「幾何学的パターン」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

また、前記幾何学的繰り返しパターン２を形成したフィルムに反射防止コーティングを施した。例文帳に追加

An antireflection coating is applied to the film on which the patterns 2 have been formed. - 特許庁

印刷パターンの幾何学的な再現性を高めて印刷精度を向上させる。例文帳に追加

To improve printing accuracy by enhancing the geometrical reproducibility of printing patterns. - 特許庁

窪み（９０）は、変化するパターンや異なる幾何学的形状を有することができる。例文帳に追加

The indentations 90 may have variable patterns or different geometric shapes. - 特許庁

第１のグループの冷却空気開口は一定の幾何学的パターンと密度で離間している。例文帳に追加

A first group of cooling holes is spaced apart according to a uniform geometric pattern and density. - 特許庁

マスク画像は、規則的な幾何学的パターンに分割され、該幾何学的パターンの角に定められるランドマークを用いることにより、コントラスト画像に対してマスク画像の位置合わせが行われる。例文帳に追加

The mask image is divided with regular geometrical patterns and a registration is made of the mask image relative to the contrast image through the use of landmarks defined at the corners of the geometrical patterns. - 特許庁

基板上に形成される幾何学的パターンの設計を効率化することを主な目的とし、さらには、パターンの設計変更を容易に行う。例文帳に追加

To efficiently design a geometric pattern to be formed on a substrate, and moreover, to easily change the designs of a pattern. - 特許庁

基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データにおいて、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上する。例文帳に追加

To improve design efficiency of a pattern by individually defining a basic pattern and a correction rule on pattern formation, in pattern forming data to be used on forming a geometric pattern on a substrate. - 特許庁

透明かつ弾性的な操作シート１２５にはストライプパターン、ハニカムパターン、格子パターンなどの所定の幾何学的なパターンが印刷されている。例文帳に追加

A prescribed geometrical pattern such as a stripe pattern, honey-comb pattern and a grid pattern is printed on a transparent and elastic operation sheet 125. - 特許庁

更にランドマークの堅牢性が試験され、堅牢性が不十分である場合には規則的な幾何学的パターンの細区画が行われる。例文帳に追加

The robustness of the landmarks is furthermore tested, and if the robustness is insufficient, a subdivision is made of the regular geometrical patterns. - 特許庁

フィルム１に電導性に優れた材料により２０〜１００μｍの線幅の幾何学的繰り返しパターン２を形成した。例文帳に追加

Geometrical repetitive patterns 2 in a line width of 20 to 100 μm are formed of a material of superior conductivity on a film 1. - 特許庁

実施の一形態において、完成した構造体は、様々な幾何学的角度の積み木片を使って、独特の審美パターンと相互関係を創り出している。例文帳に追加

In one embodiment, the perfected structure makes peculiar aesthetic appreciation patterns and an interrelationship using the building blocks pieces of various geometric angles. - 特許庁

カラー画像データをディザ処理にて減色する際、ディザパターンの付加による幾何学的な模様の見えを抑制するディザ処理装置を提供する。例文帳に追加

To restrain a geometric pattern appearance due to addition of a dither pattern, when a color image data is tone-reduced by dither processing. - 特許庁

幾何学的パターンによりスリーブに適切な弾性領域を与え、スリーブ使用時の軸芯のずれをなくしている。例文帳に追加

The geometrical patterns provide the sleeve with appropriate flexible areas, and when the sleeve is used, an axial center is prevented from being deviated. - 特許庁

金属線を芯材とし、印刷、レジスト処理等の手段により、芯材表面に幾何学的パターン等の不電導部を設ける。例文帳に追加

A non-electrical conduction part such as geometrical patterns is provided on the surface of a core material with a metal wire as the core material by a means such as printing and resist processing. - 特許庁

ｉ番目の幾何学的変換を指定するための指標ｉを初期設定し（Ｓ２）、ｉ番目の変換モデルパターンを作成する（Ｓ３）。例文帳に追加

An index (i) for designating the i-th geometric transformation is initialized (S2) to create the i-th transformed model pattern (S3). - 特許庁

電子像形成システムが、基準パターンの指標マーク(90)に対して、プローブチップの幾何学的重心を求める。例文帳に追加

The position of each reference mark to the index mark is obtained by counting each reference mark, for instance. - 特許庁

基板上に形成される幾何学的パターンの設計において、パターンを形成する条件に合わせて補正済パターンのデータを容易に生成する。例文帳に追加

To easily generate data of a corrected pattern in matching with the conditions of pattern formation in designing a geometric pattern to be formed on a substrate. - 特許庁

