「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(119ページ目) - Weblio英語例文検索

A 1st sealing part A is formed in an area which is between a 2nd substrate 24 and a 3rd substrate 25 and in which an electrode layer 21 arranged on a 1st substrate 22 is exposed.例文帳に追加

第２基板２４と第３基板２５との間の領域で、第１基板２２に設けられる電極層２１が露出する領域には、第１シール部Ａが形成される。 - 特許庁

Thus the cleaned surface of the substrate is prevented from being recontaminated and the substrate in such a state is kept in storage and the coating layer is formed while the clean condition of the substrate is maintained.例文帳に追加

これにより、清浄化された基板面が再汚染されるのを防止して保管することができ、更に清浄状態を維持して膜形成を行うことができる。 - 特許庁

In an element substrate 10 of the reflection type electrooptical device, a light transmissible substrate is used as a supporting substrate 10d and a semiconductor layer 1a is formed in an island shape.例文帳に追加

反射型電気光学装置の素子基板１０では、支持基板１０ｄとして透光性基板が用いられ、半導体層１ａが島状に形成されている。 - 特許庁

The organic EL device 11 is structure by adhering the element substrate 13 and the sealing substrate 14 with a transparent adhesion layer 31 and an encapsulating seal on the substrate 12.例文帳に追加

有機ＥＬ装置１１は、基板１２上に、素子基板１３と封止基板１４とが透明接着層３１及び封止シールによって貼り合わされて構成されている。 - 特許庁

The solar cell module 10 comprises a substrate 1, a power generation cell 6 separated from a first side 1a in the substrate 1, and a protective layer 2 for covering the substrate 1 and the power generation cell 6.例文帳に追加

太陽電池モジュール１０は、基板１、基板１の第１辺１ａから離れた発電セル６、基板１と発電セル６とを覆う保護層２を備える。 - 特許庁

At first, an insulating layer 11b is formed in a semiconductor substrate 206 using SIMOX method and then the semiconductor substrate 206 is pasted to an insulating substrate 10A.例文帳に追加

まず、ＳＩＭＯＸ手法を用いて半導体基板２０６の内部に絶縁層１１ｂを形成し、この半導体基板２０６を絶縁基板１０Ａに貼り合わせる。 - 特許庁

The surface layer of a substrate is etched from the main surface of the substrate, thereby forming a steplike groove or ridge on at least one of the sides of the substrate.例文帳に追加

基板の表層部を、該基板の主表面からエッチングすることにより、少なくとも一方の側面が階段状になった溝または尾根状部分を形成する。 - 特許庁

A carrier substrate 18 is provided and a combination of a growth substrate 12, the epitaxial layer 14 and the first metal electrode 16 is flip-chip-mounted on the carrier substrate 18.例文帳に追加

キャリア基板１８を設け、成長基板１２とエピタキシャル層１４と第１の金属電極１６の組合せをキャリア基板１８上にフリップチップ実装する。 - 特許庁

To enhance the function of a photocatalyst by improving a photocatalyst carrying substrate consisting of a polymer resin substrate and a photocatalyst layer formed on the surface of the polymer resin substrate.例文帳に追加

高分子樹脂製基材の表面に光触媒層を形成してなる光触媒担持基材を、その光触媒の機能がより強力になるよう改良する。 - 特許庁

There is provided: the alignment substrate that can prevent an alignment layer from occurring due to error in alignment when performing substrate coupling; the liquid crystal display panel including the same; and the method of manufacturing the alignment substrate.例文帳に追加

基板結合のとき、整列誤差による配向膜を防ぐことのできる配向基板、これを含む液晶表示パネル、及び配向基板の製造方法が開示される。 - 特許庁

A first transparent substrate 10 and a second transparent substrate 20 made of a glass substrate etc. are adhered to each other via a sealing layer 11 applied on those peripheral parts therebetween.例文帳に追加

ガラス基板等からなる第１の透明基板１０と第２の透明基板２０とは、互いの周端部に塗布されたシール層１１を介して接着されている。 - 特許庁

The EL element can be produced by supplying a substrate, supplying a cathode and an anode onto the substrate, and then vapor-depositing the photorelease layer on the substrate.例文帳に追加

