「structure formation process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The process from process design to machining pattern formation includes a reverse problem simulation process for obtaining a machining process and a machining pattern from designed device structure.例文帳に追加

プロセス設計から加工パターン生成に至る工程には、設計デバイス構造から加工プロセス及び加工パターンを求める逆問題シミュレーション工程が含まれる。 - 特許庁

To reduce costs by reducing a wiring formation process in the lamination direction of a multilayer structure.例文帳に追加

多層構造体の積層方向への配線形成工程を削減してコスト低減を図る。 - 特許庁

The multifunctional epoxy resin enables the formation of a 3-dimensional network structure during the hardening process.例文帳に追加

多官能型エポキシ樹脂により硬化時に３次元網目構造を形成することができる。 - 特許庁

METHOD OF FORMING ALIGNMENT KEY IN FORMATION PROCESS OF WELL STRUCTURE, AND METHOD OF FORMING ELEMENT ISOLATION USING KEY例文帳に追加

ウェル構造の形成工程での整列キーの形成方法、及びそれを利用した素子分離形成方法 - 特許庁

To provide a method for formation of wiring structure by which an interlayer insulating film having a low specific inductive capacity can be formed by adopting an ordinary resist process.例文帳に追加

通常のレジストプロセスを採用して、比誘電率が低い層間絶縁膜を形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a patterning method which enables the formation of a fine structure without using a high-resolution patterning process.例文帳に追加

高分解能のパターニング工程を用いることなく、微細構造体を形成することが可能なパターニング方法を提供する。 - 特許庁

The mounting structure 1 makes a formation process of a plated layer unnecessary, and can avoid occurrence of initial insulation resistance failure and withstand voltage failure, etc..例文帳に追加

これにより、メッキ層を形成する工程が不要となり、初期絶縁抵抗不良や耐圧不良などが生じることを回避できる。 - 特許庁

A process of creating the gate structure for each of the two transistors allows formation of oxide layers of different thickness between the two transistors.例文帳に追加

２つのトランジスタのそれぞれにゲート構造を形成するプロセスにより、２つのトランジスタ間で異なる厚さの酸化物層が形成される。 - 特許庁

Moreover, detailed changes in a pattern can be performed easily in matching with the changes in the basic structure of a pattern or a pattern formation process.例文帳に追加

また、パターンの基礎となる構造の変更やパターン形成処理に合わせたパターンの微細な変更を容易に行うことができる。 - 特許庁

To provide a structure manufacturing method which enables the formation of an adhesive agent reservoir to reserve a surplus adhesive agent by a simple process.例文帳に追加

簡便な工程で、余剰の接着剤を溜めるための接着剤溜りを形成することが可能な、構造体の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a turbo blood pump having a simple housing structure capable of effectively avoiding formation of a thrombus while avoiding complication of the manufacturing process.例文帳に追加

血栓の形成を効果的に回避可能な構成を有し、しかも、製造工程の煩雑さを回避可能な簡潔なハウジング構造とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a structure for stabilizing a high-speed lifting-lowering annealing process after the formation of a gate in the formation of a transistor element, and to provide a manufacturing method for the semiconductor device.例文帳に追加

トランジスタ素子形成におけるゲート部形成後に行われる高速昇降アニール工程の安定化を図るための構造を有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image formation system capable of directly, simply, and accurately forming a structure containing a liquid resin adhesive on a substrate and shorten a process at the time of the formation.例文帳に追加

基板上に液状樹脂接着剤を含む構造体をダイレクトに、かつ簡単に、しかも高精度に形成することができ、その際のプロセスを短時間化することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heterojunction bipolar transistor having a structure showing a good property without requiring any special wiring formation process such as an air bridge or the like in an HBT in which a mesa formation is performed by a dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングによりメサ形成を行ったＨＢＴにおいて、エアブリッジなどの特別な配線形成工程を必要とせず、良好な特性を示す構造のヘテロ接合バイポーラトランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a laminate structure which can reduce defects while preventing the failure in forming of an insulating film or the formation of a vacancy, a process for manufacturing the laminate structure as well as a display device.例文帳に追加

