「酸素表面基」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ニッケルと酸素の化合物２３は、基板生産物の表面近傍に形成される。例文帳に追加

A compound 23 of the nickel and oxygen is formed in the vicinity of a surface of the substrate product. - 特許庁

ポリエステル樹脂２の接着表面２０２には、含酸素官能基が付与されている。例文帳に追加

The adhesive surface 202 of the polyester resin 2 is provided with an oxygen-containing functional group. - 特許庁

バリヤ層は基材の表面上に設けられ、水分及び酸素の透過抵抗性である。例文帳に追加

The barrier layer, resistant to transmission of moisture and oxygen, is disposed on the surface of the substrate. - 特許庁

酸素ラジカルにより、基板表面のシリコンを酸化させてシリコン酸化膜を形成する。例文帳に追加

The oxygen radical makes it possible to oxidize the silicon of the surface of the substrate so that a silicon oxide film can be formed. - 特許庁

続いて、装置２００内に酸素を導入し、基材１０の表面に電解質層３０を成膜する。例文帳に追加

Then oxygen is introduced into the apparatus 200 and an electrolyte layer 30 is formed on the substrate 10. - 特許庁

該活性酸素種を用いて基板表面の有機汚染物を分解・除去する。例文帳に追加

The generated oxygen active species decompose and remove organic contaminants on the surface of the substrate. - 特許庁

基板表面に塗布されたレジスト膜の除去方法であって、酸素プラズマによるアッシングにより基板表面のレジスト膜の除去を行なう。例文帳に追加

In the method for removing a resist film applied to the surface of a substrate, the resist film is removed from the surface of the substrate by ashing. - 特許庁

これにより、雰囲気中の酸素が基板１の表面に拡散して基板１の表面に剥離しやすい改質層５が形成される。例文帳に追加

Consequently, oxygen in the atmosphere is diffused on a surface of the substrate 1 to form a modified layer 5 which is easy to peel on the surface of the substrate 1. - 特許庁

酸素および水素を少なくとも含む処理ガスの存在下で、酸素および水素に基づくプラズマを電子デバイス用基材の表面に照射して、該電子デバイス用基材の表面に酸化膜を形成する。例文帳に追加

In the presence of a treating gas containing at least oxygen and hydrogen, the surface of a base material for an electronic device is irradiated with plasmas based on the oxygen and the hydrogen and the oxide film is formed on the surface of the base material for the electronic device. - 特許庁

ガラス基板表面に対する密着性に優れた表面滑らかな酸素含有銅膜を成膜することができるターゲットを提供する。例文帳に追加

To provide a target capable of depositing an oxygen-containing copper film having excellent adhesiveness to a glass substrate surface and having a smooth surface. - 特許庁

親液膜１４は、例えば、基板表面および配線表面に酸素プラズマを施すことにより酸化膜を形成している。例文帳に追加

The lyophilic film 14 forms, for example, an oxide film through oxygen plasma at the substrate surface and wiring surface. - 特許庁

含酸素官能基を表面に有する多孔性炭素材と、多孔性炭素材の表面に結合したＬｉと、を備える、水素吸蔵剤。例文帳に追加

The hydrogen storage material includes a porous carbon material having an oxygen-containing functional group on the surface thereof and Li bound to the surface of the porous carbon material. - 特許庁

ここで、シリコン基板表面に酸素の活性種と窒素の活性種とを同時に照射し、シリコン基板表面と上記酸素および窒素の活性種とを反応させる。例文帳に追加

The reaction at the surface of the silicon substrate with the active oxygen and nitrogen species is caused by simultaneously emitting the active oxygen and nitrogen species upon the surface of the substrate. - 特許庁

表面が（１１１）面の基板を用いた場合は表面が（００１）面であるシリコン基板を用いた場合の酸素拡散係数の１００分の１未満であり酸素拡散が抑制される。例文帳に追加

In the case that a substrate having a surface parallel to the (111) plane is employed, the oxygen diffusion coefficient is less than one-hundredth of the oxygen diffusion coefficient in the case of employing a silicon substrate having a surface parallel to (001) plane, exhibiting suppression of the oxygen diffusion. - 特許庁

