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Si-Kとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 シク
「Si-K」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 73件
To provide a method for etching by which a High-k film can be etched by suppressing the etching of an element separating region or Si substrate.例文帳に追加
素子分離領域あるいはSi基板のエッチングを抑えつつ、High-k膜のエッチングを行う。 - 特許庁
The imaging device 1 is formed of silicon (Si) whose thermal expansion coefficient is 4 ppm/K.例文帳に追加
撮像素子1は、熱膨張係数が4ppm/Kのシリコン(Si)で形成する。 - 特許庁
Then, a snow index SI is calculated for each mesh by using a formula SI=H×V^m×K^n (1≤m≤3, 1≤n≤3).例文帳に追加
1≦m≦3、1≦n≦3の範囲でSI=H×V^m×K^nの式により、各メッシュ2毎に雪指標SIを算出する。 - 特許庁
The coating elements are one or more elements selected from Mg, Al, Co, K, Na, Ca, Si, Ti, Sn, V, Ge, Ga, B, As and Zr.例文帳に追加
コーティング元素は、Mg,Al,Co,K,Na,Ca,Si,Ti,Sn,V,Ge,Ga,B,As,Zrから選択される一つ以上の元素である。 - 特許庁
The high-k gate insulating layer formed between an Si substrate 11 and a gate electrode 17 comprises an interface layer 15 formed on an interface with the Si substrate 11, and the high-k layer 16 which is formed on the interface layer 15 and has a relative dielectric constant higher than that of the interface layer 15.例文帳に追加
Si基板11とゲート電極17との間に形成されるhigh-kゲート絶縁膜は、Si基板11との界面に形成された界面層15と、界面層15の上に形成され且つ界面層15よりも比誘電率が高いhigh-k層16とを有する。 - 特許庁
The high-k gate insulation film formed between an Si substrate 11 and a gate electrode 17 comprises an interface layer 15 formed on an interface with the Si substrate 11, and a high-k layer 16 which is formed on the interface layer 15 and has a high relative permittivity than that of the interface layer 15.例文帳に追加
Si基板11とゲート電極17との間に形成されるhigh-kゲート絶縁膜は、Si基板11との界面に形成された界面層15と、界面層15の上に形成され且つ界面層15よりも比誘電率が高いhigh-k層16とを有する。 - 特許庁
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遺伝子名称シソーラスでの「Si-K」の意味 |
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SIK
| human | 遺伝子名 | SIK |
| 同義語(エイリアス) | Serine/threonine-protein kinase SNF1LK; Serine/threonine-protein kinase SNF1-like kinase 1; MSK; SNF1LK; SNF1-like kinase | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P57059 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:150094 | |
| その他のDBのID | HGNC:11142 |
| mouse | 遺伝子名 | Sik |
| 同義語(エイリアス) | PTK6 protein tyrosine kinase 6; Ptk6; Tksk; SRC-related intestinal kinase; Tyrosine-protein kinase 6; BRK; tks | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q64434 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:20459 | |
| その他のDBのID | MGI:99683 |
| mouse | 遺伝子名 | Sik |
| 同義語(エイリアス) | Serine/threonine-protein kinase SNF1LK; Myocardial SNF1-like kinase; Snf1lk; HRT-20; Serine/threonine-protein kinase SNF1-like kinase 1; salt inducible kinase; Msk; SNF1-like kinase | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q60670 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:17691 | |
| その他のDBのID | MGI:104754 |
| mouse | 遺伝子名 | SIK |
| 同義語(エイリアス) | Nol5; MSSP; SIK similar protein; MGC105209; nucleolar protein 5 | |
| SWISS-PROTのID | --- | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:55989 | |
| その他のDBのID | MGI:1933184 |
| rat | 遺伝子名 | Sik |
| 同義語(エイリアス) | Protein kinase KID2; Salt-inducible protein kinase; Serine/threonine-protein kinase SNF1LK; salt-inducible protein kinase; Snf1lk; Kid2; Serine/threonine-protein kinase SNF1-like kinase 1; SNF1-like kinase | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q9R1U5 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:59329 | |
| その他のDBのID | RGD:69407 |
本文中に表示されているデータベースの説明
Wiktionary英語版での「Si-K」の意味 |
sik
出典:『Wiktionary』 (2026/03/14 22:15 UTC 版)
形容詞
sik (comparative more sik, superlative most sik)
参照
- “sik”, in Collins English Dictionary, 2011–present.