絶縁膜の成膜不良あるいは空孔などを防止して欠陥を低減することができる積層構造およびその製造方法、ならびに表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a structure that can prevent a plurality of users from gathering around an image forming apparatus to process an abnormal state in which image formation is not carried out.例文帳に追加

画像形成が行われない異常状態を処理すべく、複数のユーザが画像形成装置に集まることを防止できる構造を実現する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which a transistor of such a structure as having a large gate width and preventing formation of a parasitic channel can be fabricated.例文帳に追加

ゲート幅が大きく、且つ寄生チャネルの形成を防止した構造のトランジスタを作成できるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the yield of wiring by preventing faulty connection, while increasing the EM resistance and SM resistance during the formation of a multilayer wiring structure by damascene process.例文帳に追加

ダマシン法で多層配線構造を形成する際に、ＥＭ耐性およびＳＭ耐性を高めつつ、接続不良を防いで配線の歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a micro structure formation process capable of reducing a processing failure by inhibiting a dissipation of a mask when forming a structure having a high aspect ratio.例文帳に追加

本発明によれば、高アスペクト比を有する構造体を形成する際に、マスクの消失を抑えて加工不良を低減することが可能な微細構造体形成方法を提供することができる。 - 特許庁

Forming locally modified regions may prevent under-etching of the at least one structure during further process steps in the formation of a semiconductor device 10.例文帳に追加

部分的に変更された領域の形成工程は、半導体デバイス１０の作製中の更なる処理工程中に、少なくとも１つの構造のアンダーエッチングを防止できる。 - 特許庁

To provide a laminated substrate having an insulating layer reconciling strength as a structure constituting a part of the laminated substrate and easiness to process such as the formation of a viahole.例文帳に追加

積層基板の一部をなす構造体としての強度と，バイアホールの形成等の加工のしやすさとを両立した絶縁層を有する積層基板を提供すること。 - 特許庁

A silane passivation process, carried out in-situ together with the formation of a subsequent dielectric film, converts the exposed Cu surfaces of the Cu interconnect structure, to copper silicide.例文帳に追加

その後の誘電体フィルムの形成とともに原位置に実行されるシラン・パッシベーション・プロセスは、Ｃｕ相互接続構造の露出したＣｕ表面をケイ化銅に転化する。 - 特許庁

This process is applicable to the field of damascene structure and can be used for forming a variety of capacitor structures while decreasing the number of mask layers required for formation.例文帳に追加

さらに、このプロセスはダマシン適用分野で使用でき、形成に要するマスク層の数を削減しながら多種多様な容量構造を形成するために使用できる。 - 特許庁

To mainly provide a charge application body which enables pattern formation of a fine structure and a fine pattern molding in a semiconductor surface in a simple process.例文帳に追加

本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a trimming fuse structure which excels in humidity resistance, its formation method, and a trimming method, without causing complication of a manufacturing process or the increase of manufacturing cost to be generated.例文帳に追加

、製造工程の複雑化、および製造コストの増大を生じることなく、耐湿性に優れたトリミングヒューズ構造とその形成方法、およびトリミング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a microwave oscillation element and a microwave oscillation device, which oscillate microwaves with a simple element structure, without requiring a complicated film formation process and a microfabrication.例文帳に追加

マイクロ波発振素子及びマイクロ波発振装置に関し、複雑な成膜工程や微細加工の必要がない簡単な素子構造によりマイクロ波発振を可能にする。 - 特許庁

In the method of manufacturing a semiconductor device using CMOS structure, the above theme is solved by the method of manufacturing a semiconductor device including a process of implanting ions for formation of each region, sharing a mask for formation of a well region and formation of source/drain regions.例文帳に追加

