「酸素表面基」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

基板を提供するステップ、前記基板上に絶縁体層を形成するステップ、前記絶縁体層上にアモルファスシリコン層を堆積するステップおよび、酸素雰囲気下で前記アモルファスシリコン層を結晶化することで、その結晶化されたシリコン層の表面粗さを減少させるステップを含む液晶ディスプレイの製造方法。例文帳に追加

This manufacturing method of a liquid crystal display includes a step to provide a substrate, a step to form an insulating body layer on the substrate, a step to deposit an amorphous silicon layer on the insulating body layer and a step to reduce the surface roughness of the crystalized silicon layer by crystalizing the amorphous silicon layer under oxygen atmosphere. - 特許庁

耐食性皮膜２に存在する欠陥３から露出する集電体基材１の表面は、該集電体基材１のフッ素化合物、酸素化合物、窒素化合物、炭素化合物、リン化合物、ホウ素化合物のうちの一種又は二種以上からなる不動態皮膜４で覆われていることを特徴とする。例文帳に追加

The surface of the current collector base material 1 exposed from a defect 3 existing on the corrosion resistant coating film 2 is characterized by being covered with a passive state coating film 4 composed of one kind or two or more kinds among a fluorine compound, an oxygen compound, a nitrogen compound, a carbon compound, a phosphorus compound and a boron compound of the current collector base material 1. - 特許庁

工具基体の表面に周期律表の４、５、６族金属の炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸化物、窒酸化物、及び炭窒酸化物からなる被覆層を単層又は多層に形成してなるものであり、かつ、これら被覆層のうち少なくとも一層を、チタン、ジルコニウム、炭素、窒素、及び酸素を含有する炭窒酸化チタンジルコニウム膜から構成し、該炭窒酸化チタンジルコニウム膜の酸素含有量を１０質量％以下とした。例文帳に追加

One or more coating layers composed of carbide, nitride, carbonitride, carboxide, nitroxide and carbonitroxide of the IV, V and VI group metals in a periodic table, are formed on a surface of a tool base, at least one of the coating layers is composed of titanium zirconium carbonitroxide film including titanium, zirconium, carbon, nitrogen and oxygen, and a content of oxygen in the titanium zirconium carbonitroxide is 10 mass % or less. - 特許庁

シリコン集積回路の製造プロセスを用いてシリコン基板上に作製可能であって、発光効率が高く、形成されたシリコンナノ結晶構造体の表面を確実に酸素または窒素で終端させて、酸素又は窒素で終端されたシリコンナノ結晶の粒径を１〜２ｎｍの精度で制御でき、かつ、その単位面積あたりの密度を増加させることができ、簡便にかつ安価にシリコンナノ結晶構造体を製造する。例文帳に追加

To easily and inexpensively form a silicon nanocrystal structure terminating in oxygen or nitrogen which can be formed on a silicon substrate employing a process for manufacturing a silicon integral circuit and shows a high luminous efficiency wherein particle size of the silicon nanocrystals can be controlled to an accuracy of 1-2 nm and density per unit area can be increased by surely terminating the surface of the formed structure by oxygen or nitrogen. - 特許庁

多孔質プリフォーム３を構成する繊維及び粒子のうち少なくともいずれかの表面にマグネシウムを蒸着させるステップと、この蒸着をさせた多孔質プリフォーム３を、酸素分圧が１０ｍｍＨｇ以下である低酸素分圧雰囲気中に配置するステップと、前記多孔質プリフォーム３の内部に溶融アルミニウム４１又は溶融アルミニウム合金を浸透させるステップとを含んでなる金属基複合材料の製造方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing the metal matrix composite material comprises steps of: vapor-depositing magnesium onto the surface of at least either of fibers and particles each constituting a porous preform 3; arranging the porous preform 3 after vapor deposition in a low-oxygen-partial- pressure atmosphere of ≤10 mmHg partial pressure of oxygen; and infiltrating the molten aluminum 41 or the molten aluminum alloy into the porous preform 3. - 特許庁