本発明による可変データギロシェパターンの符号化方法は、ベースパターン及び前記ベースパターンの幾何学的変形物を含むフォント体系を作成し、前記幾何学的変形物が、選択的に組み合わせることにより所定の可変データを構成することのできる復号可能な記号にそれぞれ関連付けられており、前記ベースパターンの前記幾何学的変形物を前記可変データの所定の表現として組み合わせ、複数の前記ベースパターンからなるギロシェに前記表現を埋め込むことを含む。例文帳に追加

An encoding method of the variable guilloche pattern includes: generating a font system including a base pattern and a geometric distortion of the base pattern, the geometric distortion being related to decodable symbols which are capable of being selectively assembled into predetermined variable data; combining the geometric deformation of the base pattern as a predetermined representation of the variable data; and embedding the representation in the guilloche pattern comprising a plurality of base patterns. - 特許庁

本発明のフィンは、幾何学的ピッチＰに対するシート金属の最小厚さｅの比率が０．２を超えるように、厚いシート金属から作成され、幾何学的ピッチＰに従い一般方向Ｄ２へ再作成される（繰り返される）パターンを有する。例文帳に追加

This fin is made of a thick sheet metal such that a ratio of a minimum thickness e of the sheet metal to a geometrical pitch P exceeds 0.2, and has a pattern reproduced (repeated) to a general direction D2 according to the geometrical pitch P. - 特許庁

第２の要素ホログラムｈＡからシンクパターンのみを有する第２の二次元画像が読み取れた際に、その二次元画像のシンクパターンから幾何学的な補正を行い、補正初期値を算出する。例文帳に追加

When a two-dimensional image having only a synchronization pattern is read from an elemental hologram hA, geometric corrections are made according to the synchronization pattern of the two-dimensional image to calculate initial correction values. - 特許庁

計算パターンと前記実測パターンの一致度を、結晶学的条件として▲１▼回折点数、幾何学的条件として▲２▼面間隔比、▲３▼面間角度、▲４▼カメラ定数、及び▲５▼写真間角度の平均誤差のうち、少なくとも一つの因子を用いて定量的に計算する（ステップＳ１９）。例文帳に追加

Coincidence between a calculated pattern and a measured pattern is calculated quantitatively (step S19) by using at least one factor among (1) the number of diffraction points as a crystallographic pattern, (2) a face interval ratio as a geometric condition, (3) an angle between faces, (4) a camera constant, and (5) an average error of an angle between photographs. - 特許庁

幾つかの事前定義された設計規則に基づいて幾何学的ブール演算を用いて元の設計レイアウトからセルフアライメント型アシストパターン（ＳＡＰ）を自動的に導出できる。例文帳に追加

A self-alignment type assist pattern (SAP) can be automatically derived from an original design layout using geometric Boolean operation based upon several predefined design rules. - 特許庁

エアバッグ１００の折畳み方法は、エアバッグに概して幾何学的パターンの予備折畳みを行ない、かつエアバッグの圧縮折畳みを行なうことを含む。例文帳に追加

A method of folding an airbag 100 includes pre-folding an airbag in a generally geometric pattern and crush folding the airbag. - 特許庁

運動噴霧法によりキャリアー24の上に直接堆積させられる、永久磁石、軟質磁性材料及び導電体の、幾何学的にパターン印刷された配列からなる、電気機械を製造する方法である。例文帳に追加

This method of manufacturing electrical machines which comprises geometrically patterned arrays of permanent magnets, soft magnetic materials, and electrical conductors deposited by kinetic spraying methods directly on a carrier 24. - 特許庁

画像パターンに基づき類似する画像をデータベースから検索する際に、幾何学的変換によらず、かつ十分な識別性能を有すると共に、少ない計算量で識別・検索を行う。例文帳に追加

To impart sufficient identification performance without depending on geometric conversion when retrieving a similar image from a database on the basis of an image pattern, and to perform identification and the retrieval with a small calculation amount. - 特許庁

各描画パターンは幾何学的な模様あるいは文字であり、演奏情報に応じてその大きさ、形状、明度、色相、彩度などの属性が変化されて表示される。例文帳に追加

Each plotting pattern is a geometrical pattern or a character, and an attribute such as its size, shape, brightness, hue or chroma is changed in accordance with performance information and displayed. - 特許庁

アブソリュートトラックパターンは、幾何学的に合同なサブトラックを備え、このサブトラックは、その１つが幅寸法ＹＤＥＴＡＢＳだけ移動すると、名目上一致するように配置されている。例文帳に追加

