「"lift off"」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目)

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例文 (412件)

"lift off"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 412件

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例文

When an object to be cleansed is cleaned by ultrasonic waves corresponding to the characteristic frequency of the board 1; a resonance occurs on the object to be cleaned, which causes ultrasonic waves to act efficiently and uniformly on the object to be cleansed; and this significantly improves the efficiency, certainty, and the stability of cleansing carried out by a lift-off process, etc.例文帳に追加

したがって、被洗浄物である基板１の固有振動数に応じた超音波によって洗浄を行うと、被洗浄物に共振が発生し、被洗浄物に効率的かつ均一に超音波を作用させることができ、リフトオフプロセスなどによる洗浄効率、洗浄の確実性および安定性を大幅に向上させることができる。 - 特許庁

The noncontact and nonmagnetic distance sensors 2 for transmitting and receiving light 3 to and from the eddy current flaw detection coil 1 are put side by side, measure a signal obtained from the distance sensor 2 simultaneously with the eddy current flaw detection signals, correct the eddy current flaw detection signal caused by lift-off, and separate the eddy current flaw detection signal caused by marks and a change 4 in quality.例文帳に追加

渦電流探傷コイル１に光３を送受信する非接触かつ非磁性の距離センサ２を併設し、距離センサ２より得られる信号を渦電流探傷信号と同時計測することにより、リフトオフに起因する渦電流探傷信号を補正し、きずや材質の変化４に起因する渦電流探傷信号とを分離する。 - 特許庁

The ferromagnetic thin membrane layer 15 has 0.5-50 oersted coercive force, may have a squareness ratio regulated so as to be 0.7-1.0, may be formed into the pattered one by a thin film-removing means such as a laser processing method, an etching method and a lift-off method, and further may have a bar code mark formed by patterning.例文帳に追加

上記強磁性薄膜層１５は、保磁力が０．５〜５０エルステッドで、かつ角型比が０．７〜１．０に調整されているようにでき、レーザ加工法、エッチング法、リフトオフ法等の薄膜除去手段によりパターン化されたものとすることができ、また、バーコードマークをパターン化して設けることができる。 - 特許庁

To provide a biometric device capable of accurately measuring by a sensor which has good touch feeling, where it does not lift off the worn sites even if the worn sites has different shapes and sizes based on individual variety with the sensor such as a pulse wave measuring sensor closely attached to the worn sites and pressed by suitable pressure, and with the position not out of alignment during exercise and training.例文帳に追加

装着感も良好で、しかも、個人差によって形状、大きさの異なる被装着部位でも、浮いた状態とならず、脈波測定用センサーなどのセンサーが、被装着部位に密着して適度な押圧力で押圧され、しかも、運動中、トレーニング中などにおいて位置がずれることなく、センサーによる正確な測定を実施することができる生体測定装置を提供する。 - 特許庁

例文

The organic EL display device is provided with a substrate, a first electrode formed on the substrate, one or more organic layers at least involved in luminescent function, and a second electrode formed on the organic layer, and it is so structured in the manufacturing method that at least one of the above layers is formed by a method of application and patterned by a lift-off method.例文帳に追加

基板と、この基板上に形成された第１の電極と、少なくとも発光機能に関与する１種類以上の有機層と、この有機層上に形成された第２の電極とを有し、前記有機層の少なくとも１層が塗布法により形成され、かつリフトオフ法によりパターニングされている構成の有機ＥＬ表示装置および製造方法とした。 - 特許庁

例文

In addition, since both the two-layer resist pattern 5 and a soluble layer pattern 2A are removed by dissolution through one time operation by using a solvent which can dissolve both the patterns 5 and 2A, the first thin film pattern 17 having more minute size can be formed easily with high accuracy by performing smooth lift-off operation without causing any burrs in the first thin film pattern 17.例文帳に追加

また、２層レジストパターン５および可溶層パターン２Ａを共に溶解可能な溶剤を用いてこれらを１回の操作で溶解除去するので、第１の薄膜パターン１７にバリを発生させることなく円滑なリフトオフ操作を行うことができ、より微小な寸法を有する第１の薄膜パターン１７を高精度かつ容易に形成することができる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the surface acoustic wave device, first electrode layers 2a on the electrode pad are formed on the piezoelectric substrate 1 through etching operation; after the layers 2a have been formed, electrodes 5a for a surface acoustic wave element are formed by the lift-off method; and an electrode film which comprises second electrode layers 7a and wiring electrodes 7a on the electrode pad are formed.例文帳に追加

