden of a main substrate in pattern control in a pachinko machine with a pattern display device.例文帳に追加

図柄表示装置を備えた弾球遊技機において、図柄制御における主基板の通信処理負担を軽くする。 - 特許庁

In a normal case, the pattern variation is started by pattern and normal motor-driven accessory control processing and a variation timer is also started.例文帳に追加

正常な場合には、図柄・普通電動役物制御処理で図柄の変動表示を開始し、変動タイマもスタートする。 - 特許庁

To provide a pattern determining method that facilitates quickly determining whether a processing failure occurs, prior to pattern formation.例文帳に追加

加工不良となるか否かをパターン形成前に容易かつ迅速に判定するパターン判定方法を提供すること。 - 特許庁

A normalization processing circuit 2 is inputted with the image pattern of the image pattern storage circuit 1 and normalizes a position or size.例文帳に追加

正規化処理回路２は、２値画像パターン記憶回路１の画像パターンを入力し、位置や大きさの正規化を行う。 - 特許庁

A pattern matching processing part 1 tracks the motion of a designated object, which appears in video data, by means of pattern matching.例文帳に追加

パターンマッチング処理部１は、映像データに登場する指定されたオブジェクトの動きをパターンマッチングによって追跡する。 - 特許庁

To provide a system for extracting spots where a pattern is not permitted which extracts spots beforehand where an additional processing of a pattern cut is not allowed.例文帳に追加

パターンカットの追加工が行えない個所を事前に摘出するパターンカット不可個所摘出システムを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of processing a fine pattern having a high aspect ratio, a plurality of level difference structures, etc.例文帳に追加

高アスペクト比、複数の段差構造などを有する微細パターンの加工が可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching processing method preventing a formed pattern from being deformed even if the pattern has a high aspect ratio.例文帳に追加

形成されるパターンのアスペクト比が高くてもパターンが歪むのを防止することができるエッチング処理方法を提供する。 - 特許庁

A processing equipment 10 compares the correction object pattern with the sample pattern to extract consistent parts and inconsistent parts.例文帳に追加

処理装置１０が、雛形パターンと補正対象パターンとを比較して、一致部分と不一致部分とを抽出する。 - 特許庁

This reduces the processing data quantity and the calculation time in the simulation of the entire exposure pattern, based on the expected pattern.例文帳に追加

予想パターンに基づいて全体露光パターンをシミュレーションした際の処理データ量および計算時間を短縮できる。 - 特許庁

A different color pattern discriminating body is provided in an object, and the color pattern is detected by image processing for discrimination.例文帳に追加

物体に異なる色パターンの識別体を設け、画像処理により色パターンを検出して識別するようにした。 - 特許庁

Then, after printing the resist pattern, the pattern is softened by exposing it in organic solvent atmosphere or by thermal processing.例文帳に追加

ついで、レジストパターン印刷後に、有機用溶剤雰囲気中に曝すか、或いは熱などの処理によってパターンを軟化させる。 - 特許庁

Etching processing is performed using the resist pattern as a mask to form a pattern with the predetermined dimensions in the film to be processed (a step S6).例文帳に追加

レジストパターンをマスクとしてエッチング処理を行い、被処理膜に所定の寸法のパターンを形成する（ステップＳ６）。 - 特許庁

The deskew processing section detects a frame synchronizing pattern of the second parallel signal and notifies the synchronizing code generating section 11 about the detected pattern.例文帳に追加

デスキュー処理部は、第２のパラレル信号のフレーム同期パターンを検出して同期コード生成部１１に通知する。 - 特許庁

To draw a finer pattern by improving a long cycle of interference pattern in boundary image processing.例文帳に追加

境界画処理において長周期の干渉パターンを改善し、より微細な描画パターンを描くことができるようにする。 - 特許庁

To generate an appropriate pattern by simpler processing in a case where the shape or the size of a pattern area can be changed.例文帳に追加

パターン領域の形状や大きさを変更できる場合において、より簡単な処理で適切なパターンを生成する。 - 特許庁

To solve the problem of failures in search processing due to foreign matters sticking on a sample or a pattern defect in a template matching processing.例文帳に追加

テンプレートマッチング処理において、試料に付着した異物やパターン欠陥によってサーチ処理を失敗する。 - 特許庁

By contriving the projected image (test pattern or the like), processing for simultaneously processing image projection and image reading is realized.例文帳に追加

また、投射画像を工夫して（テストパターン等）、画像投射と画像読み取りを同時に処理する等を行う。 - 特許庁

A formation method of self-aligned double pattern is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加

本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁

To provide an image processing unit that can prevent periodic dot arrangement and a regular dot grown pattern from being caused in an image after threshold processing.例文帳に追加

二値化後の画像における周期的なドットの配置および規則的なドットの成長パターンを防止する。 - 特許庁

A transmission processing part 37 performs transmission processing from the adaptive DBF antenna 32 on the basis of the created beam pattern.例文帳に追加

送信処理部３７は作成されたビーム・パターンに基づきアダプティブＤＢＦアンテナ３２から送信処理を行う。 - 特許庁

To provide an image processing device which can shorten a processing time, until a pattern detection succeeds.例文帳に追加

本発明は、パターン検知が成功するまでの処理時間を短縮することができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

A formation method of self-aligned double pattern of the present invention is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加

本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of preventing the decline in the detection accuracy of a specified pattern, and to provide an image processing program.例文帳に追加

特定パターンの検出精度低下を防止できる画像処理装置、及び画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁

A binary processing part 7 binarizes CMY data after ROP processing, by the use of a prescribed binary pattern for each color.例文帳に追加

２値化処理部７は、各色毎に所定の２値化パターンを用いて、ＲＯＰ処理後のＣＭＹデータを２値化する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method which can prevent pattern collapse on a substrate.例文帳に追加

基板上でのパターン倒れを防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, SYSTEM FOR REMOVAL PROCESSING OF REMAINING FILM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

レジストパターンの形成方法と残存膜除去処理システムおよび記録媒体 - 特許庁

MEMBRANE MASK, PATTERN PROCESSING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING MEMBRANE MASK例文帳に追加

メンブレンマスク、これを用いたパターン処理方法、およびメンブレンマスクの製造方法 - 特許庁

To suppress appearance of a texture pattern and moire in multi-valued dither processing.例文帳に追加

多値ディザ処理において、テクスチャパターンが現れることおよびモアレを抑制する。 - 特許庁

To remarkably reduce processing time of a mask pattern data in producing a stencil mask.例文帳に追加

ステンシルマスクの作製においてマスクパターンデータ処理時間を大幅に低減させる。 - 特許庁