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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 走査グラフに関連した英語例文

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走査グラフの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 125



例文

断層画像の向きを内視鏡の観察画像の向きと容易に対応させて、断層画像のオリエンテーション付けを誰でもが簡単かつ正確に行うことができるラジアル走査式経内視鏡オプティカルコヒーレンストモグラフィ装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a radial scan type endoscopic optical coherence tomography apparatus which enables any user to implement the orientation of tomographic images easily and accurately by easily relating the direction of the tomographic image in the direction of an observation image. - 特許庁

300Åから40Åまでの波長範囲内のX線放射線を用いて最大0.4μmまでの設計単位につくられるデバイスを生産するためのリソグラフィパターニングを行う走査リングフィールド縮小投影装置である。例文帳に追加

The scanning ring field reduced projector performs a lithographic patterning for producing devices in a design unit of maximum 0.4 μm, using X-ray radiations in a wavelength range of 300-40 Å. - 特許庁

メッキ法で製作したメタルマスクであって、フォトリソグラフ法で感光性樹脂により開口部に相当するパターンを導電性基板に形成する際、収束した紫外線レーザー光を感光性樹脂に直接走査しながら照射することにより露光を行う。例文帳に追加

When a pattern, corresponding to the openings is formed on an electrically conductive substrate using photopolymer by photolithographic method, exposure is performed by directly irradiating the photopolymer with a focused scanning ultraviolet laser light. - 特許庁

透過型電子顕微鏡によるフィラー端面観察においてグラフェンシートが閉じており、走査型電子顕微鏡での観察表面が実質的に平坦であるピッチ系炭素短繊維フィラーであり、個数平均繊維長が80μm以上500μm以下であることをピッチ系炭素短繊維フィラー。例文帳に追加

In the pitch-based carbon short fiber filler, a graphene sheet is closed at a filler end face when observed by a transmission electron microscope, while a surface observed by a scanning electron microscope is substantially flat, and the number average fiber length is 80 to 500 μm. - 特許庁

例文

光学顕微鏡で観測した平均繊維長(L1)が10μm以上40μm以下であって、透過型電子顕微鏡によるフィラー端面観察においてグラフェンシートが閉じており、走査型電子顕微鏡での観察表面が実質的に平坦であるピッチ系炭素短繊維フィラー。例文帳に追加

The pitch-based carbon short fiber filler has >10 to40 μm average fiber diameter (L1) observed under an optical microscope, a closed graphene sheet in observation of a filler end face under a transmission type electron microscope, and a substantially flat surface observed under a scanning electron microscope. - 特許庁


例文

電解めっき法による成型用微細金型の製造方法において、フォトリソグラフィ法で感光性樹脂により所定の微細パターンを導電性基板に形成する際、収束した紫外線レーザー光を感光性樹脂に直接走査しながら照射することにより露光を行う。例文帳に追加

In the method for producing the minute mold by the electrolytic plating method, when a prescribed minute pattern is formed on a conductive substrate with a photosensitive resin by a photolithographic method, exposure is carried out by directly irradiating the photosensitive resin with converged ultraviolet laser beams while the pattern is scanned. - 特許庁

フレキシブル基板のリソグラフィプロセスの制御性を向上させ、フレキシブル基板がキャリジの露光領域の近傍にある場合にもパターンジェネレータを支持するキャリジの精密な走査運動が阻害されないようにする。例文帳に追加

To improve the controllability of a lithography process of a flexible substrate and to prevent the precise scanning motion of a carriage that supports a pattern generator from being blocked even when a flexible substrate is located in the vicinity of an exposure area of the carriage. - 特許庁

特に、リソグラフィ・デバイス、ウェーハ処理システム、および/または走査顕微鏡などの顕微鏡の振動絶縁位置付けのための、能動振動絶縁システムを調整するための方法、および能動振動絶縁システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a method for adjusting an active vibration insulation system for vibration insulation positioning particularly in a lithography device, a wafer processing system, and/or a microscope such as a scanning microscope, and also to provide the active vibration insulation system. - 特許庁

速度変調信号生成回路300は、表示信号VOを1次微分し、復路走査期間の微分信号の極性を反転し、表示切り換え制御信号SW14に基づいて微分信号においてグラフィック信号に対する部分を0レベルに設定し、速度変調信号VMを生成する。例文帳に追加

The speed changeover control circuit 300 executes the primary differentiation of the display signal VO, inverts the polarity of the differentiation signal of the backward scanning period, sets the portion to the graphic signal in the differentiation signal at a 0 level in accordance with the display changeover control signal SW14 and forms a speed modulation signal VM. - 特許庁

