「ピッチ比」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

凹凸構造Ｘ：凹凸の最頻ピッチＰ_ｘが２〜２００μｍであり、前記最頻ピッチＰ_ｘに対する最頻高さＨ_ｘの比Ｒ_ｘが０．３５０〜０．７１４である１次元又は２次元の凹凸構造。例文帳に追加

The rugged structure X is one-dimensional or two-dimensional rugged structure in which most frequent pitch P_x of ruggedness is 2 to 200 μm and a ratio R_x of most frequent height H_x to the most frequent pitch P_x is 0.350 to 0.714. - 特許庁

導光体４の裏面４４に設けられるレンズ列４４ａは、ピッチと高さとの比（ピッチ／高さ）が７〜２００の範囲内となるように形成されており、さらに、レンズ列４４ａの先端が曲面になるように形成されている。例文帳に追加

The lens columns 44a installed on the rear face 44 of the light guide body 4 are formed so that the ratio of pitch and height (pitch/height) may be 7-200, and furthermore, the top end of the lens columns 44a is formed so as to be curved surface. - 特許庁

複数のスペーサ２０は、Ｙ方向には抵抗膜間の貼り付き現象を防止するために狭いピッチｐ１にて配置され、Ｘ方向には所定の入力荷重を得るために比較的広いピッチｐ２にて配置される。例文帳に追加

The plurality of spacers 20 are arrayed in a Y direction at narrow pitches p1 to prevent a sticking phenomenon between the resistive films and arrayed in an X direction at relatively wide pitches p2 to ensure a predetermined input load. - 特許庁

凹凸構造Ｙ：凹凸の最頻ピッチＰ_ｙが３〜３８０ｎｍであり、前記最頻ピッチＰ_ｙに対する最頻高さＨ_ｙの比Ｒ_ｙが０．５〜１０である２次元凹凸構造。例文帳に追加

The rugged structure Y is two-dimensional rugged structure in which most frequent pitch P_y of ruggedness is 3 to 380 nm and a ratio R_y of most frequent height H_y to the most frequent pitch P_y is 0.5 to 10. - 特許庁

入力側櫛型インターデジタル電極３のデューティ比（Ａ＝電極幅ａ／ピッチＰ_A）と出力側櫛型インターデジタル電極４のデューティ比（Ｂ＝電極幅ｂ／ピッチＰ_B）との比（Ａ／ＢまたはＢ／Ａ）が１／６〜１／４になるように構成する。例文帳に追加

Ratio (A/B or B/A) for the duty ratio of an input side comb-line interdigital electrode 3 (A=electrode width (a)/pitch PA) and the duty ratio of an output side comb-line interdigital electrode 4 (B=electrode width (b)/pitch PB) is set so as to be 1/6 to 1/4. - 特許庁

強度変化率の大きい離散化データに対して、移動開始位置と停止位置の近傍で検出された格子１ピッチを移動するときの離散化データと格子１ピッチ以下を移動するときの離散化データの信号強度と信号個数を比較し、離散化された信号個数の比例演算から格子１ピッチ以下の移動距離を検出する。例文帳に追加

In the digitized data with the high strength change ratio, a signal strength and the number of signals of digitized data for movement by one grid pitch detected in the vicinity of a movement starting position and a stopping position are compared those of digitized data for movement by less than one grid pitch, and from proportional computing of the number of digitized signals, a movement distance below one grid pitch is detected. - 特許庁

そのピッチが（Ｄａ／２０）以下である隣接ディンプル対の数Ｎ２の数Ｎ１に対する比（Ｎ２／Ｎ１）は、０．５０以上である。例文帳に追加

The ratio (N2/N1) of the number N2 of the adjacent dimple pairs whose pitch is ≤(Da/20) to the number N1 is ≥0.50. - 特許庁

各ピッチ予測子次数に対する予測信号と符号化対象オーディオ信号とを比較して予測誤差を判定する。例文帳に追加

The predicted signals for each pitch predictor order are compared with the audio signal to be coded in order to determine a prediction error. - 特許庁

ピッチ比Ｐ（ｒ／Ｒ）／Ｐ（０．７Ｒ／Ｒ）の最大値に対応するｒ／Ｒは、０．４５＜ｒ／Ｒ＜０．５５の範囲に存在する。例文帳に追加

The ratio r/R corresponding to the maximum value of the pitch ratio P(r/R)/P(0.7R/R) is present in a range of 0.45<r/R<0.55. - 特許庁

表裏にレンズ部を有するレンズシートにおいて、表裏の単位レンズの配列されるピッチ比を、１：２〜１：３０の範囲とする。例文帳に追加

In the lens sheet having lens parts on the front and back sides, the array pitch ratio of the unit lenses on the front and back sides is set in the range of 1:2-1:30. - 特許庁

