「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(121ページ目) - Weblio英語例文検索

The optical disk is composed by providing an information recording layer or an information recording part, a reflection layer, the image recording layer where the visible images are to be recorded by irradiation with a laser beam, a barrier layer, and a transparent protective layer on a substrate in the order.例文帳に追加

基板上に、情報記録層又は情報記録部、反射層、レーザー光の照射により可視画像が記録される画像記録層、バリア層、及び透明保護層をこの順に有してなることを特徴とする光ディスク。 - 特許庁

The high density magnetic recording medium is provided with a soft magnetic backing layer made of a soft magnetic material, an under layer, a recording layer, a rare earth transition metal alloy layer having a rare earth metal rich composition and a protective layer on a non-magnetic substrate.例文帳に追加

高密度磁気記録媒体として、非磁性基板上に、軟磁性材料により形成された軟磁性裏打ち層、下地層、記録層、希土類金属優勢組成の希土類遷移金属合金層及び保護層を具備する。 - 特許庁

An organic EL element 50 has a lamination structure of a hole injection electrode 2, a hole injection layer 3, a hole transport layer 4, a light-emitting layer 5, an electron transport layer 6, an electron injection layer 7, and an electron injection electrode 8, on a substrate 1.例文帳に追加

有機ＥＬ素子５０は、基板１上においてホール注入電極２、ホール注入層３、ホール輸送層４、発光層５、電子輸送層６、電子注入層７および電子注入電極８の積層構造を有する。 - 特許庁

In this optical memory card, an optical recording member, in which a surface-hardened layer, a transparent protective layer, a track-pattern layer and an optical recording material layer are laminated in the order from the upper part, is provided in a concave part formed in a card substrate via an adhesion layer.例文帳に追加

上から順に、表面硬化層、透明保護層、トラックパターン層、及び光記録材料層が積層された光記録部材がカード基材に形成された凹部に接着層を介して埋め込まれている光カードである。 - 特許庁

On a sapphire substrate 1, an n-type GaN contact layer 2, an n-type AlInGaN/AlGaN super lattice layer 3, an active layer 4, a p-type AlGaN block layer 8, and a p-type GaN contact layer 5 are formed, and an n-type electrode 7 and a p-type electrode 6 are provided.例文帳に追加

サファイア基板１の上に、ｎ型ＧａＮコンタクト層２、ｎ型のＡｌＩｎＧａＮ／ＡｌＧａＮ超格子層３、活性層４、ｐ型ＡｌＧａＮブロック層８、ｐ型ＧａＮコンタクト層５が積層され、ｎ電極７とｐ電極６が設けられている。 - 特許庁

The recording medium is produced by successively depositing a lower dielectric layer 202, recording layer 203, upper dielectric layer 204, reflection layer 205 and protective layer 206 in this order on a substrate with adjacent layers in contact with each other.例文帳に追加

基板２０１上に下部誘電体層２０２、記録層２０３、上部誘電体層２０４、反射層２０５および保護層２０６をこの順に、かつ隣接する層同士を接触させた状態で積層して記録媒体とした。 - 特許庁

The semiconductor layer 13 includes an N^- conductivity type drift layer 3 and a P^- conductivity type reduced surface layer 9 wherein the drift layer 3 and the reduced surface layer 9 are arranged to appear alternately in the direction parallel with the silicon substrate 2.例文帳に追加

半導体層１３は、導電型がＮ^-型のドリフト層３と導電型がＰ^-型のリサーフ層９とを含んでおり、ドリフト層３とリサーフ層９とは、シリコン基板２に平行な方向に交互に現れるように配列されている。 - 特許庁

A channel layer 11, a spacer layer 12, a first barrier layer 13, a quantum dot 14b, a second barrier layer 15, a quantum dot 16b, and a third barrier layer 17 are successively laminated on a substrate 1, and a gate electrode 4 is provided thereon.例文帳に追加

基板１の上にチャネル層１１，スペーサ層１２，第１の障壁層１３，量子ドット１４ｂ，第２の障壁層１５，量子ドット１６ｂおよび第３の障壁層１７を順次積層し、その上にゲート電極４を形成する。 - 特許庁

After a contact layer 16D, a second clad layer 15D, an active layer 14D and a first type clad layer 13D are grown epitaxially on a growth substrate 100D, a first metal layer 11D is deposited to form a first wafer W1.例文帳に追加

成長基板１００Ｄ上にコンタクト層１６Ｄ、第２クラッド層１５Ｄ、活性層１４Ｄおよび第１型クラッド層１３Ｄを結晶成長させたのち、第１金属層１１Ｄを堆積させて第１ウェハＷ１を形成する。 - 特許庁