An absolute track pattern comprises geometrically congruent sub tracks, and the sub tracks are arranged such that if one of them is translated by the width dimension YDETABS, then they will nominally coincide. - 特許庁

織布４１は、平織りによる織り目４３，４４の連続を区切り目４６，４７によって予め設定した六角形の幾何学的パターンで区切る織り模様を入れた織り構造とされる。例文帳に追加

The woven cloth 41 adopts weave structure, in which consecutive weave textures 43, 44 by plain weave are partitioned by preset hexagonal geometric patterns through the use of delimiters 46, 47. - 特許庁

カメラ等の撮像装置などで発生する故障が、完全な故障ではなく、映像に何らかの異常を発生させた場合には、幾何学的なパターンが発生して、これがもとで記録容量の消費が異常に多くなる場合がある。例文帳に追加

When damage is occurred on an imaging apparatus such as a camera but it is not complete failure and caused some kind of fault on video such as generating geometric patterns, consumption of recording capacity can be extremely increased due to the damage. - 特許庁

更に、幾何学的繰り返しパターン２が十字形の繰り返しであるとともに各十字形の交点を上下・左右方向にずらすことにより遮断周波数の調整を可能にした。例文帳に追加

The patterns 2 are formed by repeating a cross shape, a point of intersection of each cross shape is shifted to the up-and-down direction and the right-and-left direction, and a cutoff frequency can be adjusted. - 特許庁

コーティングの抗菌性物質のパターンの幾何学的パラメータを、複数の大きさ基準において制御して、コーティング内の２つ以上の抗菌性物質の抗菌効果を最適化する。例文帳に追加

To optimize antimicrobial efficacy of two or more antimicrobial materials in a coating by controlling geometric parameters of a pattern of the antimicrobial materials in the coating at multiple scales of magnitude. - 特許庁

モルフォロジー演算を利用して、パターンの異なる任意のスケルトンを生成させ、これによって任意の幾何学的模様を生成させることのできる方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method capable of generating an optional geometric pattern by generating optional skeletons differed in pattern by use of morphology operation. - 特許庁

パターン等の幾何学的構成の単純化及び全体の小型化、更には新たなパターン設計等を不要にして全体のコスト削減に寄与するとともに、無用な電気抵抗の増加により電気的性能が低下する不具合を回避する。例文帳に追加

To achieve simplification of geometric constitution of a pattern etc., and reduction in overall size, to contribute to reduction in total cost by eliminating the need for a new pattern design etc., and to avoid trouble such that electric performance deteriorates owing to an unnecessary increase in electric resistance. - 特許庁

本発明による可視化装置は、患者の身体内に導かれる外科用器具（５）の位置および方位に関するデータを幾何学的なパターンとして、かつ身体表面からの距離をパターンの大きさや色の変化として患者の身体表面（８）上に投影する。例文帳に追加

This visualization device projects the data on a position and a direction of a surgical instrument 5 led into a patient's body as a geometric pattern and projects the distance from the surface 8 of the patient's body as a change in size or color of the pattern, upon the surface 8 of the patient's body. - 特許庁

撮像系６により撮像することによって当該撮像系６の補正情報を取得するためのキャリブレーションパターンユニットを、三次元的に配置された複数の平面上に既知幾何学パターンが形成されたキャリブレーションパターン５−１と、このキャリブレーションパターン５−１と上記撮像系６の相対位置及び姿勢を固定する相対位置姿勢固定部７とにより構成する。例文帳に追加

The calibration pattern unit for obtaining correction information of an imaging system 6 by imaging by the imaging system 6 is constituted of a calibration pattern 5-1 wherein known geometrical patterns are formed on a plurality of plane surfaces arranged in three dimensions, and a relative position attitude stationary part 7 which fixes relative position and attitude of the calibration pattern 5-1 and the imaging system 6. - 特許庁

半導体リソグラフィ工程を経て形成されたレジストパターンの観測データを用いて、設計データと形成されたレジストパターンの差異を詳細に評価するために、設計データとレジストパターンの観測データとを重ね合わせ、両者の差異を表現する１次元或いは２次元の幾何学的特徴量を算出する。例文帳に追加

In order to evaluate a difference between design data and a formed resist pattern in detail by using observation data of the resist pattern formed through a semiconductor lithography process, the design data and the observation data of the resist pattern are superposed to calculate a one-dimensional or two-dimensional geometric characteristic value expressing the difference between them. - 特許庁