また、マグネットの着磁角θｒと極ピッチ角θｐとの比θｒ／θｐを０.５≦θｒ／θｐ≦０.９とする。例文帳に追加

A ratio θr/θp of a magnetization angle θr and a pole pitch angle θp of the magnet is set to satisfy an expression of 0.5≤θr/θp≤0.9. - 特許庁

その結果、最適な浮上高さ、ピッチ角およびロール角は比較的に簡単に実現されることができる。例文帳に追加

and consequently, optimum floating height, pitch angle, and roll angle can be achieved in a comparatively simple fashion. - 特許庁

また、ブレード部３２の周方向ピッチＰとコード長Ｃとの比Ｐ／Ｃが１．０≦Ｐ／Ｃ≦１．２の範囲にある。例文帳に追加

A ratio P/C of pitch P in the peripheral direction of the blade 32 to a chord length C is in a scope of 1.0≤P/C≤1.2. - 特許庁

ハーモニックとサブハーモニックの比率を用いて入力音声信号に対するピッチを検出する方法および装置が開示される。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for detecting a pitch in input voice signals by using a subharmonic-to-harmonic ratio. - 特許庁

ピッチ比Ｇｐ／Ｌｐが小さい場合であってもモアレが発生するのを防止することができる背面投写型スクリーンを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a rear projection type screen capable of preventing moire from occurring even when a pitch ratio Gp/Lp is small. - 特許庁

研磨用工具１は、比較的柔軟な材料からなるポリシャ１１をピッチ１３で支持したものである。例文帳に追加

A polisher 11 composed of relatively soft material is supported by pitch 11 in a polishing tool 1. - 特許庁

高炉樋用キャスタブル耐火物を使用して比較的緻密なブロック体を成型し、これにピッチを含浸させる方法。例文帳に追加

Castable refractories for a blast furnace runner are used to mold a relatively dense block body, and pitch is impregnated therein. - 特許庁

このような輪軸アンバランスや台車ピッチングなどが発生しているときには、車体と台車との間には比較的小さな力が伝達されている。例文帳に追加

When such the wheel set unbalance and carriage pitching are caused, relatively small force is transmitted between the car body and a carriage. - 特許庁

これらのことから、近接スポット間長さと、一定のスポットピッチとの長さの比率を一定にすることができる。例文帳に追加

The length ratio between the length between proximate spots and the constant spot pitch can be made constant accordingly. - 特許庁

単位形状要素の配列ピッチに対する単位形状要素の高さの比は、第１光学シートの方が第２光学シートよりも小さい。例文帳に追加

The ratio of the height of the unit profile elements to the array pitch of the unit profile elements is smaller in the first optical sheet than in the second optical sheet. - 特許庁

駆動回路を一方の基板に形成した電気光学装置において、比較的簡単な構成を用いて画素ピッチの微細化に対応する。例文帳に追加

To cope with minuteness of a pixel pitch by using a relative simple configuration in an electro-optical device forming a driving circuit on one of substrates. - 特許庁

レンズ列４４ａの配列ピッチＰ１をレンズ列４４ａの高さで除算したアスペクト比が７〜２００である。例文帳に追加

An aspect ratio of an array pitch P1 of the lens array 44a divided by the height of the lens array 44a is 7-200. - 特許庁

最大のシート寸法を下回るピッチモードでの任意のシート寸法について、反転器一時停止時間は比例的に増大する。例文帳に追加

For any sheet size within the pitch mode that is smaller than the maximum sheet size, the inverter dwell time will increase proportionally. - 特許庁

チューブに傷を生じさせることなく、比較的細いチューブであっても、深さが一定でピッチが均一な螺旋溝を形成する。例文帳に追加

To form a helical groove invariable in both depth and pitch in a tube without damaging it even if the tube is comparatively thin. - 特許庁

そして、柱状凸部１４ａの配置のピッチＰと先端部の幅Ｗとの比Ｐ／Ｗを１．３以上とする。例文帳に追加

Then, a ratio P/W of a pitch P of the arrangement of the columnar protrusion 14a and the width W of a tip is made to be 1.3 or larger. - 特許庁

パタンピッチに比べ大きな面積にわたり、均一で連続したパタン形状を有するパタン形成基板を提供することを目的の一とする。例文帳に追加

To provide a pattern forming substrate which has a uniform continuous pattern form over a larger area compared with a pattern pitch. - 特許庁

超薄肉形転がり軸受では、転動体３の直径ＤＢと軸受のピッチ円直径Ｐ．Ｃ．Ｄとの比が０．０３以下に設定される。例文帳に追加

The extremely thin rolling bearing has the ratio of a diameter DB of a roller 3 to a pitch circle diameter P.C.D of the bearing set to be 0.03 or less. - 特許庁

構造体の配置ピッチが３８０ｎｍ〜６８０ｎｍであり、構造体のアスペクト比が０．６２〜１．０９である。例文帳に追加

The layout pitch of the structures is 380-680 nm and the aspect ratio of the structure is 0.62-1.09. - 特許庁