ＥＬ素子は、基板を供給し、基板上に陽極および陰極を供給し、および基板上に光放出層を蒸着することにより製造することができる。 - 特許庁

The additive 3 is bonded to the surface of the polymeric material substrate 2 by anchoring the substrate affinity segment 5 to a surface layer of the polymeric material substrate.例文帳に追加

そして、添加剤３は、基材親和性セグメント５が高分子材料基材表面層にアンカリングすることにより高分子材料基材２の表面に結合している。 - 特許庁

A semiconductor device has a glass substrate 1 as a substrate having an insulating surface, and a silicon layer 3 so related with this glass substrate 1 as to overlap it.例文帳に追加

半導体装置は、絶縁表面を有する基板としてのガラス基板１と、このガラス基板１と重なり合う関係にある位置にあるシリコン層３とを備える。 - 特許庁

A laminated body 13 is formed by laminating a first semiconductor substrate 11 to be becoming an active layer to a second semiconductor substrate 12 to be becoming a supporting substrate through an oxide film 11a.例文帳に追加

活性層となる第１半導体基板１１を酸化膜１１ａを介して支持基板となる第２半導体基板１２に重ね合せて積層体１３を形成する。 - 特許庁

To provide a metallized ceramic substrate for which the adhesion of the ceramic substrate and a conductor layer is improved without coarsening the surface of the substrate, and its manufacturing method.例文帳に追加

基板の表面を粗化することなく、セラミックス基板と導体層との密着性が向上したメタライズされたセラミックス基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly, it becomes possible to easily separate the ground substrate and the substrate layer by the use of these stresses and to obtain the semiconductor crystal independent from the ground substrate.例文帳に追加

従って、この応力を利用すれば、容易に下地基板と基板層とを分離することが可能となり、下地基板から独立した半導体結晶を得ることができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus which can remove even a resist having a hardened layer on its front surface without damaging a substrate.例文帳に追加

基板にダメージを与えることなく、その表面に硬化層を有するレジストであっても除去することができる、基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a practically usable semiconductor substrate having a single crystal semiconductor layer even if the substrate has a low heat resistant temperature such as a glass substrate is used.例文帳に追加

ガラス基板など耐熱温度が低い基板を用いた場合にも、実用に耐えうる単結晶半導体層を備えた半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, capable of removing even a resist having a curing layer on its surface without damaging the substrate.例文帳に追加

基板にダメージを与えることなく、その表面に硬化層を有するレジストであっても除去することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

The touch panel includes a substrate, a transparent conductive layer disposed on the substrate, and at least two electrodes each separately disposed on a corner of the above substrate.例文帳に追加

本発明のタッチパネルは、基板と、前記基板に設置される透明な導電層と、別々に前記基板の隅に設置される少なくとも二つの電極と、を含む。 - 特許庁

This is the substrate for superconductive film formation equipped with the substrate composed of metal, and an oxide layer having chromium oxide formed directly on this substrate as the body.例文帳に追加

金属からなる基体と、この基体の直上に形成された酸化クロムを主体とする酸化物層とを具備することを特徴とする超電導膜成膜用基板。 - 特許庁

The substrate structure includes a semiconductor substrate 15, an electrode 14 formed on the semiconductor substrate 15, and an under-barrier metal layer 12 formed on the electrode 14.例文帳に追加

基板構造は、半導体基板１５と、半導体基板１５の上に形成された電極１４と、電極１４の上に形成されたアンダーバリアメタル層１２とを備えている。 - 特許庁

TOUCH PANEL MEMBER, SUBSTRATE WITH TRANSPARENT ELECTRODE LAYER, SUBSTRATE LAMINATE TYPE TOUCH PANEL MEMBER, AND COORDINATE DETECTION DEVICE USING TOUCH PANEL MEMBER OR SUBSTRATE LAMINATE TYPE TOUCH PANEL MEMBER例文帳に追加

タッチパネル部材、透明電極層付き基板、基板積層型タッチパネル部材、および、上記タッチパネル部材または上記基板積層型タッチパネル部材を用いた座標検出装置 - 特許庁