The light scattering layer 21 is disposed in a region between an upper substrate 17 and a retardation layer 22, and the light scattering layer 23 is disposed in a region between two optical layers close to each other (that is, the retardation layer 22 and a polarization layer 24).例文帳に追加

光散乱層２１は、上側基板１７と位相差層２２との間の領域に配置されており、光散乱層２３は、互いに近接する２つの光学層（位相差層２２，偏光層２４）との間の領域に配置されている。 - 特許庁

The recording/reproducing device is provided with the storage medium 7 having a second heatsink layer 62 formed of an Al film having a thickness of 50 μm, a backing layer 63, a heat barrier layer 64, a first heatsink layer 65, a magnetic recording layer 66 and a protection film 67 on a glass substrate 61.例文帳に追加

ガラス基板６１上に、厚さ５０μｍのＡｌ膜からなる第２のヒートシンク層６２、裏打ち層６３、熱障壁層６４、第１のヒートシンク層６５、磁気記録層６６、保護膜６７を備えた記録媒体７を備える。 - 特許庁

In the metal barrier rib for the plasma display formed of a metal substrate with a large number of through holes, an insulating layer-an Ag layer, or an insulating layer-an Ag layer-an improved adhesive layer is formed from the surface side.例文帳に追加

多数の貫通孔を有する金属基板を用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁において、表面側から絶縁層—Ag層かまたは、絶縁層—Ag層—密着改善層が形成されているプラズマディスプレイ用金属隔壁である。 - 特許庁

Masks 11 for selective growth and an AlN buffer layer 2 are formed on a substrate 1 for growth, and further a non-doped GaN layer 3, an n-type GaN layer 4, an MQW active layer 5, and a p-type GaN layer 6 are laminated in order.例文帳に追加

成長用基板１上に選択成長用マスク１１及びＡｌＮバッファ層２が形成され、さらにノンドープＧａＮ層３、ｎ型ＧａＮ層４、ＭＱＷ活性層５、ｐ型ＧａＮ層６が順に積層されている。 - 特許庁

The wiring substrate 12 has a laminated structure comprising an insulating layer 9, an electrically conductive layer 7 including the electrode 7c formed on the upper surface side of the insulating layer 9, and an electrically conductive layer 10 formed on the lower surface side of the insulating layer 9.例文帳に追加

配線基板１２は、絶縁層９、絶縁層９の上面側に形成した電極７ｃを含む導電層７、及び絶縁層９の下面側に形成した導電層１０からなる積層構造を有する。 - 特許庁

(1) The optical information recording medium has an optical information storage layer part having a transparent substrate with an optical guide groove and a reversible display recording layer part and has a heat insulation layer between the optical information storage layer part and the reversible display recording layer part.例文帳に追加

（１）光案内溝付き透明基板を有する光情報記憶層部と可逆表示記録層部を有し、該光情報記憶層部と可逆表示記録層部の間に断熱層を有する光情報記録媒体。 - 特許庁

The magneto-optical recording medium 20 has a cross sectional structure consisting of a dielectric material layer 12, the reproducing layer 13, a heat radiating layer 14, a recording layer 15, a dielectric material layer 16 and a UV curing resin 17 successively formed on a light transmission substrate 11.例文帳に追加

光磁気記録媒体２０は、光透過性基板１１上に、誘電体層１２、再生層１３、放熱層１４、記録層１５、誘電体層１６、紫外線硬化樹脂１７を順次形成した断面構造を有する。 - 特許庁

An optical circuit layer 16, where an optical waveguide core layer 13a is provided at a prescribed place between a lower clad layer 12 and an upper clad layer 14, is provided on a substrate body 11 via an elastic sticking layer 15.例文帳に追加

下部クラッド層１２と上部クラッド層１４との間の所定箇所に光導波路コア層１３ａを設けた光回路層１６を基板本体１１上に弾性を有する接着層１５を介して設けるようにした。 - 特許庁

In a skin material for a two-wheeled vehicle seat consisting of a fiber substrate layer 1, an polyolefinic elastomer layer 3 and a surface layer 4, the outermost layer of the surface layer comprises a silicone urethane paint 6.例文帳に追加

繊維基材層１、ポリオレフィン系エラストマー層３及び表面層４からなる二輪車シート用表皮材であって、表面層の最外層がシリコーンウレタン系塗料６からなる二輪車シート用ポリオレフィン系表皮材である。 - 特許庁