圧電基板１上に電極パッドの第１の電極層２ａをエッチングにより形成し、第１の電極層２ａを形成した後に、弾性表面波素子用電極５ａをリフトオフ法により形成し、しかる後電極パッドの第２の電極層７ａ及び配線電極７ｂを有する電極膜を形成する、弾性表面波装置の製造方法。 - 特許庁

The reason why one lead is divided into a plurality of partial leads as in this embodiment is that, when soldering is carried out according to the flow process using lead-free solder, the stress generated when the solder is cooled is alleviated by the deformation of individual partial leads to prevent the generation of the lift-off phenomenon.例文帳に追加

本実施例の如く１本のリードを複数本に分割カットした理由は、鉛フリーハンダを用いてフロー方式によるハンダ付けを行った際に、電子部品のリードを分割し複数本とすることにより、ハンダが冷却する時に生じる応力を個々のリードを変形させて吸収し、リフトオフ現象の発生を防ぐことにある。 - 特許庁

To provide an eddy current measuring sensor and an eddy current measurement method with which a hardened depth measurement test can be conducted with high detection accuracy even when inspecting a high-frequency hardened component with a widely changing outer diameter or a recessed part, and measurement accuracy can be improved by eliminating influence of lift-off at the measurement of the hardened depth.例文帳に追加

外径が大きく変化したり、凹部を有したりするような高周波焼入れ部品を検査する場合であっても高い検出精度で焼入れ深さ測定試験を行うことができ、また、焼入れ深さの計測にあたってリフトオフの影響を排除することで計測精度を向上させることが可能となる、渦流計測用センサ及び渦流計測方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a probe for eddy current examination capable of always keeping lift-off between the probe and a measuring object constant, acquiring an action effect similar to the case of holding vertically without intentionally holding the probe vertically, and thereby quickly performing accurate and precise measurement without requiring any skill in an eddy current examination work.例文帳に追加

プローブと測定対象物とのリフトオフを常に一定に保ち、且つ、プローブを意識的に垂直に保持することなく、垂直に保持したと同様の作用効果が得られ、以て、渦流探傷作業に際し、何ら熟練を要することなく、正確で精密な測定を迅速に行なうことが可能な渦流探傷用プローブを提供することを課題とする。 - 特許庁

例文

This method includes the steps for: forming an etching mask extending in a predetermined direction on a second semiconductor region 30 of a substrate product 10A having first and second semiconductor regions 20, 30 including an InP based compound semiconductor; forming a stripe mesa structure 40 by performing dry etching using an etching mask, and then performing wet etching; forming an insulation film 42; and forming an electrode 50 by the lift-off method.例文帳に追加

この方法は、ＩｎＰ系化合物半導体を含む第１及び第２の半導体領域２０，３０を有する基板生産物１０Ａの第２の半導体領域３０上に、所定方向に延びるエッチングマスクを形成する工程と、エッチングマスクを用いてドライエッチングを行い、その後にウェットエッチングを行うことによりストライプメサ構造４０を形成する工程と、絶縁膜４２を形成する工程と、リフトオフ法により電極５０を形成する工程とを備える。 - 特許庁

例文

The manufacturing method of a metallic material layer has a process for forming a resist layer on a substrate, a process for forming a resist pattern by patterning the resist layer, a process for disposing an organic metallic solution on the substrate and on the resist pattern, a solvent removal process for removing solvent of the organic metallic solution, and a lift-off process for removing the resist pattern after the solvent removal process.例文帳に追加

本発明の一つの側面は、基板上にレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層をパターニングすることによってレジストパターンを形成する工程と、前記基板上及び前記レジストパターン上に有機金属溶液を配置する工程と、前記有機金属溶液の溶媒を除去する溶媒除去工程と、前記溶媒除去工程の後に前記レジストパターンを除去するリフトオフ工程とを有する金属材料層の製造方法にある。 - 特許庁