The oxidation resistant and corrosion resistant metal substrate (1) is a substrate produced by forming a dense titania layer (5) on the surface of a metal substrate by applying a titanium peroxide solution or its sol.例文帳に追加

（１）金属基板表面に過酸化チタン溶液またはそのゾル状物をコーティングして緻密なチタニア層を形成した耐酸化性耐腐食性金属基板。 - 特許庁

The piezoelectric single crystal substrate which the ion implantation layer has been formed is bonded to a supporting substrate (S102→S103), and THG laser light is emitted from the supporting substrate side (S104).例文帳に追加

イオン注入層が形成された圧電単結晶基板を支持基板に接合し（Ｓ１０２→Ｓ１０３）、支持基板側からＴＨＧレーザ光を照射する（Ｓ１０４）。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, capable of selectively etch-removing only the upper layer formed on a surface edge part of a substrate.例文帳に追加

基板の表面周縁部に形成された上層のみを選択的にエッチング除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor substrate having a single crystal semiconductor layer which can be practically used even when a substrate with a low heat-resistant temperature, such as a glass substrate, is used.例文帳に追加

ガラス基板など耐熱温度が低い基板を用いた場合にも、実用に耐えうる単結晶半導体層を備えた半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The magnetic recording medium has a substrate, a laminated film including a magnetic recording layer formed on one side of the substrate and a reflecting film formed on the other side of the substrate.例文帳に追加

磁気記録媒体は、基板と、基板の一方側に形成された磁気記録層を含む積層膜と、基板の他方側に形成された反射膜とを備えてなる。 - 特許庁

The method includes: an amorphous layer forming step of forming an amorphous layer 111 on a surface of a semiconductor substrate 100 by modifying a surface of the semiconductor substrate 100 into the amorphous layer; and a diffusion layer forming step of forming a diffusion layer 112 in the semiconductor substrate 100 by irradiating the semiconductor substrate 100 with a microwave in a dopant-containing gas atmosphere to diffuse the dopant in the amorphous layer 111 and also activating the dopant.例文帳に追加

半導体基板１００表面をアモルファス化することにより半導体基板１００表面にアモルファス層１１１を形成するアモルファス層形成工程と、ドーパントを含むガス雰囲気中で半導体基板１００にマイクロ波を照射することにより、アモルファス層１１１にドーパントを拡散させるとともにドーパントの活性化を行い、半導体基板１００に拡散層１１２を形成する拡散層形成工程と、を具備する。 - 特許庁

The semiconductor substrate, which comprises an Si substrate 1 and a first SiGe layer 3 that is disposed on the Si substrate directly or via a different SiGe layer, is characterized in that the first SiGe layer has the in-plane distribution where the composition ratio of Ge decreases gradually from the central region toward the circumference region of the Si substrate surface.例文帳に追加

Ｓｉ基板１と、該Ｓｉ基板上に直接又は他のＳｉＧｅ層を介して配された第１のＳｉＧｅ層３とを備えた半導体基板であって、前記第１のＳｉＧｅ層は、Ｇｅ組成比が前記Ｓｉ基板表面の中心領域から周辺領域に向けて漸次低下した面内分布を有する。 - 特許庁

The device comprises: a substrate holder 20 holding a substrate 10 in which an electric conductor layer 14 is formed on at least a part of the surface; and an anode 30 arranged at the position confronted with the electric conductor layer 14 in the substrate 10 held by the substrate holder 20, and having fine projecting parts 32 at the side confronted with the electric conductor layer 14.例文帳に追加

表面の少なくとも一部に導電体層１４が形成された基板１０を保持する基板ホルダ２０と、基板ホルダ２０で保持した基板１０の導電体層１４に対向する位置に配置され、該導電体層１４との対向面側に微細な凸部３２を有するアノード３０を有する。 - 特許庁

The base material with the graphene sheet 1 is formed by successively laminating a thin layer 3 containing a silicon atom such as a silicon carbide layer and a carbon atom, a silicide layer 4 containing a metal such as Ni and the graphene sheet 5 on the base material 2 composed of a glass-coated metal substrate, a glass substrate, etc. where glass is coated on the glass substrate and the metal substrate.例文帳に追加