ＣＭＯＳ構造を用いた半導体装置の製造方法において、ウェル領域形成とソース／ドレイン領域形成のためのマスクを共用し、それぞれの領域形成のためのイオンを垂直に注入する工程を含む半導体装置の製造方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device allowing for preventing an unevenness of resist coating and improving a focus margin in a photoengraving process, in a process of manufacturing the semiconductor device having a field plate structure and a RESURF formation structure; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、フィールドプレート構造とリサーフ形成構造とを有する半導体装置の製造プロセスにおいて、レジスト塗布ムラ発生を防止し、かつ写真製版時のフォーカスマージン向上を図ることができる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method and its apparatus of such a structure that if the image forming process is interrupted on the way of performing the process for a plurality of manuscript sheets one after another, resuming the process is made from the next one of that manuscript sheet on which image formation has been finished.例文帳に追加

複数枚の原稿について順次画像形成処理を行っている途中で画像形成処理が中断された場合に，画像形成処理が既に終了している原稿の次の原稿から画像形成処理を再開する画像形成装置の改良。 - 特許庁

Throughput in the semiconductor manufacturing process is increased and thereby the manufacturing process of a phtoresist pattern is reduced when applying the exposure device with the aforementioned structure and an exposure process to the photoresist pattern formation of the semiconductor substrate W with a step.例文帳に追加

前述した構成要素を有する露光装置及び露光工程を段差が存在する半導体基板Ｗのフォトレジストパターン形成に適用すると、半導体製造工程でのスループットを増加させるとともに、フォトレジストパターンの製造工程を短縮することができる。 - 特許庁

For a process simulator 510 to support the design of a semiconductor by simulating the production process of a semiconductor device based on prescribed production process conditions, this process simulator has an arithmetic means 512 for simulating the process for forming the structure of the semiconductor device self-matchingly in the production process and an input means 511 for inputting information, after the formation of a section formed self-matchingly in the structure of the semiconductor device.例文帳に追加

プロセスシミュレーター５１０は、所定の製造プロセス条件に基づいて半導体素子の製造工程をシミュレーションして半導体の設計を支援するものであって、製造工程のうち自己整合的に前記半導体素子の構造を形成する工程についてシミュレーションする演算手段５１２と、半導体素子の構造のうち、自己整合的に形成される部分の形成後の情報を入力する入力手段５１１とを有する。 - 特許庁

The method for producing the COP structure includes: a solution preparation process of preparing a polymer solution where a COP is dissolved in a mixed solvent of an aromatic hydrocarbon solvent and N, N-dialkylformamide (DMF); and a formation process of forming the COP structure from the polymer solution.例文帳に追加

本発明に係るＣＯＰ構造体製造方法は、芳香族炭化水素溶剤とＮ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド（ＤＭＦ）との混合溶媒にＣＯＰが溶解したポリマー溶液を用意する溶液調製工程と、該ポリマー溶液からＣＯＰ構造体を形成する成形工程とを含む。 - 特許庁

To integrate, as components, vertical wiring and rewiring subjected to structure formation as an additional process of a double-sided electrode package DFP and a wafer level chip size package WLCSP, and to further simplify a manufacturing process and to reduce its cost.例文帳に追加

両面電極パッケージDFPやウエハレベルチップサイズパッケージWLCSPの追加工程として構造形成される垂直配線や再配線を部品として集約させ、かつ、その際に、製造工程をより簡素化してコスト低減を実現する。 - 特許庁

The molded frame 52 supports components, such as a process unit 56 and an exposure device 17, of a basic structure mainly related to image formation, common for a copying function, a printing function, and a facsimile-function.例文帳に追加

モールドフレーム５２は、プロセスユニット５６、露光装置１７など、コピー機能とプリンタ機能とファクシミリ機能とで共通の、主に画像形成にかかわる基本構造の構成部品を支持する。 - 特許庁

To realize formation of a fine pattern or production of a thin plate shaped pattern by a simple process without using a costly photomask, when forming the fine pattern on a substrate or producing the thin plate shaped pattern structure.例文帳に追加

基体上に微細パターン形成し、あるいは薄い板状パターン構造を製作する際に、高価なフォトマスクを使用せずに簡単なプロセスでそれらの製作を実現する。 - 特許庁

A protective layer 52 such as a silicon nitride layer, a silicon oxynitride layer, or the like is separately formed on an MTJ laminate structure 20 before the formation of a silicon oxide layer 53 prior to a CMP process.例文帳に追加