ＩＤＴ電極は、電極幅Ｌｔと電極間ピッチＰｔとの比率Ｌｔ／Ｐｔが０．５以上、０．６５以下である。例文帳に追加

The IDT electrode is provided, in a manner such that the ratio of an electrode width Lt to an electrode pitch Pt, i.e., Lt/Pt is larger than 0.5 and smaller than 0.65. - 特許庁

この個数と基準ズーム状態時の白画像個数との比に基づいて生成するストライプ画像のパターン（ピッチ）を補正描画する。例文帳に追加

A pattern (pitch) of a stripe image generated, based on the ratio of this number to the number of white images in the reference zoom state, is corrected and plotted. - 特許庁

さらに、比較的高コストとなる狭ピッチ配線パターンの基板を必要最小限の大きさにすることができる。例文帳に追加

Furthermore, a fine-pitch interconnect line pattern board which is comparatively expensive can be reduced in size to an irreducible minimum. - 特許庁

プーリ・ベルト機構２１の各プーリ２９，３２のピッチ円直径を変更するのみで、モータ１９の減速比を極めて容易に変更できる。例文帳に追加

The reduction gear ratio of the motor 19 can be easily changed only by changing the diameter of the pitch circle of pulleys 29 and 32 of the pulley belt mechanism 21. - 特許庁

この軸受において、転動体３の直径Ｄ_Bと軸受のピッチ円直径ＰＣＤとの比を０．０３以下とする。例文帳に追加

On this bearing, a ratio of a diameter DB of the rolling element 3 and a pitch circle diameter PCD of the bearing is made to be less than 0.03. - 特許庁

また、平歯車部２７ｂおよび２８ａのいずれも、標準寸法と比較して基準ピッチ円の直径に大きな変化はない。例文帳に追加

Furthermore, both of the spur gear sections 27b, 28a have no large difference in the diameter of the standard pitch circle in comparison with the standard size. - 特許庁

凹凸部２３の１ピッチの長さｐに対する凸部２３ａの幅ｗの比率は０．８になっている。例文帳に追加

The ratio of the width (w) of the projecting part 23a with respect to the length (p) of one pitch of the rugged parts 23 is 0.8. - 特許庁

これらの音量、ピッチ、タイミングを比較し、その一致の度合いに基づいて装置が採点した得点を割り出す。例文帳に追加

Their sound volume, pitch, and timing values are compared with each other and the device calculates points according to how much they match each other. - 特許庁

一律にピッチを変更する場合に比べて、口及び喉の形状や骨格の異なる他人がしゃべるリアルな音声に聞こえる。例文帳に追加

The speech is hearable as the real speech spoken by the other person varying in the shape and skeleton of the mouth and throat as compared with the case pitches are uniformly changed. - 特許庁

プロジェクタのロール・ピッチ・ヨー方向の比較的迅速かつ容易な精密位置調整を提供する。例文帳に追加

To provide a relatively quick and easy precision projector position adjustment in roll, pitch, and yaw, orientations. - 特許庁

さらに、上流側に位置する熱交換器１２のフィンピッチを下流側に位置する熱交換器１３に比べて大きくする。例文帳に追加

Moreover, the fin pitch of the heat exchanger 12 positioned on the upstream side is made larger than that of the heat exchanger 13 positioned on the downstream side. - 特許庁

電子写真方式の画像形成装置について、主走査方向のビームピッチの変位を比較的高精度で簡易に検知できるようにする。例文帳に追加

To simply detect the deviation of a beam pitch in a main scanning direction at a comparatively high accuracy in an image forming device of an electrophotographic method. - 特許庁

攪拌ディスク１８の配列ピッチＰと回転体の外径Ｄ１との比Ｄ１／Ｐを１．４〜３．０の範囲に設定する。例文帳に追加

The ratio D1/P of the outside diameter D1 of the rotators to the array pitch P of the stirring disks 18 is set in the range of 1.4-3.0. - 特許庁

ファインピッチ化に対応し、簡単な構成で比較的大きな電流を流すことができるプローブを提供する。例文帳に追加

To provide a probe dealing with finer pitches, and causing a comparatively large current to flow with a simple configuration. - 特許庁

比較的低温で、低抵抗かつピッチの狭い配線を有する配線基板およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a wiring board having wiring low in resistance and narrow in pitch, which is formed at relatively low temperature, and to provide a method for manufacturing the same. - 特許庁

ピニオンギヤおよびリングギヤの噛合性能を確保しつつ、軸間ピッチや減速比等の設計自由度の大きなスタータを提供する。例文帳に追加

To provide a starter which has a large degree of freedom in designing a pitch between shafts, a reduction gear ratio or the like while the engaging performance of a pinion gear with a ring gear is assured. - 特許庁

高ランド比領域Ｚは、パターンピッチＰの周方向長さＰＬの２０〜３５％で連続する。例文帳に追加

The high land ratio regions Z continue by 20 to 35% of the length PL of the circumferential direction of the pattern pitch P. - 特許庁