「"lift off"」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To form a magnetic domain controlling film and an electrode film by undercutting an under-layered resist of a part used for machining track width of a read head, thereby forming a hollow lift-off-pattern.例文帳に追加

リードヘッドのトラック幅加工に用いられる部位の下層レジストをアンダーカットして中空形状のリフトオフパターンを形成して磁区制御膜及び電極膜を形成すること。 - 特許庁

To provide an eddy flaw detecting apparatus capable of detecting a flaw in an object of flaw detection even of a large lift-off provided with a nonconductive coating without the need for a bridge to be connecting to a detecting coil.例文帳に追加

検出コイルに接続するブリッジが不要であり、非導電体皮膜を施されリフトオフの大きい探傷対象物においても探傷が可能な渦流探傷装置を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method wherein, when etching a chemically stable material, the dry etching technique is mainly used while partially using the lift-off technique and thereby what is called the fence can be prevented and there is no overetching, and to provide a high-durability ink jet head using the same.例文帳に追加

化学的に安定な材料をエッチングする場合、ドライエッチングを主に、部分的にリフトオフをすることで、フェンスを防止し、オーバーエッチングのないパターン形成をする。 - 特許庁

A lift-off remover 50 comprises a removing solution bath 1, an ultrasonic wave generator 2 provided at the bottom of the removing solution bath 1, and a holder member 3 for holding a substrate 10 to be processed.例文帳に追加

リフトオフ用剥離装置５０は、剥離液槽１と、剥離液槽１の底部に超音波発生装置２と、処理する基板１０を保持する保持部材３とを備える。 - 特許庁

In addition, at least a surface of the substrate 1 on which the interconnection pattern 2 is to be formed is mirror-polished, subsequently the interconnection pattern 2 is formed using the lift-off method on the mirror polished surface.例文帳に追加

また、基板１の、少なくとも配線パターン２を形成すべき面を鏡面研磨した後、該鏡面研磨を施した面に、リフトオフ法により配線パターン２を形成する。 - 特許庁

A resist 24 for lift-off is applied, exposed and developed on the outer peripheral part of a high molecule optical waveguide element 13 of which the core layer 21 is surrounded by a clad layer 22 and the resist in an electric wiring pattern is removed, thus the surface of an element 13 is exposed.例文帳に追加

コア層２１をクラッド層２２で囲んだ高分子光導波路素子１３の外周部に、リフトオフ用レジスト２４を塗布、露光、現像して電気配線パターンの形状で除去し、素子１３の表面を露出する。 - 特許庁

To provide a means for easily obviating a defect of the lift-off method being one of the forming methods of an electrode pattern, that is, a residual substance formed on a side face of a resist pattern without giving effect on the electrode pattern.例文帳に追加

電極パターンの形成法の１であるリフトオフ法の欠点、即ちレジストパターンの側面に形成される残渣を電極パターンに影響を及ばさず容易に取り去る手段を得る。 - 特許庁

The grip device 26 and the dynamic lift off device 27 are formed in half-divided structure opened/closed by a driving device and capable of respectively taking in the columnar body such as a pole 17 between two divided bodies.例文帳に追加

把持装置２６および地切り装置２７は駆動装置により開閉される半割り構造をなしてそれぞれ２つの分割体間に電柱１７等の柱状体を横方向より取り込み可能である。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus of a semiconductor stacked element and a manufacturing method thereof, which shortens a long working time required for joining a stacked element etc. on a semiconductor and applying laser lift off thereto, and reduces a stress applied to the stacked element etc. or thermal/dynamic/chemical load applied thereto.例文帳に追加

半導体上に積層素子等を接合し、且つそれをレーザーリフトオフするために長時間を要していた作業時間を短縮化する。 - 特許庁

A signal processor 30 is constituted so as to perform the operation of the formula 4 using the vector sum output signal V(y) corrected on the basis of the variation value of the lift-off quantity to calculate the melt-in depth X of the bead part 52.例文帳に追加

信号処理装置３０はリフトオフ量変動値で補正したベクトル和出力信号Ｖ（ｙ）を用いて式４の演算を行い、ビード部５２の溶け込み深さＸを算出する。 - 特許庁

To restrain lift-off noise from being generated even when an unevenness exists on a surface of an inspected object, in non-contact inspection using a multi-coil for eddy current flaw detection.例文帳に追加

渦電流探傷用マルチコイルを用いた非破壊検査において、被検査体の表面に凹凸があってもリフトオフノイズの発生を抑制することにある。 - 特許庁

To form an isolated line pattern with high controllability by using a multiple resist layer having a two-layer structure with a LOF (lift-off) layer left in the lower part of the resist in the method for forming a fine resist pattern.例文帳に追加