本発明のグラフェンシート付き基材１は、ガラス基板、金属基板の表面にガラスがコーティングされたガラス被覆金属基板等からなる基板２上に、炭化珪素層等の珪素原子及び炭素原子を含む薄膜層３、Ｎｉ等の金属を含むシリサイド層４、グラフェンシート５が順次積層されている。 - 特許庁

A substrate 1, which supports a function layer comprising an active layer 3 and reflective mirrors 2 and 4, is transparent with respect to the oscillation wavelength, and an additional reflecting mirror 8 on the side opposite to the function layer of the substrate 1 and the reflecting mirror 2 on the substrate 1 side are used, so that a substrate part is used as an optical resonator.例文帳に追加

面発光レーザ装置では、活性層３と反射鏡２、４から成る機能層を支持する基板１が発振波長に対して透明であり、基板１の機能層側の反対にある追加的反射鏡８と基板１側の反射鏡２を用いて基板部分を光学共振器として使用する。 - 特許庁

The glass substrate for the FPD, on whose substrate a prescribed pattern is formed, is manufactured by forming a coating layer 2 on a part of the surface of a glass substrate 1, then treating the coated glass substrate 1 with an etching solution containing hydrofluoric acid so as to etch the glass surface except the part where the coating layer has been formed, and removing the coating layer.例文帳に追加

ガラス基板１の表面の一部に被覆層２を形成し、フッ酸を含有するエッチング液で処理することにより、被覆層が形成された部分以外のガラスの表面をエッチングし、その後被覆層を除去することにより、基板表面が所定の形状にパターニングされたＦＰＤ用ガラス基板を製造する。 - 特許庁

By this substrate collecting method, the recording layer and reflecting layer stacked in order on the transparent synthethic-resin made substrate 1 are peeled off the substrate in powder by grinding them by using a grinding means without supplying water from the reflecting layer side and the pure and transparent synthetic-resin made substrate is collected.例文帳に追加

透明の合成樹脂製基板に記録層、反射層が順次積層されてなる光ディスクの前記記録層及び反射層を、研磨手段20を用いて反射層側から水を供給することなく研磨することにより基板から粉状にして剥離し、純粋かつ透明の合成樹脂製基板を回収する。 - 特許庁

The apparatus is equipped with: a TFT array substrate and a counter substrate (20) disposed opposing to each other through a liquid crystal layer (50); a counter electrode (21) and an alignment film (22) formed on the surface of the counter substrate facing the liquid crystal layer; and a light shielding film (23) formed on the surface of the counter substrate not facing the liquid crystal layer.例文帳に追加

液晶層（５０）を介して対向配置されたＴＦＴアレイ基板及び対向基板（２０）と、液晶層に面する側の前記対向基板の面の上に形成された対向電極（２１）及び配向膜（２２）と、液晶層に面しない側の対向基板の面に上に形成された遮光膜（２３）とを備えている。 - 特許庁

With the donor substrate 3 and the film-formed substrate 5 while being superposed on each other, radiant rays are irradiated from a donor substrate 3 side and an organic donor layer 13 is transferred in sublimation on the first electrode 17 of the film-formed substrate 5 to form an organic layer 25, and afterwards, a second electrode 29 is formed on the organic layer 25 to obtain the organic electroluminescent element 1.例文帳に追加

ドナー基板３と被成膜基板５とを重ねた状態で、ドナー基板３側から輻射線を照射して有機ドナー層１３を被成膜基板５の第一電極１７上に昇華転写して有機層２５を形成した後、有機層２５上に第二電極２９を形成して有機電界発光素子１を得る。 - 特許庁

Especially, the retardation layer is provided at a position corresponding to the reflection display region between the liquid crystal layer and a second polarizing plate on the CF substrate side and the spacer for regulating the interval between the element substrate and the CF substrate is provided in a region which is not two-dimensionally superposed on the soft retardation layer of the CF substrate.例文帳に追加