別の表記
発音
- IPA: /sik/, /siːk/
形容詞
sik
派生した語
- English: sick
- Tok Pisin: sik
- → Dutch: sick
- → Navajo: sxih
- → Tamil: சீக்கு (cīkku)
- Scots: seek, seeck
- Yola: zeek
参照
- “sī̆k, adj.”, in MED Online, Ann Arbor, Mich.: University of Michigan, 2007.
Weblio例文辞書での「Si-K」に類似した例文 |
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sik
sakis
skuas
saigas
sandgrouses
テグー
tejus
シャクガ
プーク
「Si-K」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 73件
The Mg-based ferrite material includes Li, Na, K, Pb, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, or their combinations, wherein the saturation magnetization is 30 to 80 emu/g and the dielectric breakdown voltage is 1.5 to 5.0 kV.例文帳に追加
本発明のMg系フェライト材料は、Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, またはそれらの組み合わせを含み、飽和磁化が30〜80emu/gであり、絶縁破壊電圧が1.5〜5.0 kVである。 - 特許庁
Heat resistance of the Si susbtrate 102 in the direction of forming the gradient of the temperature distribution is larger than 20 K/W and smaller than 2,000 K/W.例文帳に追加
この温度分布の勾配が形成される方向におけるSi基板102の熱抵抗が20K/Wより大きくかつ2000K/Wより小さい。 - 特許庁
The flux ingredient preferably comprises one kind of flux, or two or more kinds of mixed fluxes, selected among from a K-Al-F based flux, a Na-Al-F based flux, a K-Si-F based flux, and a Na-Si-F based flux.例文帳に追加
フラックス成分は、K−Al−F系、Na−Al−F系、K−Si−F系、及び、Na−Si−F系、から選択される1種のフラックス、又は2種以上の混合フラックスからなることが、望ましい。 - 特許庁
The recipient (i) uses a receiver 200 to receive the encryption information zi of information K polled from the transmitter 100, and decodes it by using its own private key si to obtain the information K.例文帳に追加
一方、受信者iは、受信装置200により、送信装置100より同報送信された暗号情報z_iを受信し、自身の秘密鍵s_iを用いて復号し情報Kを得る。 - 特許庁
A part of Fe can be replaced with the other metal component M (which is selected among Na, K, Ca, Mg, Cr, Mn, Co, Mo, V, Ti, Ni, Al and Si).例文帳に追加
Feの一部を、他の金属成分M(Na,K,Ca,Mg,Cr,Mn,Co,Mo,V,Ti,Ni,AlおよびSiから選んだもの)で置き換えることも可能である。 - 特許庁
A part of the Fe may be replaced with an another metal ingredient M selected from Na, K, Ca, Mg, Cr, Mn, Co, Mo, V, Ti, Ni, Al and Si.例文帳に追加
Feの一部を他の金属成分M(Na,K,Ca,Mg,Cr,Mn,Co,Mo,V,Ti,Ni,AlおよびSiから選んだもの)で置き換えることが可能である。 - 特許庁
To provide equipment and a method of depositing a thin film by chemical vapor deposition which enable obtaining a material having high permittivity (High-k) constituted of a metal oxide thin film on an Si substrate without oxidizing the interface with the Si substrate by small-sized equipment and at a low cost.例文帳に追加
Si基板上に金属酸化薄膜からなる誘電率の高い材料(High-k)をSi基板との界面を酸化することなく小型で、かつ、コスト安に得ることができる化学気相成長法による薄膜堆積装置および堆積方法を提供すること。 - 特許庁
A matrix decomposition part 44 generates a basis matrix Wi including multiple bases Ci[1] to Ci[K] and a coefficient matrix Hi including multiple weight sequences Ei[1] to Ei[K], through non-negative matrix factorization of observation matrix Vi of each sound signal si (s1 and s2).例文帳に追加
行列分解部42は、各音響信号si(s1,s2)の観測行列Viの非負行列因子分解で、複数の基底Ci[1]〜Ci[K]を含む基底行列Wiと複数の重み系列Ei[1]〜Ei[K]を含む係数行列Hiとを生成する。 - 特許庁
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