微細レジストパターンの形成方法に関し、ＬＯＦ層をレジスト下部に残した２層構造の積層レジスト層を用いて、孤立ラインパターンを制御性良く形成する。 - 特許庁

To provide a device for accurately inspecting the state of a welded part by a non-destructive system even when the melt-in depth of the welded part is large and the variation of lift-off quantity is considerably large.例文帳に追加

溶接部の溶け込み深さが深くリフトオフ量の変動がかなり大きい場合でも、正確にかつ非破壊方式で、溶接部の状態を検査する装置を提供する。 - 特許庁

To provide an eddy current flaw detection multi-coil type probe capable of narrowing lift-off dispersion of a flaw detection coil to restrain dispersion of sensitivity from increasing, and capable of enhancing inspection precision, and provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

探傷コイルのリフトオフばらつきを小さくして感度バラツキの増大を抑え、検査精度を向上することができる渦流探傷マルチコイル式プローブ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The exciting coil 21 is constituted, so that the diameter thereof becomes 5 mm or larger, and the initial lift-off quantity thereof becomes 1.3 mm or more, to reduce an eddy current change ratio.例文帳に追加

励磁コイル２１の直径が５ｍｍ以上で、且つ初期リフトオフ量が１．３ｍｍ以上となるように構成することにより渦電流変化率を低減したものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a SAW device with which the manufacture cost is reduced through the use of the lift-off method and interdigital electrodes which have a comparatively large mass can be formed.例文帳に追加

ＳＡＷデバイスを製造する場合、比較的質量の大きいすだれ状電極は電極膜厚が厚くなるため、リフトオフ法で加工することができない。 - 特許庁

To provide a method for forming wiring of a display device in which an upper layer of metal wiring is completely covered with a wiring protective film in the case the metal wiring is formed with a lift-off method.例文帳に追加

リフトオフ法により金属配線を形成する場合において、金属配線の上層を配線保護膜で完全に被覆する表示装置の配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head, by which the necessary time in its manufacturing stage can be reduced by making it possible to perform lift-off in a short time.例文帳に追加

短時間でリフトオフを行うことを可能にすることにより、製造工程の所要時間の短縮を図ることができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

The lift-off hinge assembly 1 is an assembly comprising a frame side hinge 10 as a first hinge, a door side hinge 30 as a second hinge and a turning (opening/closing) movement restricting section 50.例文帳に追加

抜差し蝶番１は、第１のヒンジであるフレーム側ヒンジ１０と、第２のヒンジである扉側ヒンジ３０と、回動（開閉）制限部５０を有し、これらの組品である。 - 特許庁

To evaluate a defect signal from data in flaw detection tests directly and easily, and to reduce inspection time without being affected by noise generated in lift-off.例文帳に追加

探傷試験時のデータから直接簡便に欠陥信号を評価し、リフトオフ時に生ずるノイズに影響されず、かつ、検査時間の短縮を実現する。 - 特許庁

To provide an eddy current flaw detection multi-coil probe and its manufacturing method for reducing an increase in a sensitivity fluctuation by reducing a lift-off fluctuation of flaw detection coils, and improving the inspection accuracy.例文帳に追加

探傷コイルのリフトオフばらつきを小さくして感度バラツキの増大を抑え、検査精度を向上することができる渦流探傷マルチコイル式プローブ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an eddy current flaw detection probe, an eddy current flaw detection device, and an eddy current flaw detection method for performing flaw detection of a defect inside a capillary, and eliminating an error resulting from lift-off of a probe included in a flaw detection signal.例文帳に追加

細管内面の欠陥を探傷することができると共に、探傷信号に含まれるプローブのリフトオフに起因する誤差をなくすことができる渦流探傷プローブ、渦流探傷装置、及び渦流探傷方法を提供する。 - 特許庁

A lift-off type one-way cam clutch 23 having a cam lifted off depending upon a centrifugal force for engaging and disengaging the power transmission between an inner element and an outer element is provided between the output shaft 21 of the DC motor and the first pulley 22.例文帳に追加

直流電動機の出力軸２１と第１プーリ２２の間には、遠心力に依存してカムがリフトオフされインナとアウタ間の動力伝達を継合解除するリフトオフ型ワンウエイカムクラッチ２３とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask including a pattern forming process by lift-off, the method by which a film is accurately patterned while the occurrence of damage to a resist is suppressed.例文帳に追加