例文

含塩素系樹脂用滑剤は、メタロセン触媒を用いて合成され、示差走査熱量計(DSC)で測定した融点が60〜100℃の範囲にあり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定した数平均分子量(Mn)が400〜5,000の範囲にあるポリオレフィンワックスである。例文帳に追加

The lubricant for the chlorine-containing resin is synthesized using a metallocene catalyst and is a polyolefin wax of which the melting point is in a range of 60-100°C as measured by the differential scanning calorimeter (DSC) and of which the number average molecular weight (Mn) is in a range of 400-5,000 as measured by the gel permeation chromatography(GPC). - 特許庁

例文

リソグラフィ投影装置(1)は露光走査方向(y)を有し、アセンブリは、上記少なくとも1つの路に沿って上記センサに対して基板を連続的に移動させ、上記少なくとも1つの路に沿って傾斜および高さのうち上記少なくとも1つに関する測定データを提供するよう構成される。例文帳に追加

The lithographic projection apparatus (1) has an exposure scanning direction (y), and the assembly is arranged to continuously move the substrate relative to the sensor along at least the above one path and to provide measurement data about at least one of tilt and height along at least the above one path. - 特許庁

走査後に、最低値が得られたレーザー照射方向に固定して照射を行い、ケーブルに当たったレーザー光を目視で確認できるようにしても良く、或いは範囲内の各所での測定結果を被測定物の形状や位置が認識できるようにグラフィカル表示してもよい。例文帳に追加

After the scanning, the laser beam may be irradiated by fixing the irradiating direction to derive the minimum value to visually confirm the laser beam hitting the cable or the measurement result at various spots in the range may be graphically displayed to recognize a shape or a position of the object to be measured. - 特許庁

(1)示差走査型熱量計(DSC)を用いて定義される融点(Tm−D)が0〜100℃ (2)立体規則性指数{(mmmm)/(mmrr+rmmr)}が20以下 (3)ゲルパーミエイションクロマトグラフ(GPC)法により測定した分子量分布(Mw/Mn)が4.0以下 (4)GPC法により測定した重量平均分子量(Mw)が10,000〜1,000,000例文帳に追加

(Mw) of 10,000-1,000,000 determined by GPC, and 5-90 pts.wt. organic filler and/or inorganic filler. - 特許庁

静電気からスイッチング素子などの破壊を防止するために走査配線同士及び/又は信号配線同士を接続する保護回路を、少ないフォトリソグラフィ工程でスイッチング素子と同時に形成することができるアレイ基板の製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing an array substrate in which a protecting circuit is formed in a small number of photolithography stages simultaneously with the switching element, to connect scanning wirings and/or signal wirings to each other so as to prevent a switching element etc., from breaking electrostatically. - 特許庁

物体光における光軸の奥行き方向(Z方向)の走査距離を長く設定することができる光コヒーレンストモグラフィーにおける透光体の動きによる高速光遅延発生方法及びその高速光遅延発生装置を提供する。例文帳に追加

To provide a high speed optical retardation generating method and its high speed optical retardation generator by movement of a translucent body in optical coherence tomography, capable of setting a long scanning distance in a depth direction (a Z direction) of an optical axis in object light. - 特許庁

(a)示差走査型熱量計にて、室温から10℃/分の昇温速度で加熱した際に観測される結晶融点が130℃以上185℃以下(b)ゲル浸透クロマトグラフィにより測定されたポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が20000以上3000000以下例文帳に追加

(a) The crystal melting point observed when heated under the programming rate of 10°C/min from room temperature by a differential scanning calorimetry is130°C and ≤185°C and (b) the weight-average molecular weight (Mw) measured by a gel permeation chromatography is20,000 and ≤3,000,000. - 特許庁

試料を傾斜させて得られた透過像から3次元像を構築する透過型および走査透過型電子顕微鏡において、試料の厚さの変化情報を維持したまま、取得した画像の明るさ補正を行い、画像の明るさに含まれる情報の劣化の少ないトモグラフィ像を取得する。例文帳に追加

To enable achievement of a tomographic image having little deteriorated image contained in brightness of an achieved image by correcting the brightness of the image with keeping variation information of the thickness of a sample in a transmission type and scan transmission type electron microscope for constructing a three-dimensional image from a transmission image achieved by inclining the sample. - 特許庁