活性エネルギー線硬化性組成物の硬化皮膜形成方法であって、基材表面に、活性エネルギー線硬化性組成物を塗工する工程の後、酸素濃度１５％以上のガス雰囲気中で活性エネルギー線を照射する第一の照射工程、及び、酸素濃度１５％未満のガス雰囲気中で活性エネルギー線を照射する第二の照射工程をこの順に有することを特徴とする硬化皮膜の形成方法。例文帳に追加

The cured coating film formation method is used for an active energy-curable composition and involves a step of applying the active energy- curable composition to a substrate surface, a first radiation step of radiating active energy in a gas atmosphere having 15% or higher oxygen concentration, and a second radiation step of radiating active energy in a gas atmosphere having less than 15% oxygen concentration in this order. - 特許庁

ガラス基板上にインジウム錫酸化物から成る透明性金属酸化物膜を積層した後に、この金属酸化物に対してフッ素含有量を１重量％以下とする酸素を用いたプラズマ表面処理を施して形成した陽極層１０を用いて有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する。例文帳に追加

The organic electroluminescence element is fabricated through such procedures that a transparent metal oxide film consisting of indium-tin oxide is laminated on a glass base board and that the metal oxide is subjected to a plasma surface processing using oxygen where the fluorine content is below 1 wt.%, and thereby an anode layer 10 is formed. - 特許庁

該方法は、材料に吸収された水分子の光分解を引き起こすのに充分なエネルギーを有する、極端紫外及び／又は真空紫外のフォトンを放射して、酸素、水素及び／又は水酸基のラジカルを放出させることが可能である希ガスプラズマに対して該表面を露出することと、反応チャンバからラジカルを除去することとを含む。例文帳に追加

The method includes emitting extreme-ultraviolet and/or vacuum-ultraviolet photons, having energy sufficiently high to initiate photodegradation of water molecules absorbed in a material, exposing the surface to the noble-gas plasma capable of emitting radicals of oxygen, hydrogen, and/or hydroxyl groups, and removing the radicals from the reaction chamber. - 特許庁

表面プラズモン共鳴を適用し、発光ダイオードとＣＣＤカメラを主な要素とする簡易な装置により、一重項酸素を媒介とした化学増幅型蛍光イムノアセイを実現することができる測定用基板、並びに、これを用いた生化学的結合形成および生化学的結合量の測定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate for measurement for achieving a chemical amplification type fluorescent immunoassay with singlet oxygen as a mediator by a simple apparatus mainly comprising a light-emitting diode and a CCD camera by applying a surface plasmon resonance, and to provide a method of measuring biochemical binding formation and a biochemical binding amount using the substrate. - 特許庁

アルミニウム合金から成る基材Ｂの表面に酸化アルミニウム皮膜Ｆを形成して成る座金において、当該酸化アルミニウム皮膜の酸素含有量を３５質量％以上、硫黄含有量を２〜８質量％、窒素含有量を５〜２０質量％、銀含有量を５．５質量％以下とし、残部をアルミニウム及び不可避的不純物とする。例文帳に追加

In the washer made by forming an aluminum oxide film F on a surface of a base material B made of an aluminum alloy, the aluminum oxide film contains 35 mass% or more of oxygen, 2-8 mass% of sulfur, 5-20 mass% of nitrogen, 5.5 mass% or less of silver, and the balance aluminum with inevitable impurities. - 特許庁

基板フィルム上に少なくとも１層の無機層（Ａ）と、少なくとも１層のアモルファスカーボンを主成分とするアモルファスカーボン層（Ｂ）とを有し、少なくとも１層の前記アモルファスカーボン層（Ｂ）の表面における（酸素原子数／炭素原子数）の比が０．０１以上であることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。例文帳に追加

In the gas-barrier laminated film having at least one inorganic layer (A) and at least one amorphous carbon layer (B) containing amorphous carbon as a main component on a substrate film, the ratio of the number of oxygen atoms to the number of carbon atoms on the surface of the amorphous carbon layer (B) is at least 0.01. - 特許庁

本発明の快削性セラミックスは、快削性付与剤としての六方晶系窒化ホウ素粉体と、焼結助剤としてのアルミノケイ酸塩粉体と、基材としてのセラミックス粉体（ただし六方晶系窒化ホウ素及びアルミノケイ酸塩は除く）との混合物の焼結体からなり、前記六方晶系窒化ホウ素粉体の粒子には表面のみならず内部にも酸素が含まれていることを特徴とする。例文帳に追加