リフトオフによるパターンの形成工程を含むマスクの形成方法に関し、膜を精度良くパターニングし、しかもレジストのダメージ発生を抑制すること。 - 特許庁

A thin-film metallic resistance 16 is formed in a recessed part of an SiON film 14p by using a lift-off, and then a protection film 18d made of SiON is formed on the entire surface of a wafer.例文帳に追加

ＳｉＯＮ膜１４ｐの凹部にリフトオフを用いて薄膜金属抵抗１６を形成した後、ウェハ全面にＳｉＯＮの保護膜１８ｄを形成する。 - 特許庁

A dielectric film is formed on the insulating layer 51, protective film 52, and second sidewall 22, and the buried layer is formed by lift-off on both sides of a convex section 20 in contact with the second sidewall 22 and apart from the first sidewall 21.例文帳に追加

絶縁層５１、保護膜５２および第２の側壁２２の上に誘電体膜を形成し、リフトオフにより、突条部２０の両側に、第２の側壁２２に接触すると共に第１の側壁２１とは離間した埋込み層を形成する。 - 特許庁

To provide a resist removing agent for lift-off which can peel off and remove an overhanging resist pattern on a substrate in a short time, and which does not corrode a metal film and a method for manufacturing an electronic device using the same.例文帳に追加

基板上のオーバーハング状のレジストパターンを短時間で剥離、除去でき、しかも金属膜を腐食させないリフトオフ用レジスト除去剤、及び、該除去剤を用いた電子デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an eddy current flaw detection method capable of accurately evaluating a lift off amount even when a curved surface is inspected by using a flexible probe.例文帳に追加

フレキシブルなプローブを用いて、曲面の検査をする場合でも、リフトオフ量を精度良く評価できる渦電流探傷方法を提供することにある。 - 特許庁

An optical element produced in an epitaxial lift-off process is transferred to a portion in an optical integrated circuit where optical input and output are carried out to and from the optical wiring.例文帳に追加

エピタキシャル・リフトオフにより生成された光素子を、光集積回路内における光配線との間で光入出力を行う部位に転写する。 - 特許庁

A defect detecting apparatus 13a is installed in the position of a bridle roll 13a to suppress the fluttering of the band steel, lift-off fluctuation by the deformation of the strip and the contact with a sensor of the band steel.例文帳に追加

欠陥検出装置１３ａは、板ばたつき、板変形によるリフトオフ変動やセンサへの鋼帯の接触を抑えるため、ブライドルロール１３ａ位置に設置される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing metallic wires or metallic electrodes in which the generation of sidewall attachments (burrs) to be generated by a lift-off method adopting dipping in a peeling solution is suppressed in the case of forming the metallic wires or the metallic electrodes in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスにおいて、金属配線や金属電極を形成する際、剥離液の浸漬によるリフトオフ工法では、側壁付着物(バリ)が発生する。 - 特許庁

When the eddy current flaw detection probe is installed on a circumference surface of a cylindrical inspected body T and the disc DS is rotated, the distance (lift off) between the detection coils DC1, DC2 and an inspected surface changes, accordingly, detection sensitivity of flaw signal also changes.例文帳に追加

円筒状の被検査体Ｔの周面に渦電流探傷プローブを設置し、ディスクＤＳを回転すると、検出コイルＤＣ１，ＤＣ２と検査面の距離（リフトオフ）が変化するため、キズ信号の検出感度も変化する。 - 特許庁

To provide a castellation technique for improving lift-off of a thin film deposited on a photoresist, in a thin film device process which is particularly useful at manufacturing of a magnetic data transducer and a recording head.例文帳に追加

磁気データトランスデューサおよび記録ヘッドの製造において特に有用な薄膜装置プロセスにおける、フォトレジスト上に堆積された薄膜のリフトオフを改善するための築城技術を提供する。 - 特許庁

At the time of forming the soft magnetic thin film 6, the thin film is formed by a lift-off method by using a resist film 48 which is to be an inverted taper shape at an opening.例文帳に追加

また、この軟磁性薄膜６を形成する際には、開口部で逆テーパー型となるレジスト膜４８を用いて、リフトオフ法により形成する。 - 特許庁

In addition, metallic films 5a and 5b are respectively formed on the lift off pattern 2a and an organic film by vapor-depositing NiCr having a high RIE resistance on the whole surface of the substrate 4 and a resist pattern is formed by performing RIE on the organic film.例文帳に追加

また、耐ＲＩＥ性を示す金属材料として、ＮｉＣｒ、Ｐｄ、Ａｕの金属およびその合金を使用するのが有効である。 - 特許庁

To provide a method of surface treating a substrate which can remove organic residues, such as a release solution and a resist residue, etc. effectively without giving a damage to a compound semiconductor exposed after resist lift-off by the release solution.例文帳に追加

