「w to」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In this method, the scattering coefficient S_W' with respect to the blend of a colored matter and white pigment is denoted as a function of the white pigment's mixing ratio C_W.例文帳に追加

被着色物と白色顔料の混合物に対する散乱係数Ｓ_W'を、白色顔料の調合率Ｃ_W の関数で表現する。 - 特許庁

A verifier calculates K=H1(W) and m= DKs(C) to obtain the plain text m and calculates V=gavbmod p and verifies whether H3(W VjWimod p gjeimod p m)=i is true or not.例文帳に追加

検証者はK=H_1(W), m=D_K^s(C)を計算して平文mをもとめ、V=g^ay^bmod p,を計算し、H_3(W‖V^jW^imod p‖g^je^imod p‖m)=iが成立するかを検証する。 - 特許庁

Differential of a target turned angle δ_W* and the wave-filtered detected turned angle δ_W is inputted to a PID control part 25.例文帳に追加

目標転舵角δ_W ^* と濾波された検出転舵角δ_W との偏差が、ＰＩＤ制御部２５に入力される。 - 特許庁

(2) The method for preventing the syneresis of the processed food is characterized by adding 0.5-20 % (w/w) puffed cereals to the ingredient of the processed food.例文帳に追加

（２）加工食品の具材に、膨化穀類を0.5〜20 %（w/w）添加することを特徴とする、加工食品の離水防止法。 - 特許庁

The saccharated ferric oxide formulation for injection contains: saccharated ferric oxide equivalent to iron of 0.2 to 0.4%(w/v); arginine of 0.25 to 0.5%(w/v); and sucrose of 10 to 20%(w/v).例文帳に追加

本発明の注射用含糖酸化鉄製剤は、０．２〜０．４％(w/v)の鉄に相当する含糖酸化鉄、０．２５〜０．５％(w/v)のアルギニン、および１０〜２０％(w/v)のスクロースを含有する。 - 特許庁

This device is provided with an imaging means 10 for imaging an inspection object (work W), lighting means 20, 30 for irradiating the work W with light when imaged, and an image processing means 41 for processing an obtained image of the work W to determine the quality of the work W, based on a processed result.例文帳に追加

この装置は、検査対象(ワークW)を撮像する撮像手段10と、撮像時にワークWに光を照射する照明手段20,30と、得られたワークWの画像を処理して、この処理結果に基づいてワークWの外観の良否を判定する画像処理手段41とを具える。 - 特許庁

Further, at the time of division into S/W and H/W, an S/W-H/W interface can be generated and automatically inserted to the S/W or H/W part as well.例文帳に追加

さらに、Ｓ／Ｗ，Ｈ／Ｗ分割時にはＳ／Ｗ−Ｈ／Ｗ間インターフェースを生成して、Ｓ／Ｗ部又はＨ／Ｗ部に自動的に挿入することもできる。 - 特許庁

Multivesicular liposomes are prepared at commercial scales by combining a first w/o emulsion with a second aqueous solution to form a w/o/w emulsion using a static mixer.例文帳に追加

多小胞リポソームが、静的ミキサーを使用して第一w/oエマルジョンを第二水溶液と合わせてw/o/wエマルジョンを形成することにより商用規模で調製される。 - 特許庁

A model of the viewing participant (W') is rotated based on the physical and virtual directions to render a view of the viewing participant (W') such that the viewing participant (W') is facing the viewed object in the immersive virtual environment.例文帳に追加

閲覧参加者（W'）が没入型仮想環境において被閲覧オブジェクトに面するように、閲覧参加者（W'）のモデルは物理的な方向および仮想方向に基づいて回転されて、閲覧参加者（W'）のビューがレンダリングされる。 - 特許庁

Bar graphs 360J, K have a constant breadth ((1/128)W) regardless of diffusion code length, whereas display regions 360E, F have widths ((1/32)W, (1/4)W) corresponding to diffusion code lengths.例文帳に追加

表示領域３６０Ｅ、Ｆが拡散符号長に対応する幅（（1／32）W、（1／4）W）を有する一方で、棒グラフ３６０Ｊ、Ｋは拡散符号長にかかわらず一定の幅（（1／128）W）を有する。 - 特許庁

The maximum standard deviation σ_max[W/m^2] among the obtained standard deviations σ_k to k+n-1[W/m^2] and a prescribed value σ_0 [W/m^2] are compared, thus longitudinal cracking is detected.例文帳に追加

複数求めた上記標準偏差σ_k〜k+n-1[W/m^2]のうち最大の標準偏差σ_max[W/m^2]と、所定の値σ_o[W/m^2]と、を比較することによって縦割を検知する。 - 特許庁

In this chemical mechanical polishing method, in relation to the magnitude relation between the rotation frequency f_W of the semiconductor wafer 10 and the rotation frequency f_P of the polishing pad 30, 3f_P<f_W is used as a lower-limit condition, and 4f_P<f_W<8f_P is used as an optimum condition.例文帳に追加