In the foam wall paper in which a foam layer composed of an ethylene-based resin, a protective layer composed of an ethylene-based resin and a surface layer are successively formed on a paper substrate, the protective layer is a layer containing a polyether polyol.例文帳に追加

紙基材上に、エチレン系樹脂からなる発泡層、エチレン系樹脂からなる保護層、表面層が順に設けられた発泡壁紙において、前記保護層がポリエーテルポリオールを含有する層であることを特徴とする発泡壁紙。 - 特許庁

An aluminum layer or an aluminum alloy layer 3 is formed on a semiconductor substrate 10 via a barrier metal layer 2, and a surface layer 3a having uniform irregularities is formed on the surface of the aluminum alloy layer 3 by using a dry etching gas.例文帳に追加

半導体基板１０上にアルミニウム層もしくはアルミニウム合金層３をバリアメタル層２を介して形成し、アルミニウム合金層３の表面にドライエッチングガスを用いて均一な微細凹凸を有する表面層３ａを形成する。 - 特許庁

The thin film transistor substrate comprises a lower aluminum layer, an aluminum nitride layer formed on the lower aluminum layer, and an upper aluminum layer formed on the aluminum nitride layer.例文帳に追加

本発明による薄膜トランジスタ基板は、下部アルミ二ウム層と、前記下部アルミ二ウム層の上に形成されている窒化アルミ二ウム層と、前記窒化アルミ二ウム層の上に形成されている上部アルミ二ウム層を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A monocrystalline silicon substrate is thermally oxidized to form a silicon oxide layer, a Ti close adhesion layer is formed on the silicon oxide layer by sputtering, and a Pt lower electrode layer is successively formed on the Ti close adhesion layer by sputtering.例文帳に追加

単結晶シリコン基板を熱酸化して酸化シリコン層を形成し、酸化シリコン層上にスパッタリング法によってTi密着層を形成し、引き続いて、Ti密着層上にスパッタリング法によってPt下部電極層を形成する。 - 特許庁

This multilayer structure of tungsten silicide is constituted by forming a first tungsten-silicide layer on a semiconductor substrate, a first intermediate layer on the first tungsten-silicide layer, and a second tungsten- silicide layer on the first intermediate layer.例文帳に追加

該半導体基板上に第１のタングステンシリコン層を、該第１のタングステンシリコン層上に第１の中間層を、該第１の中間層上に第２のタングステンシリコン層を形成することにより、タングステンシリコン多層構造が構成される。 - 特許庁

The package structure for photoelectric devices includes a silicon substrate 11, a first insulating layer 21A or 21B, a reflective layer 22A or 22B, a second insulating layer 23A or 23B, a first conductive layer 21, a second conductive layer 22 and a die 31A.例文帳に追加

光電デバイス用パッケージ構造は、シリコン基板１１と、第１の絶縁層２１Ａ，２１Ｂと、反射層２２Ａ，２２Ｂと、第２の絶縁層２３Ａ，２３Ｂと、第１の導電層２１と、第２の導電層２２と、ダイ３１Ａとを備える。 - 特許庁

A Gd deciding layer 45 is formed on the upper surface of a lower magnetic pole part 41, and a gap layer 42 and an upper magnetic pole layer 43 are plated and formed through a plated substrate layer 42a above the lower magnetic pole part 41 and the Gd deciding layer 45.例文帳に追加

下部磁極部４１の上面にＧｄ決め層４５を形成し、下部磁極部４１及びＧｄ決め層４５の上面に、メッキ下地層４２ａを介してギャップ層４２及び上部磁極層４３をメッキ形成する。 - 特許庁

In the GaN-based light emitting element, an n-type GaN layer 12, n-type SLS layer 14, light emitting layer 16, p-type SLS layer 17, p-type GaN layer 18, p-type electrode pad 20, n-type electrode pad 22, and transparent electrode 24 are successively formed on a substrate 10.例文帳に追加

基板１０上にｎ型ＧａＮ層１２、ｎ型ＳＬＳ層１４、発光層１６、ｐ型ＳＬＳ層１７、ｐ型ＧａＮ層１８、ｐ型電極パッド２０、ｎ型電極パッド２２、透明電極２４を形成する。 - 特許庁

An optical disk 10 has at least, an information layer (recording layer) 2, a light transmission layer 3, and hard coat layer 4 provided in this order on a substrate 1 and performs recording and/or reproducing information by irradiation of laser light from the side of the hard coat layer 4.例文帳に追加

基板１上に、少なくとも情報層（記録層）２、光透過層３およびハードコート層４を順次備え、ハードコート層４側からレーザー光を照射して記録および／または再生を行う光ディスク１０である。 - 特許庁