表面が（１１１）面の基板を用いた場合は表面が（００１）面であるシリコン基板を用いた場合の酸素拡散係数の１００分の１未満であり酸素拡散が抑制される。例文帳に追加

The oxygen diffusion coefficient, when a substrate having the surface which is the face (111) is used is smaller than one hundredth of the oxygen diffusion coefficient, when a silicon substrate with the surface which is the face (001) is used and an oxygen diffusion in the substrate with a surface with which the face (110) is suppressed. - 特許庁

それと同時に、基板 100表面上に多量の酸素イオン（活性酸素）が生成し、この酸素イオンによって排ガス中のHC及びCOが効率よく酸化浄化される。例文帳に追加

Plenty of oxygen ions (active oxygen) are generated on the surface of the substrate 100 in parallel with the reduction and HC and CO in waste gas are efficiently oxidation-removed with the oxygen ions. - 特許庁

あるいは、シリコン基板表面に酸素の活性種または窒素の活性種のみを照射した後、酸素の活性種と窒素の活性種とを同時に照射し、シリコン基板表面と酸素および窒素の活性種とを反応させる。例文帳に追加

Alternatively, the reaction at the surface of the silicon substrate with active oxygen and nitrogen species is caused by simultaneously emitting the active oxygen and nitrogen species upon the surface of the silicon substrate, after only the active oxygen or nitrogen species is emitted upon the surface of the substrate. - 特許庁

この半導体装置は、シリコン基板１上に形成された酸素を透過しにくい材料からなるＳｉＣＮ膜からなる酸素透過抑制膜７と、酸素透過抑制膜７の表面上に酸素を含む雰囲気下で形成された多孔質シリカ膜８とを備える。例文帳に追加

The semiconductor device comprises an oxygen permeation restricting SiCN film 7 made of a material hardly permeable to oxygen on a silicon substrate 1, and a porous silica film 8 formed in an oxygen-containing atmosphere on the surface of the restricting film 7. - 特許庁

排気浄化触媒において、触媒層は、高比表面積材料からなる基材(22)の表面にセリアを含む酸素吸蔵材(24)を薄膜状に塗布するとともに該薄膜状の酸素吸蔵材の表面に貴金属(26)を担持した粒子(20)を積層してなる。例文帳に追加

The exhaust cleaning catalyst includes a catalyst layer formed by applying an oxygen absorbent (24) comprising ceria onto the surface of a substrate (22) made from a material having a high specific surface area to be membranous, and subsequently overlaying particles (20) supporting a noble metal (26) on the surface of the membrane of the oxygen absorbent. - 特許庁

１．粒子表面の一部又は全部に−Ｏ−Ｒ基（Ｏ：酸素、Ｒ：アルキル基）が存在することを特徴とする窒化アルミニウム系粉末。例文帳に追加

The aluminum nitride based powder has -O-R group (O: oxygen, R: an alkyl group) existing on a part or the whole of the particle surface. - 特許庁

このため、樹脂基材２表面の酸素とＵＶ硬化樹脂３の水酸基との間で水素結合が形成されることとなる。例文帳に追加

Accordingly, hydrogen bond is formed between the oxygen on the surface of the resin base material 2 and the hydroxyl group of the UV curable resin 3. - 特許庁

基板７０近傍で必要量の酸素ラジカルを生成できることから、効率よく基板表面７０ａから有機物除去することができる。例文帳に追加

Since the required quantity of oxygen radical can be produced in the vicinity of the substrate 70, an organic substance can be efficiently removed from the substrate surface 70a. - 特許庁

酸素イオン導電性基板１の一方の表面にカソード電極２と第１補助電極３を、他の表面にアノード電極４と第１補助電極３を形成した酸素ポンプ素子を用いて、酸素イオン電流および第１補助電極と第２補助電極間の電位差から酸素イオン導電性基板１の温度を検出する。例文帳に追加

By using the oxygen pump element in which a cathode electrode 2 and a first auxiliary electrode 3 are formed on one surface of an oxygen ion conductive substrate 1 and in which an anode electrode 4 and a second auxiliary electrode 5 are formed on the other surface, the temperature of the substrate 1 is detected based on of an oxygen ion current and based on the potential difference between the electrode 3 and the electrode 5. - 特許庁