The machinable ceramic is a sintered compact of a mixture of a hexagonal boron nitride powder as a machinability imparting agent, an aluminosilicate powder as a sintering aid, and a ceramic powder (other than hexagonal boron nitride and aluminosilicates) as a base material, wherein particles of the hexagonal boron nitride powder contain oxygen not only in the surface but also in the interior. - 特許庁

カーボン端材等の機械的摩擦熱による酸化、電解酸化、強酸などの酸化剤による酸化、更に、これらの処理を超音波Ｓや磁場の存在下で行うことによりカーボン粒子12表面に酸素含有官能基を形成した超微細な酸化カーボンコロイドであり、これを植物生育剤などにする。例文帳に追加

When carbon mills are oxidized by the application of a mechanical friction heat, an electrolytic action, or an oxidizer such as strong acid, in the presence of ultrasonic wave or magnetic field, superfine oxidized carbon colloid is produced which forms the functional group containing oxygen on the surface of each carbon particle to be used as a plant growth agent. - 特許庁

マスフローコントローラＭＦＣ１から原料タンクＴＫにＡｒガスを供給することによって押し出されたＺｒ（ＢＨ_４）_４ガスと、マイクロ波プラズマ源ＰＬで励起することによって活性状態にされた酸素原子を含むガスとを、シャワープレート３６に設けられた複数の孔から別々に基板Ｓ表面の空間に供給する。例文帳に追加

The method includes: the step of separately supplying Zr(BH_4)_4 gas forced to go out by supplying Ar gas to a material tank TK from a massflow controller MFC1, and oxygen atom-containing gas activated by excitation in a microwave plasma source PL to a space on a surface of a substrate S through holes provided in a shower plate 36. - 特許庁

本発明に係る固体電解質用電極は、安定化剤を含有する酸化ジルコニウムからなる酸素イオン伝導性の固体電解質基板の表面に、平均粒径が１ｎｍ〜１００μｍでほぼ均一粒径の微細粒子からなる薄膜微細構造を有する酸化ルテニウム電極を有機金属ＣＶＤ法（ＭＯＣＶＤ法）により形成したことを特徴とする。例文帳に追加

The electrode for solid electrolytes is characterized by forming a ruthenium oxide electrode having the thin film microstructure comprising the fine particles with the approximately uniform particle diameter with the average particle diameter in the range of 1 nm-100 μm on the surface of an oxygen ion conductive solid electrolyte substrate comprising zirconium oxide containing a stabilizing agent by the metal organic CVD method (MOCVD method). - 特許庁

本発明に係る半導体装置の製造方法は、水素及び酸素の混合ガスを燃料とするガスバーナー（２２）の火炎を熱源として、基板（１００）上に成膜された半導体層（１０３）を熱処理する工程を有し、この熱処理によって、半導体層が再結晶化（１０２ａ）され、半導体層の表面に酸化膜（１０２ｂ）が形成される。例文帳に追加

In this thermal treatment, the semiconductor layer is recrystallized (102a) so that an oxide film (102b) is formed on the surface of the semiconductor layer. - 特許庁

水、研磨砥粒、研磨促進剤、及び、酸素を含んでもよい炭素数２〜６個の主鎖に多価水酸基を有する化合物（グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコールなど）のうちの少なくとも一種である表面清浄剤を含有してなる研磨用組成物。例文帳に追加

The abrasive composition contains water, abrasive grains, an abrasion accelerator, and a surface cleaning agent, wherein the surface cleaning agent comprises at least one kind of compound having two or more hydroxy groups on its 2-6C main chain which may contain oxygen (such as glycerol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and propylene glycol). - 特許庁

本発明は、容器の内面にバリアー層を有し、該バリアー層は珪素酸化物と、炭素、水素、珪素及び酸素の中から少なくとも１種あるいは２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類含有し、前記バリアー層中の前記化合物濃度を、前記容器を構成する基材の界面からバリアー層表面への深さ方向において、連続的に変化させてなる。例文帳に追加