The organic EL element is provided with a substrate 1, an anode 2, and an electron injecting layer 6 between a cathode 2 and a light-emitting layer 4, and also, a control layer 5 between the light-emitting layer 4 and the electron injecting layer 6.例文帳に追加

基板、陽電極を有し、陰電極と発光層との間に電子注入層を有する有機ＥＬ素子であって、前記発光層と前記電子注入層との間に制御層を有することを特徴とする有機ＥＬ素子。 - 特許庁

The solar cell comprises a transparent electrode film 2 successively laminated onto a transparent substrate 1, a p-layer (p-type semiconductor layer) 3, a titanium oxide layer 4 where the oxidation number is controlled, an n layer (n-type semiconductor layer) 5, and an electrode film 6.例文帳に追加

この太陽電池は、透明基板１の上に順次に積層された透明電極膜２、ｐ層（ｐ型半導体層）３、酸化数が制御された酸化チタン層４、ｎ層（ｎ型半導体層）５及び電極膜６を有する。 - 特許庁

The Ge-doped n-type group III nitride semiconductor layer is composed of a laminated Ge atom high-concentration layer and a Ge atom low-concentration layer on a substrate, where the low-concentration layer is laminated on the high-concentration layer.例文帳に追加

基板上に積層されたＧｅ原子高濃度層およびＧｅ原子低濃度層からなり、該高濃度層上に該低濃度層が積層されていることを特徴とするＧｅドープｎ型ＩＩＩ族窒化物半導体層状物。 - 特許庁

A reproducing head 10 is composed of: an insulating layer 11 laminated on the upper part of a substrate 9: a lower shield layer 12: a reproduction gap layer 13; a reproduction element 14 embedded in the reproduction gap layer 13; and an upper shield layer 15.例文帳に追加

再生ヘッド１０は、基板９の上部に積層された絶縁層１１と、下部シールド層１２と、再生ギャップ層１３と、再生ギャップ層１３に埋設された再生素子１４と、上部シールド層１５とで構成される。 - 特許庁

An n+ cathode layer 2 is formed in a surface layer on one main surface of an n-type semiconductor substrate 100, and a p+ anode layer 3 where p+ layer 3a is overlapped in a horizontal direction by ion implantation and heat diffusion is formed in the surface layer on the other.例文帳に追加

ｎ型半導体基板１００の一方の主面の表面層に、ｎ^+ カソード層２を形成し、他方の主面の表面層に、イオン注入と熱拡散でｐ^+ 層３ａが横方向で重なったｐ^+ アノード層３を形成する。 - 特許庁

The reflective liquid crystal panel 1 includes: a transparent substrate 10 having a transparent electrode 20; a drive circuit substrate 70 having a pixel electrode 50 and a reflective layer 40; and a liquid crystal layer 30 sealed and filled between the transparent substrate 10 and the drive circuit substrate 70.例文帳に追加

透明電極２０を有する透明基板１０と、画素電極５０及び反射層４０を有する駆動回路基板７０と、透明基板１０と駆動回路基板７０との間に密閉封入された液晶層３０とを備える反射型液晶パネル１。 - 特許庁

To reduce a leakage current of a nitride-based compound semiconductor layer in a method of manufacturing the nitride-based compound semiconductor layer on a different substrate by removing part of a nitride-based compound semiconductor substrate laminated on the different substrate from the different substrate.例文帳に追加

異種基板と貼り合わせた窒化物系化合物半導体基板の一部を異種基板から除去することにより窒化物系化合物半導体層を異種基板上に製造する方法において、窒化物系化合物半導体層におけるリーク電流を低減する。 - 特許庁

The liquid crystal display device is equipped with a liquid crystal layer 12 sandwiched between an array substrate 10 and an opposite substrate 11 and the array substrate 10 is equipped with a reflection pixel electrode 23 which reflects light made incident through the opposite substrate 11 and liquid crystal layer 12.例文帳に追加

液晶表示装置は、アレイ基板１０と対向基板１１との間に挟持された液晶層１２を備え、アレイ基板１０は、対向基板１１及び液晶層１２を介して入射した光を反射する反射画素電極２３を備えている。 - 特許庁

The display substrate 16 is constructed by forming a display side electrode 28 and an insulating layer 30 on a substrate 26 and the rear face substrate 18 is constructed by forming an inside electrode 34, an outside electrode 36, a coloring part 40, and an insulating layer 42 on a substrate 32.例文帳に追加

表示基板１６は基板２６上に表示側電極２８及び絶縁層３０が形成された構成であり、背面基板１８は、基板３２上に内側電極３４、外側電極３６、着色部４０、絶縁層４２が形成された構成である。 - 特許庁