複数のシリコンウェーハからの走査データを解析する方法であり、各ウェーハのグラフィック表現であるウェーハマップに重ねて少なくとも1つの欠陥タイプを指示する複数のデータ点から成る、対応する母集団からのデータ点を表すシンボルを表示する。例文帳に追加

In this method of analyzing scanning data from a plurality of silicon wafers, a symbol showing a data point from a corresponding population of a plurality of data points for indicating at least one defective type overlaid on a wafer map as graphic expression of each wafer is displayed. - 特許庁

光学顕微鏡で観測した平均繊維長(L1)が40μm以上80μm未満であって、透過型電子顕微鏡によるフィラー端面観察においてグラフェンシートが閉じており、走査型電子顕微鏡での観察表面が実質的に平坦であるピッチ系炭素短繊維フィラー。例文帳に追加

The pitch-based carbon short fiber filler has a mean fiber length (L1) of 40 μm or more but less than 80 μm observed with an optical microscope, a closed graphene sheet by filler end face observation with a transmission electron microscope, and a substantially flat surface observed with a scanning electron microscope. - 特許庁

検査車両1には、トロリ線の敷設方向とは垂直になる走査線方向にしたラインセンサ5と照明灯6を搭載し、検査車両の走行によってトロリ線のパンタグラフ接触面を撮影し、この画像信号を計測用コンピュータ7が記録装置8に保存する。例文帳に追加

An inspection vehicle 1 is mounted with a line sensor 5 laid along a scanning direction perpendicular to a trolley wire laying direction and a floodlight 6, a pantagraph contact face of the trolley wire is photographed with travel of the inspection vehicle, and an image signal therein is stored in a storage device 8 by a computer 7. - 特許庁

ホログラフィック記録媒質などへのデータ記録の際、1次元信号ビームを走査ミラーにより2次元信号ビームに変換させることで、空間光変調器の製作時に要求される工程過程を大幅に減らす光記録装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical recording device which allows manufacturing processes to be remarkably reduced, which are required when a spatial light modulator is manufactured, by transforming a one-dimensional signal beam into a two-dimensional signal beam by a scanning mirror, in the case of data recording on a holographic recording medium etc. - 特許庁

本発明による新トポグラフ測定方法およびその装置は、カンチレバーと試料間の引力勾配を一定に維持しながらカンチレバーで試料表面を走査することにより計測する非接触型原子間力顕微鏡において、カンチレバーと試料間に作用する静電気力を検出し、該静電気力が最小となるカンチレバーバイアス電位をカンチレバーにフィードバックすることを特徴とする。例文帳に追加

This new topograph measuring method and its device are characterized by detecting the electrostatic force working between the cantilever and the sample, and feeding back a cantilever bias potential at which the electrostatic force becomes minimum to the cantilever, in the noncontact type atomic force microscope for scanning the sample surface by the cantilever to execute measurement, while maintaining an attraction gradient between the cantilever and the sample constant. - 特許庁

(1)プロピレン50〜100モル%とプロピレン以外の炭素数2〜20のα−オレフィン0〜50モル%からなる(2)135℃テトラリン中で測定した極限粘度[η]が0.01〜0.5dl/g(3)立体規則性分率[mm]が50〜90モル%(4)示差走査型熱量計(DSC)で測定した融点(TmD)が0〜120℃(5)ゲルパーミエイションクロマトグラフ(GPC)法で測定した分子量分布(Mw/Mn)が4.0以下例文帳に追加

The molded item is obtained by molding the polyolefin resin composition. - 特許庁

リソグラフィ投影装置の歩進および走査作業のような、高精密運動を制御するシステムで、低次フィードフォワード制御と反復学習制御を組合せ、単純でありながら手動調整の必要がなく、運動システムの遅い変動にも対応できる柔軟な制御システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a system that controls a high-precision motion such as a stepping and scanning operation of a lithography projection apparatus, i.e., a flexible control system that combines lower feed-forward control and iterative learning control with no need of manual adjustment while being simple, plus being adaptive to a slow change of a motion system. - 特許庁

例文

(1)1−ブテン50〜100モル%と1−ブテン以外の炭素数2〜20のα−オレフィン0〜50モル%からなる(2)135℃テトラリン中で測定した極限粘度[η]が0.01〜0.5dl/g(3)立体規則性指数{(mmmm)/(mmrr+rmmr)}が30以下(4)示差走査型熱量計(DSC)で測定した融点(TmD)が0〜100℃(5)ゲルパーミエイションクロマトグラフ(GPC)法で測定した分子量分布(Mw/Mn)が4.0以下例文帳に追加

The molded item is obtained by molding the polyolefin resin composition. - 特許庁

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