The plastic container has a barrier layer on the inside face of the container, and this barrier layer contains a silicon oxide and at least one kind of compound consisting of at least one element selected from carbon, hydrogen, silicon, and oxygen, and the concentration of the compound in the barrier layer is continuously changed in the depth direction from the interface of a substrate composing the container to the surface of the barrier layer. - 特許庁

貼り合わせウェーハを製造するに際し、上記貼り合わせに先立ち、活性層用および支持基板用の２枚のシリコンウェーハそれぞれに対し、酸素を0.5〜５vol％含有する雰囲気中にて300℃以上で１分以上の熱処理を施して上記シリコンウェーハの表面に付着した有機物を分解除去する。例文帳に追加

When the laminated wafer is manufactured; heat treatment is performed to each of two silicon wafers for active layers and support substrates at not less than 300°C for 1 minute or longer, in atmosphere containing 0.5-5 vol.% of oxygen to decompose the organic matter adhering onto the surface of the silicon wafer for removal prior to the lamination. - 特許庁

少なくとも１のセリウム／ジルコニウム原子割合のセリウム酸化物及びジルコニウム酸化物並びに適宜にイットリウム、スカンジウム又は希土類金属酸化物を基とし、９００℃、６時間のか焼の後に少なくとも３５ｍ^2／ｇの比表面積及び４００℃において少なくともＯ_2１．５ミリリットル／ｇの酸素貯蔵能力を示す組成物。例文帳に追加

The composition is based on cerium oxide and zirconium oxide of at least one cerium/zirconium atom ratio and properly based on yttrium, scandium or rare earth metal oxide and the composition exhibits a specific surface area of at least 35 m^2/g after calcination at 900°C for 6 h and oxygen storing potential of at least 1.5 ml/g O_2 at 400°C. - 特許庁

ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を光重合反応により結合しうる構造を表面に有する基材上に、該ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を含有する層、及び、高分子化合物を含有し、酸素遮断能を有する膜を、この順に積層した積層体。例文帳に追加

The laminate is prepared by laminating a substrate which has a structure able of photo-polymerization combining with a compound on its surface, a layer containing the compound, and a film having oxygen blocking function and containing a high molecular compound in this order, wherein the compound has an unsaturated part capable of radical polymerization and a part absorbable of a metal ion or a metal salt. - 特許庁

その製造方法は、基部上に形成される突起部を炭化珪素で作成し、或いは、この突起部に炭化珪素膜を形成し、この炭化珪素を、真空中あるいは微量酸素を含有する雰囲気において炭化珪素表面から珪素原子が失われる温度に加熱することにより、この炭化珪素から珪素原子を除去する。例文帳に追加

Its manufacturing method is to make the protruding part formed on the base part by silicon carbide, or to form a silicon carbide film on the protruding part and to remove silicon atoms from the silicon carbide because the silicon carbide is heated up to a temperature wherein the silicon atoms are lost from the surface of the silicon carbide in a vacuum or in an atmosphere containing a scarce amount of oxygen. - 特許庁

基板上に凸状をなす磁性パターンを形成し、前記磁性パターン間の凹部および前記磁性パターン上に非磁性体を成膜し、酸素を含有するエッチングガスを用いて、前記非磁性体の表面を改質しながらエッチバックを行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。例文帳に追加

There is provided the manufacturing method of the magnetic recording medium in which the convex magnetic patterns are formed on a substrate, a film of non-magnetic body is formed on a concave portion between the magnetic patterns or thereon, and etch back is performed using an etching gas including an oxygen while a surface of non-magnetic body is modified. - 特許庁

シリコン窒化酸化膜５からなるゲート絶縁膜を有するＭＩＳ型半導体装置の製造方法において、（ａ）シリコン基板１を、活性酸素種を含むガスで酸化してシリコン酸化膜３を形成する工程、（ｂ）シリコン酸化膜３をプラズマ窒化処理することにより、表面が窒化されたシリコン窒化酸化膜５を形成する工程を含める。例文帳に追加

The manufacturing method of the MIS semiconductor device having the gate insulating film constituted of the silicon nitride oxidized film 5 comprises a process for oxidizing the silicon substrate 1 by gas including an active oxygen species (a) and a process for forming the silicon nitride oxidized film 5 whose surface is nitrided by performing plasma nitriding the silicon oxidized film 3 (b). - 特許庁