直接基板内へ注入する酸素イオン１６ｂは、基板深部に達し、マスク・パターンを介して注入された酸素イオン１６ａは基板表面近傍に位置する。例文帳に追加

The oxygen ions 16b implanted directly into the substrate reaches deep region of substrate, and oxygen ions 16a implanted via the mask pattern are located in the region near the substrate surface. - 特許庁

また、カルボキシル基又は炭酸基の存在を略０にするために、結晶成長開始前にＺｎＯ系基板表面を酸素ラジカル、酸素プラズマ、オゾンのいずれかに接触させるようにしている。例文帳に追加

In order to make the presence of carboxy groups or carbonate groups zero, the ZnO-based substrate surface is brought into contact with one of oxygen radicals, oxygen plasma or ozone prior to starting to grow a crystal. - 特許庁

基板上に絶縁膜が形成されるまで，基板表面の塗布膜が不本意に酸素と反応しないように基板処理を低酸素雰囲気内で行う。例文帳に追加

To process a substrate in an atmosphere of low oxygen until an insulating film is formed on the substrate, so as not to make a coating film on the surface of a substrate react unwillingly on oxygen. - 特許庁

導電性基体と、感光層と、表面層とを含み、前記導電性基体上に前記感光層と前記表面層とがこの順に積層された電子写真感光体において、前記表面層の少なくとも最表面が、酸素と、１３族元素とを含み、前記最表面における前記酸素の含有量が１５原子％を超えることを特徴とする電子写真感光体。例文帳に追加

In the electrophotographic photoreceptor which includes a conductive base, a photosensitive layer, and a surface layer and in which the photosensitive layer and the surface layer are stacked on the conductive base in this order, at least the uppermost surface of the surface layer includes oxygen and a group 13 element, and the oxygen content at the uppermost surface is >15 at.%. - 特許庁

ポリエステル樹脂２の表面２０１に含酸素官能基を付与する表面処理を施した後の接着表面２０２に、エポキシ系接着剤３を接着する。例文帳に追加

The epoxy-based adhesive 3 is bonded to an adhesive surface 202 after surface treatment for providing the surface 201 of the polyester resin 2 with an oxygen-containing functional group. - 特許庁

次に、酸素を含まない非酸素雰囲気でかつ所定の湿度環境の下で一定時間保持することで、シランカップリング剤２と基板表面とが反応し、シランカップリング剤２が基板１に固定化される。例文帳に追加

Then, in the state of being held for a certain time in a non-oxygen atmosphere containing no oxygen under predetermined humid environment, the silane coupling agent 2 reacts with the surface of the substrate and the silane coupling agent 2 is fixed to the substrate 1. - 特許庁

ついで酸素ラジカルの照射を止め、酸素が基板表面のバッファ層に影響しないようにし（Ｓ３）、目的とするＺｎＯ系酸化物半導体の成長温度まで基板温度を上昇させる（Ｓ４）。例文帳に追加

The radiation of radical oxygen is then stopped so that the buffer layer of the substrate surface is not affected by oxygen (S3), and the temperature of the substrate is raised up to the growth temperature of the desired ZnO oxide semiconductor (S4). - 特許庁

酸素ラジカル形成機構によって酸素ラジカルを形成し、形成された酸素ラジカルで、シリコン基板を酸化してシリコン基板上に酸化膜を形成し、さらに窒素ラジカル形成機構で窒素ラジカルを形成して、前記酸化膜膜表面を窒化して酸窒化膜を形成する。例文帳に追加

The nitriding method comprises steps of forming oxygen radicals by an oxygen radical forming mechanism, forming an oxide film on a silicon substrate by oxidizing the silicon substrate by the formed oxygen radicals, forming nitrogen radicals by a nitrogen radical forming mechanism, and forming the oxynitride film by nitriding the surface of the oxide film. - 特許庁