ＣＭＰプロセスに先立つシリコン酸化物層５３の形成前に、ＭＴＪ積層構造２０の上に、シリコン窒化物層またはシリコン酸化窒化物層等の保護層５２を別途形成する。 - 特許庁

A copolymer having a specific acrylate monomer or methacrylate monomer as a principal structure is used as an antireflection film in the formation of an ultrafine pattern in the semiconductor production process.例文帳に追加

特定のアクリレート系又はメタアクリレート系単量体を基本構造とする共重合体を、半導体の製造工程中、超微細パターンの形成時に反射防止膜に使用する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of reducing a step structure in film formation obtained on the surface of a semiconductor substrate, reducing the thickness of the film formation required for planalization processing after the film formation, shortening a time required for a planalization processing process, and improving the productivity.例文帳に追加

半導体基板の表面に形成される成膜の段差を減少させ、成膜後の平坦化処理に必要な成膜の厚さを減少させ、平坦化処理工程にかかる時間を短縮し生産性を向上させることができる半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern formation process of a semiconductor element for doubling a pattern density by double patterning technology in a partial region while forming a pattern having various widths simultaneously, and to provide a semiconductor element having a structure to which the process can be easily applied.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程及び該工程を容易に適用可能な構造の半導体素子を提供する。 - 特許庁

Since a magnetic domain structure is made to be a single magnetic domain along with formation of the exchange coupling, an excitation process of an axis of hard magnetization becomes only uniform magnetization rotation, and increase in a ferromagnetic resonance line width associated with mixing of a magnetic wall movement magnetization process can be suppressed.例文帳に追加

また、交換結合の形成に伴い、磁区構造が単磁区化されるため、磁化困難軸励起過程が均一な磁化回転のみとなり、磁壁移動磁化過程の混入に伴う強磁性共鳴線幅の増加を抑制できる。 - 特許庁

To provide a simulation method permitting estimation of the composition of a guest substance fluid in a formation system in the process of continuous formation of a hydrate, a crystal structure of the hydrate in equilibrium with the guest substance fluid phase and changes of the composition of the guest substance in the crystal.例文帳に追加

ハイドレートを連続生成する過程での生成系内のゲスト物質流体の組成と、そのゲスト物質流体相と平衡するハイドレートの結晶構造と、該結晶内のゲスト物質組成の推移が予測できるシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

To provide a proximity switch which does not need another material for a shield member for formation of an electromagnetic wave shield structure in a manufacturing process of semiconductor IC's and can be structured so that its inside structure can be visually observed.例文帳に追加

この発明は、半導体集積回路の製造プロセスで電磁波のシールド構造が形成し得て、別部材によるシールド部材が不要となり、さらに、内部構造が目視可能な構成にすることができる近接スイッチの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a printed board which does not require the filling of the inside of a via hole with plugging ink or the formation of a plating layer and which simplifies a structure and a process, and the method of manufacturing the same.例文帳に追加

ビアホールの内部にプラギングインクの充填またはメッキ層の形成をさらに行う必要がなくて構造及び工程を単純化するプリント基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing process of the mesoporous titania comprises a mold formation step to form a mold for the mesoporous structure by the gemini-type surfactant and a titania precipitation step to precipitate the titania.例文帳に追加

ジェミニ型界面活性剤によりメソポーラス構造の鋳型を形成する鋳型形成工程と、前記鋳型によりチタニアを析出させるチタニア析出工程と、を含むメソポーラスチタニアの製造方法である。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of semiconductor device for controlling etching of the front surface of an element isolating film in the etching process of a silicon oxide film after element isolating film formation in the case where the element isolating film has a structure embedded within a semiconductor substrate.例文帳に追加

素子分離膜が半導体基板に埋め込まれた構造である場合、素子分離膜を形成した後の酸化シリコン膜のエッチング工程において、素子分離膜の表面がエッチングされることを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