Deformation of the lower substrate 5 with the partitions 10 and the reflecting layer formed thereon can be prevented by compensating the stress generated at the lower substrate 5 in the process of forming the partitions 10 onto the lower substrate 5 with the stress generated in the process of forming the reflecting layer onto the lower substrate 5.例文帳に追加

下部基板上に隔壁を形成する工程で下部基板に発生する応力を、下部基板上に反射層を形成する工程で発生する応力で補償し、隔壁及び反射層が形成された下部基板の変形を防止することができる。 - 特許庁

In the substrate penetration etching method, a buffer layer 62 and a metal layer 64 are formed on a first surface of the substrate 50, an etching mask pattern is formed on a second surface of the substrate facing the first surface, and the substrate 50 is subjected to the penetration etching with the pattern as the etching mask.例文帳に追加

基板貫通エッチング方法は、基板５０の第1面上にバッファ層６２と金属層６４を形成し、前記第1面と反対となる前記基板の第2面上にエッチングマスクパターンを形成した後、これをエッチングマスクとして前記基板５０を貫通エッチングする。 - 特許庁

To provide a substrate manufacturing method reducing the misalignment between an upper layer and a lower layer even when there is substrate distortion and work-starting exposure apparatuses for the upper and lower layers have apparatus dependence in exposure distortion, in the manufacture of substrate for forming a pattern on the substrate, and to provide a system thereof.例文帳に追加

基板上にパターンを形成する基板製造において、基板歪み、及び上層と下層の着工露光装置に露光歪みの機差が存在しても、上層と下層の合わせずれを小さくする基板製造方法、およびそのシステムを提供する。 - 特許庁

An insulating substrate 1 on which a conductor layer 51 is formed, an insulating substrate 2 on which a ring-like magnetic body 4 sintered separately and its inner insulating substrate 5 are arranged, and an insulating substrate 3 on which a conductor layer 53 is formed are hot pressed and integrated.例文帳に追加

導体層５１が形成された絶縁基材１、別途焼結されたリング状磁性体４とその内側の絶縁基材５が配置された絶縁基材２、そして導体層５３が形成された絶縁基材３を、加熱下でプレス加工して一体化させる。 - 特許庁

A first semiconductor substrate having a structure in which a release layer is not formed at a position on which a first dividing process is performed is used so that the release layer is not exposed at an edge face of a second semiconductor substrate when the second semiconductor substrate is cut out of the first semiconductor substrate.例文帳に追加

第１の半導体基板から第２の半導体基板を切り出す際に第２の半導体基板端面に剥離層が露出しないように、第１の分断処理を施す箇所に剥離層が形成されない構造の第１の半導体基板を用いる。 - 特許庁

To reduce the cost of a glass substrate for a dry plate reducing waste materials by reusing the reclaimed glass substrate as a glass dry plate, according to reclaiming a used glass substrate or a defective glass substrate having a photosensitive emulsion layer or an undercoating layer, during producing process or after producing.例文帳に追加

感光性乳剤層や下塗り層を有する、製造工程中または製造後に不良品扱いとなったガラス基板や使用済みのガラス基板を再生し、ガラス乾板として再使用して、廃棄材料（ガラス）を削減し、乾板用ガラス基板をコストダウンする。 - 特許庁

The magnetic recording medium comprises a magnetic layer and a back coating layer on at least both sides of a substrate layer, wherein the coating agent is applied as a coating for the back coating layer.例文帳に追加

また、少なくとも基材層の両側に磁性層とバックコート層を有する磁気記録媒体において、バックコート層の塗料として上記に記載のコーティング剤を塗布した磁気記録媒体である。 - 特許庁

An aluminum reflection layer 32 of the lower glass substrate 3 has an aluminum layer 321, and an optical film 322 formed by using a highly reflective material is provided between the aluminum layer 321 and a protective layer 31.例文帳に追加

下ガラス基板３のアルミ反射層３２にはアルミ層３２１があり、かつアルミ層３２１と保護層３１の間には高反射の材質で製作した光学フィルム３２２が設けられている。 - 特許庁

An insulating layer to be formed into partition walls 16 is formed on a transparent substrate 11 and a transparent electrode layer 12 and thereafter, a photosensitive resin layer having a luminescent element pattern is formed on the insulating layer.例文帳に追加

透明基板１１および透明電極層１２上に、隔離壁１６となる絶縁層を形成した後、この絶縁層上に発光素子パターンを有する感光性樹脂層を形成する。 - 特許庁