剥離液によるレジストリフトオフ後に露出した化合物半導体にダメージを与えることなく、剥離液やレジスト残渣等の有機残留物を効果的に除去できる基板表面処理方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of a patterned passivation film for preventing deterioration of an organic EL element caused by permeation of moisture from an ambient environment includes processes of: forming a patterned film for lift-off on the organic EL element; forming the passivation film after that; and separating the film for lift-off along with a part of the passivation film present on top of it.例文帳に追加

周囲環境から水分の浸透による有機ＥＬ素子の劣化を防止するためのパターンニングされたパッシベーション膜の製造方法であって、上記有機ＥＬ素子にパターニングされたリフトオフ用フィルムを形成する工程と、その後のパッシベーション膜を形成する工程と、上記リフトオフ用フィルムをその上に存在する上記パッシベーション膜の一部とともに剥離する工程と、を含んでなるパターニングされたパッシベーション膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacture for an electrode glass substrate of an ink jet head which adopts an electrostatic actuator as an ink discharge mechanism, an ITO thin film 17B for individual electrodes is formed by a first resist lift-off (ST7).例文帳に追加

静電アクチュエータをインク吐出機構として採用しているインクジェットヘッドの電極ガラス基板４の製造においては、第１回目のレジストリフトオフにより、個別電極用のＩＴＯ薄膜１７Ｂを形成する（ステップＳＴ７）。 - 特許庁

To provide a method for patterning source/drain electrodes and an active layer by etching without using any lift-off methods in the case of a material having properties capable of etching with at least the same type of etchant.例文帳に追加

ソース／ドレイン電極と活性層が、少なくとも同じ種類のエッチャントによってエッチング可能な性質を有する材料である場合において、リフトオフ法を使用せず双方をそれぞれエッチングによってパターニングする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor light emitting element of high luminance without deterioration, in which electrodes are oppositely installed, separation grooves for chip separation and laser lift-off are formed by etching, and a light emitting region is not damaged, and also to provide a manufacturing method of the light emitting element.例文帳に追加

電極が対向して設けられるとともに、チップ分離用やレーザーリフトオフ用の分離溝をエッチングにより形成する窒化物半導体発光素子であっても、発光領域に損傷が加わらず、劣化のない高輝度な窒化物半導体発光素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a nitride semiconductor light-emitting element capable of forming a high-luminance nitride semiconductor light-emitting element without any deterioration without damaging a light emitting region, when forming a separation groove for separating chips and that for laser lift-off.例文帳に追加

チップ分離用やレーザーリフトオフ用の分離溝を形成する場合に、発光領域に損傷が加わらず、劣化のない高輝度な窒化物半導体発光素子を形成することができる窒化物半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the thickness of an RIE(reactive ion etching) resist film within a specific range by forming a metallic pattern having a high RIE resistance on an organic film by the lift off method, and performing RIE on the organic film by using the metallic pattern as a resist.例文帳に追加

反応イオンエッチング（ＲＩＥ：Reactive Ion Etchting）を用いて、多層配線基板の有機膜パターンを作製する上で、金属膜をＲＩＥレジストにする場合に、基板とのアライメントをとることができる有機膜パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a thin film transistor in which alignment precision of a gate electrode, a source electrode and a drain electrode is enhanced without using an expensive deposition lift-off step, and overlap of the source electrode and drain electrode is reduced for the gate electrode.例文帳に追加

蒸着リフトオフという高価な工程を使用せずに、ゲート電極、ソース電極およびドレイン電極の位置合わせ精度を向上させ、ゲート電極に対するソース電極およびドレイン電極の重なりを小さい薄膜トランジスタ製造方法の提供。 - 特許庁

The photosensitive composition can be used to produce a desired cured pattern such as a flat panel display bulkhead pattern, a dielectric pattern, or an electrode pattern in good productivity by a lift-off method or a photolithographic method.例文帳に追加

このような感光性組成物を用いることにより、リフトオフ法やフォトリソグラフィー法により、フラットパネルディスプレイの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターンなどの所望の焼成物パターンを生産性良く形成できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film transistor in which a gate electrode and a source drain electrode are formed with high alignment precision and the source-drain electrode is patterned with high precision without performing a lift-off step.例文帳に追加

ゲート電極とソース・ドレイン電極を高いアライメント精度で形成することができるとともに、リフトオフ工程を行うことなくソース・ドレイン電極を高い精度でパターニングすることができる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