セリウム酸化物及びジルコニウム酸化物を基とし、高い比表面積及び高い酸素貯蔵能力を有する組成物並びにその製造方法例文帳に追加

COMPOSITION BASED ON CERIUM OXIDE AND ZIRCONIUM OXIDE AND HAVING HIGH SPECIFIC SURFACE AREA AND HIGH OXYGEN STORING POTENTIAL AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

酸性リン酸エステル化合物２の水酸基に含まれる水素原子が、金属粉末４の表面に存在する酸素原子と水素結合する。例文帳に追加

The hydrogen atom contained in the hydroxy group of the acidic phosphoric ester compound 2 makes a hydrogen bond with the oxygen atom present on the surface of the metal powder 4. - 特許庁

大気に接するカソード層で生成された酸素イオンは、基板の表面領域を移動し、アノード層に供給された燃料種と反応する。例文帳に追加

An oxygen ion generated in the cathode layer contacting with the atmosphere moves on a surface area of the substrate to react on a fuel species supplied to the anode layer. - 特許庁

酸窒化膜はシリコン基板表面と酸素の活性種および窒素の活性種との反応で形成される。例文帳に追加

An oxynitride film 30 is formed through the reaction at the surface of a silicon substrate with active oxygen species and active nitrogen species. - 特許庁

プラズマ１１により空気中の酸素がオゾン化され、浮揚装置基体５内の非処理液体表面がオゾンに曝気される。例文帳に追加

The plasma 11 changes oxygen in the air to ozone, and thus the surface of the untreated liquid in a levitation device base 5 is exposed to the ozone. - 特許庁

シリコンよりなる基板１１の表面に酸素原子を含む電離気体Ｇ_1を照射し、酸化膜１２を形成する。例文帳に追加

An oxide film 12 is formed on the surface of a silicon substrate 11 by emitting an ionized gas G1, containing oxygen atoms upon the surface. - 特許庁

すなわち、樹脂基材２、例えばＰＥＴフィルムの表面には、酸素で終端された分子が存在する。例文帳に追加

Concretely, molecules terminated with oxygen exist on the surface of the resin base material 2 such as a PET film. - 特許庁

絶縁薄膜２表面への─ＯＨ基の結合は、フッ素ガス（Ｆ）と酸素ガス（Ｏ_2）とによる気相処理を施すことで可能である。例文帳に追加

The -OH group can be bonded to the surface of the thin insulating film 2 by gas phase processing using fluorine gas (F) and oxygen gas (O2). - 特許庁

含酸素官能基は、ポリエステル樹脂２の表面２０１から３〜１０ｎｍの厚み分の領域に形成されている。例文帳に追加

The oxygen-containing functional group is formed in an area in thickness of 3-10 nm from the surface 201 of the polyester resin 2. - 特許庁

そこで、そのＣＯの量に基づいてＳｉ試料３８の表面付着酸素量Ｘ１が換算され表示される。例文帳に追加

On the basis of the amount of CO, the amount X1 of oxygen adhering to the surface of the Si sample 38 is converted and displayed. - 特許庁

そして、イオン化された酸素クラスタビームを電圧加速して、窓板５の窓部５ａを通して石英基板７の表面に照射する。例文帳に追加

An ionized oxygen cluster beam is voltage-accelerated, and the surface of the quartz substrate 7 is irradiated therewith through the window 5a of the window plate 5. - 特許庁

そして、基板２又は封止部材６０４の最表面に、酸素又は水分を吸収又は除去するゲッター材１３を設ける。例文帳に追加

On the top surface of the substrate 2 or the sealing member 604, a getter material 13 for absorbing or removing the oxygen or water is provided. - 特許庁

前記水蒸気により、ＨＭＤＳ疎水化処理ガスのケイ素と、基板表面の酸素との反応が促進され、安定して高い疎水性が得られる。例文帳に追加

The steam accelerates a reaction between silicon in the HMDS hydrophobic treatment gas and oxygen on the substrate surface, by which high hydrophobicity is stably achieved. - 特許庁

表面溶融部２０の位置情報に基いて酸素量及び助燃油量を増減させるようにする。例文帳に追加

An amount of oxygen and an amount of the auxiliary fuel oil are increased or decreased based on positional information in the surface fusion part 20. - 特許庁