各光学部品２ｂは、光軸から離れるに従い厚みが漸減する形状で、出射面２２に光学特性の異なる領域２２１ｂが幾何的に周期性を持つパターンで配置され、照射面５側から観た輪郭形状が正方形で形成されている。例文帳に追加

Each of the optical components 1 has a shape wherein the thickness decreases as it is separated from the optical axis and has an emission face 22 on which a region 221b having different optical characteristics is arranged in a pattern having geometric periodicity, and has a contour shape viewed from the irradiation face 5 side formed in a square. - 特許庁

また、傾斜平面部１の多数が表面３に所定パターンで成形された透光体６の前記表面３に対して点状光源５の照明光を照射し、透光体６に屈折により幾何学的な光模様をつくって照明方法を構成する。例文帳に追加

The lighting method includes irradiating the illuminating light of the point-like lighting source 5 on the surface 3 of a transparent body 6, on which many inclined plane parts 1 are formed, in a predetermined pattern, and to make a geometric light pattern on the transparent body 6 by refraction. - 特許庁

（１）透明基材上にメッキ下地材料を含有させたフォトレジストを積層させる工程と、（２）前記フォトレジスト層を露光、現像することにより幾何学的なフォトレジストパターンを形成させる工程と、（３）前記フォトレジストパターンを形成したフォトレジスト表面部のメッキ下地材料に金属層を形成させる工程と、を含む方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing the electromagnetic wave shielding film comprises (1) a step of laminating a photoresist containing a plating substrate material on a transparent base, (2) a step of forming a geometrical photoresist pattern by exposing and developing the photoresist, and (3) a step of forming a metal layer on the plating substrate material of the photoresist surface formed with the photoresist pattern. - 特許庁

ウェーブレット変換を使い画像データを係数に変換し、画像の係数に適応した幾何学的フローを求め、係数の幾何学的フローと近傍パラメータに基づいて近傍に含めるための係数を選択し、得られた近傍の係数も使い予測誤差を生成し、予測誤差を符号化して圧縮ビットストリームを生成すると共に、複数の走査パターンを用いて前記画像の係数を補間する係数を生成する。例文帳に追加

The invention includes: transforming image data into coefficients using the wavelet transform; determining a geometric flow adapted to the coefficients of the image; selecting coefficients to include in neighborhoods based on neighborhood parameters and the geometric flow for the coefficients; using additionally the obtained neighborhood coefficients to generate a prediction error; coding the prediction error to generate a compressed bit stream; and using a plurality of scanning patterns to generate coefficients to interpolate the coefficients of the image. - 特許庁

触媒層内において、幾何学的なパターンを有する二構成からなり、一方は島状に点在し、一方は前記島状部分の隙間を埋めるような溝構造となっており、更に、前記島状部分は親水性を有しており、溝構造の部分は撥水性を有していることを特徴とする固体高分子型燃料電極。例文帳に追加

The electrode for solid polymer fuel comprises a catalyst layer which has two constitutions having a geometrical pattern, one of which is scattered in island shape, and the other of which has a groove structure to fill the spacings between the island shaped portions, and furthermore in which the island shaped portion has hydrophilic characteristics and the groove structure portion has water repellency. - 特許庁

メモリセグメントの定義された幾何学的パターンの少なくとも１つのインスタンスにおける機能不良素子をカウントするステップ２０５と、カウントされた機能不良素子の数が、故障閾値と少なくとも等しい場合、メモリセグメント内の故障状態を宣言するステップ２０９と、宣言された故障状態に応答して、メモリセグメントを再マッピングするステップ２１４と、を含む。例文帳に追加

The system and method includes a step 205 for counting function defective elements in at least one instance of a geometric pattern defined by the memory segment, a step 209 for declaring a fault state within the memory segment when the number of the counted function defective elements is equal at least to a fault threshold, and a step 214 for re-mapping the memory segment in response to the declared fault state. - 特許庁

受信機によって受信された信号の処理中に、このシステムは、送信機によってブロードキャストされた信号により形成される干渉効果パターンによって変更された信号から、目標物体の高度を計算するか、または、３以上の送信機に関連付けられた幾何学形状の計算およびそれらの形状の交点を求めることから、目標物体の高度を選択的に計算する。例文帳に追加

During processing of signals received by a receiver, the system calculates the altitude of the target object, from signals modified by an interference effect pattern formed by the signals broadcast by a transmitter, or selectively calculates the altitude of the target object, by calculating geometric shapes associated with three or more transmitters and determining an intersection point of these shapes. - 特許庁