特に、位相差層は、液晶層とＣＦ基板側の第２の偏光板との間において、反射表示領域に対応する位置に設けられ、ＣＦ基板であって、材質的に柔らかな位相差層と平面的に重ならない領域には、素子基板とＣＦ基板の間隔を規定するためのスペーサが設けられている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a panel substrate with a color filter in which a color filter layer and a transparent resin layer to be a protective layer are formed on the surface of a panel substrate and are made smooth, to provide the panel substrate with the color filter manufactured by the manufacturing method and to provide a panel for information display manufactured by using the panel substrate with the color filter.例文帳に追加

パネル基板面に形成するカラーフィルター層および保護層となる透明樹脂層を平滑化したカラーフィルター付きパネル基板の製造方法、その製造方法により作製したカラーフィルター付きパネル基板および、そのカラーフィルター付きパネル基板を用いて作製した情報表示用パネルを提供する。 - 特許庁

The photovoltaic cell includes a substrate, a passivation layer formed on one surface of the substrate, a back electrode formed on the opposite side from the surface of the substrate where the passivation layer is formed, and a carbon nanotube structure formed on the opposite side from the surface of the passivation layer connected to the substrate.例文帳に追加

本発明の太陽電池は、基板と、前記基板の一つの表面に設置されたパッシベーション層と、前記基板の、前記パッシベーション層が設置された表面と反対側に設置された背面電極と、前記パッシベーション層の、前記基板に接続された表面と反対側に設置されたカーボンナノチューブ構造体と、を含む。 - 特許庁

This pressure sensitive sensor 120 is equipped with: the first substrate 5 equipped with the first electrode layer 7a formed on the surface; and the second substrate 6 arranged in the laminated state on the first substrate 5, and equipped with the second electrode layer 7b provided on a facing position to the first electrode layer 7a of the first substrate 5 on the surface.例文帳に追加

感圧センサ１２０は、表面に形成された第１電極層７ａを備えた第１基材５と、前記第１基材５に積層配置され、表面の前記第１基材５の第１電極層７ａに対向する位置に設けられた第２電極層７ｂを備える第２基材６とを備える。 - 特許庁

The display plate 2 has a translucent substrate (transparent substrate) 7 which is transmitted with illuminating light 6a, a display layer 8 which is formed on one surface side of the translucent substrate 7 and an impermeable layer 11 which is formed on the other surface side of the translucent substrate 7 and has an aperture 11a having an area greater than the area of the display layer 8.例文帳に追加

表示板２は、照明光６ａを透過する透光性基板（透明基板）７と、透光性基板７の一方の面側に形成される表示層８と、透光性基板７の他方の面側に形成され表示層８よりも面積の大きい開口部１１ａを有する不透過層１１と、を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor substrate comprises forming a porous layer 2 on the surface of a silicon substrate 1 being a base substrate, then forming a silicon carbide seed crystal 3 on the surface of the porous layer 2 by impressing a voltage to the silicon substrate 1 in a plasma atmosphere of a gas containing carbon, and epitaxially growing a crystal layer of silicon carbide by using the seed crystal 3 as a starting point.例文帳に追加

母材基板としてのシリコン基板１の表面に多孔質層２を形成し、炭素を含むガスのプラズマ雰囲気中でシリコン基板１に電圧を印加して多孔質層２の表面にシリコンカーバイドの種結晶３を形成し、その種結晶３を起点にシリコンカーバイドの結晶層をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

A method for manufacturing the substrate includes the stages of preparing a bonded substrate formed by bonding a 1st substrate 1 and a 2nd substrate 3 having insulators 2 at least on surfaces, forming a compound substrate 5' by forming a gettering layer 4 for capturing metal impurities on the surface of the bonded substrate 5, heat-treating the compound substrate 5', and removing the getternig layer 4 from the compound substrate 5'.例文帳に追加

基板の製造方法は、少なくとも表面に絶縁体２を有する第１の基板１に第２の基板３を結合した結合基板５を準備する工程と、結合基板５の表面に金属不純物を捕獲するためのゲッタリング層４を形成し複合基板５’を作製する工程と、複合基板５’を熱処理する工程と、複合基板５’からゲッタリング層４を除去する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