本発明の化学的機械研磨方法は、半導体ウエハ１０の回転数ｆ_Wと研磨パッド３０の回転数ｆ_Pとの大小関係に関して、３ｆ_P＜ｆ_Wを下限条件とし、４ｆ_P＜ｆ_W＜８ｆ_Pを最適条件とする。 - 特許庁

A workpiece W is arranged to face to the opening part 12E and the workpiece W is held by imparting floating force to the workpiece W by negative pressure at a center of the turning flow.例文帳に追加

開口部１２Ｅに対面してワークＷを配置し、旋回流中央の負圧によりワークＷに浮揚力を与え保持する。 - 特許庁

W has strong bonding force to a metallic element of the catalyst and Ti promotes W to form the solid solution and increases the amount of W to form the solid solution.例文帳に追加

Ｗは触媒金属元素との結合力が高く、ＴｉはＷの固溶を促進して、Ｗ固溶量を増大させる。 - 特許庁

After the window W is expanded and brought in contact with another window w_i (b), the window w_i is moved with the expansion of the window W so as not to overlap with the window W (c).例文帳に追加

拡大されて、ウィンドウＷが他のウィンドウｗ_ｉと接した後（ｂ）、ウィンドウｗ_ｉはウィンドウＷの拡大に伴って、ウィンドウＷと重ならないように移動されていく（ｃ）。 - 特許庁

To finish up, write the partition to the disk using w and q to quit mac-fdisk.例文帳に追加

完了するためには、wを使ってパーティションをディスクに書き、qを使ってmac-fdiskを終了してください。 - Gentoo Linux

Also, z is specified to 0≤z≤0.35, v to 0≤v≤1.0 and w to 0≤w≤0.35.例文帳に追加

また、ｚは０≦ｚ≦０．３５、ｖは０≦ｖ≦１．０、ｗは０≦ｗ≦０．３５とする。 - 特許庁

The exposure section 20 applies the liquid immersion exposure processing to the substrate W and thereafter the substrate W is carried to the cleaning section 40, wherein the substrate W is cleaned.例文帳に追加

露光部２０にて基板Ｗの液浸露光処理を行った後に、その基板Ｗを洗浄部４０に搬送して洗浄する。 - 特許庁

Instead of single incorporation of W, Mo and W may be compositely comprised so as to satisfy 2Mo+W: 0.10 to 1.40%.例文帳に追加

なお、Ｗ単独含有に代えて、２Mo＋Ｗ：0.10〜1.40％を満足するようにMoとＷを複合含有してもよい。 - 特許庁

At least one of the holding members 52 holding wafers W is formed in a manner that a load given to a wafer W may be different from those given to the other wafers W.例文帳に追加

ウェハＷを保持する保持部材５２の少なくとも一つを、ウェハＷに付与される荷重が異なるように形成する。 - 特許庁

A length (d) of the opening in the thickness direction of the chip is determined to 0.5 W≤d≤0.9 W to a thickness W of the chip.例文帳に追加

チップの厚み方向の穴の長さｄは、チップの厚みＷに対して、０．５Ｗ≦ｄ≦０．９Ｗになるように構成される。 - 特許庁

The new President will have a lot of trouble working out what to do with [how to treat] Mr. W. 例文帳に追加

W 氏の処遇をいかにするかは新総裁にとっても頭の痛いところだろう. - 研究社 新和英中辞典

As to/w/ in sounds other than WA-row sounds,/kwa/ remains but/kwi/ and/kwe/ seem to have been unified with/ki/ and/ke/ respectively. 例文帳に追加

/w/はワ行のほかには「くわ」/kwa/は残ったが、/kwi/、/kwe/はそれぞれ/ki/、/ke/に統合したようである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The beam member extends to a direction parallel with the external wall (W), and connects the perpendicular supports adjacent to each other.例文帳に追加

梁部材は、外壁面(W)と平行な方向に延び、隣り合う垂直支柱を相互連結する。 - 特許庁

Raw water W is fed to a pre-treating system 1 to remove turbidity components in the raw water W.例文帳に追加

原水Ｗを前処理システム１に供給して、原水Ｗ中の濁質成分を除去する。 - 特許庁

A part from a point W to a free edge F is rotatable to a rear side with the point W as a fulcrum.例文帳に追加

Ｗ点を支点として、Ｗ点から自由端Ｆまでの部分は後方へ回動可能である。 - 特許庁

A solvent S1 is fed to the center part of a wafer W to pre-wet the surface of the wafer W.例文帳に追加

先ずウェハＷの中心部に溶剤Ｓ１を供給し、ウェハＷの表面をプリウェットする。 - 特許庁

In addition, AC% is an abbreviation for atomic concentrate % and is the percentage of the number of atoms of the oxide of W with respect to the total number of atoms of W and the oxide of W.例文帳に追加

なお、ＡＣ％とはatomic concentrate % の略で、Ｗの酸化物の原子数のＷおよびＷの酸化物の総原子数に対する％をいう。 - 特許庁

Consequently, the polyorganosiloxane latex having the ratio of the weight-average particle diameter (d_w) to a number- average particle diameter (d_n) of ≤2.0 is obtained.例文帳に追加

このようにして、重量平均粒子径（ｄ_w）と数平均粒子径（ｄ_n）との比（ｄ_w／ｄ_n）が２．０以下であるポリオルガノシロキサンラテックスを得る。 - 特許庁

After that, the wafer W is rotated at a high speed, and the coating liquid on the wafer W is spread to the entire surface of the wafer W.例文帳に追加

その後ウェハＷを高速度で回転させ，ウェハＷ上の塗布液がウェハＷ全面に広げられる。 - 特許庁

To provide a reset circuit also having a function of H/W reset by S/W while utilizing an advantage of the S/W reset.例文帳に追加

Ｓ／Ｗリセットのメリットを活かしつつ、Ｓ／ＷによりＨ／Ｗリセットの機能も兼ね備えたリセット回路を提供する。 - 特許庁

In the next step, eigenvalues of obtained low-rank approximate matrices of W_Z, W_Y, W_X are used to constitute normalized Laplacian L.例文帳に追加

次の段階では、得られたＷ_Z，Ｗ_Y，Ｗ_Xの低ランク近似行列の固有値を用いて、正規化ラプラシアンＬが構成される。 - 特許庁

With a carrier 2 holding a wafer W rotated, the wafer W is forced into contact with a rotating platen 1 to polish the surface of the wafer W.例文帳に追加

ウエハＷを保持したキャリア２を回転させながらウエハＷを回転する定盤１に接触させて、ウエハＷの表面を研磨する。 - 特許庁

The punched rectangular electromagnetic steel plates are laminated and bonded together, in the direction of the width W for the formation of the leg cores 3, and W and H are so as to satisfy the relation H/W>1.例文帳に追加

脚鉄心３は、矩形に打ち抜かれた電磁鋼板を幅Ｗ方向に積層接着し、高さＨと幅Ｗの比がＨ／Ｗ＞１である。 - 特許庁

The compact self-ballasted fluorescent lamp is made to have incandescent lamps having power consumption of 40 W equivalent, 60 W equivalent and 100 W equivalent in common.例文帳に追加

電球形蛍光ランプは、白熱電球の消費電力の４０Ｗ相当、６０Ｗ相当、１００Ｗ相当とを共通化させる。 - 特許庁

When a work W is conveyed, pins 5a are raised to receive the work W and then lowered, and the work W is thus placed on a work stage 4.例文帳に追加

ワークＷが搬送されると、ピン５ａが上昇し、ワークＷを受け取りピン５ａが下降する。 - 特許庁

In addition, since the temperature of the wafer W is raised while the wafer W is pre-aligned, it is not required to separately provide any temperature raising time for the wafer W.例文帳に追加

また、ウェハＷのプリアライメント時間内にウェハを昇温するため、ウェハを昇温する時間を別に設ける必要がない。 - 特許庁

In addition, since the temperature of the wafer W is raised while the wafer W is kept in the wafer cassette 10, it is not required to separately provide any temperature raising time for the wafer W.例文帳に追加

また、ウェハＷの保管時間内にウェハを昇温するため、ウェハを昇温する時間を別に設ける必要がない。 - 特許庁

When the wafer W is reciprocated, a stripping solution is supplied with a low pressure from a nozzle 11 to the wafer W, and a film formed on the surface of the wafer W swells up.例文帳に追加

基板Ｗの往復移動中に、まずノズル１１から低圧で剥離液が基板Ｗに供給されて、その表面の被膜が膨潤される。 - 特許庁

To provide an electric bending tool with which a reinforcing bar W is bent correctly at a desired angle even when the outside diameter of the reinforcing bar W is changed.例文帳に追加

鉄筋Wの外径が変わっても所望角度に正確に曲げることが可能な電動式曲げ工具を提供する。 - 特許庁

In addition, the width W of the non-penetration area satisfies the requirement of W ≤ {(Ws-W)/2} in the relationship to the width Ws of the slit.例文帳に追加

また、不貫通領域の幅Ｗが、スリットの幅Ｗｓとの関係において、Ｗ≦｛（Ｗｓ−Ｗ）／２｝の要件を満たすようにする。 - 特許庁

poetry is something to which words are the accidental, not by any means the essential form- Frederick W. Robertson 例文帳に追加

詩は本質的な形式の方法ではなく、偶然的な何かである−フレディリック・W・ロバートソン - 日本語WordNet

w Specifies the window that you want to add or delete from the client's save-set.例文帳に追加

w 1iクライアントのセーブセットに追加または削除するウィンドウを指定する。 - XFree86

By default,it will attempt to fit as many columns of font names into the number ofcharacter specified by -w width 例文帳に追加

デフォルトでは、\\-w width によって指定された文字数内にフォントを詰め込もうと試みる。 - XFree86

w) mentions of the final and irrevocable decisions, according to Art.57 paragraph (4) of the Law;例文帳に追加

(w) 本法第57条第4段落よる，最終かつ取消不能の決定に関する言及 - 特許庁