本発明の透明導電体の製造方法は、樹脂製の透明基板原板の片面または両面に、ケイ素含有化合物および酸素を含む燃料ガスの火炎による処理を施して酸化ケイ素膜を形成させる工程と、前記酸化ケイ素膜の表面に、π共役系導電性高分子とポリアニオンと溶媒とを含有する導電性高分子溶液を塗布して導電層を形成する工程とを有する。例文帳に追加

Its manufacturing method comprises a step of forming the silicon oxide film on one or both sides of the original resin transparent substrate while giving treatment thereto with the flames of fuel gas containing a silicon-containing compound and oxygen, and a step of forming the conductive layer on the surface of the silicon oxide film while applying conductive highpolymer solution containing the π conjugated conductive highpolymer, the polyanion and solvent. - 特許庁

超音波処理もしくは高周波処理を施すことによって表面に欠陥部位及び／または細孔及び／または酸化部位を設けた調整稠密多層カーボンナノチューブをガラス基板に分散配置した後、このカーボンナノチューブに対して酸素ガス雰囲気中でレーザーアブレーション法により酸化チタンを蒸着させるようにしている。例文帳に追加

In the method for producing the titanium oxide thin film, a prepared dense multilayer carbon nanotube whose surface is provided with a defective part and/or pores and/or an oxidized part by performing ultrasonic treatment or high-frequency treatment is dispersedly arranged at a glass substrate, and titanium oxide is thereafter vapor-deposited on the carbon nanotube in a gaseous oxygen atmosphere by a laser ablation process. - 特許庁

基材上に、Ａｌと、ＣｒおよびＶのうちの少なくともいずれかの元素と、窒素、炭素、酸素から選ばれる１種以上の元素とを少なくとも含む化合物にて形成された内層が被覆され、さらに内層上にＴｉの炭窒化物にて形成された最外層が被覆されてなる表面被覆切削工具。例文帳に追加

The surface coated cutting tool has an inner layer coated on a base material, the inner layer being composed of a compound containing Al, at least any one of Cr and V, and at least one or more elements selected from N, C, and O, and further has an outermost layer coated on the inner layer, the outermost layer being formed by a carbonitride of Ti. - 特許庁

先ず裏面にポリシリコン膜１７を形成したシリコンウェーハ１２の内部に酸素イオン１１を注入した後に、このウェーハ１２に熱処理を施してウェーハ１２内部に埋込み酸化膜１３を形成することにより埋込み酸化膜１３上のウェーハ１２表面にＳＯＩ層１４を形成してＳＩＭＯＸ基板１６を作製し更に全面に酸化膜１８を形成する。例文帳に追加

After implanting an oxygen ion 11 into a silicon wafer 12 where first a polysilicon film 17 is formed on the backside, the wafer 12 is heat-treated to form an embedded oxide film 13 inside the wafer 12, thus manufacturing a SIMOX substrate 16 by forming an SOI layer 14 on the surface of the wafer 12 on the embedded oxide film 13 and further forming an oxide film 18 on the whole surface. - 特許庁

非磁性基板上に磁性層を形成した後、該磁性層の表面を部分的に酸素、ハロゲン等の反応性プラズマにさらし、もしくは該プラズマ中に生成した各種反応性イオンにさらし、該箇所の磁性層を非晶質化せしめ、磁気特性を改質することにより磁気的に分離した磁気記録パターンを形成する。例文帳に追加

A magnetically-separated magnetic recording pattern is formed by forming a magnetic layer on a non-magnetic substrate, then exposing the surface of the magnetic layer partially to a reactive plasma such as oxygen and halogen, or to various kinds of reactive ions generated in the plasma so as to amorphize the portion of the magnetic layer and to modify the magnetic characteristics. - 特許庁

本カーボンナノチューブ膜３は、グラファイト等からなる基板１上に炭化珪素からなる多結晶膜２を形成させ、その後、微量酸素を含有する雰囲気において炭化珪素が分解して炭化珪素多結晶膜の表面から珪素原子が失われる温度に加熱することにより、炭化珪素から珪素原子を完全に除去して得られる多数のカーボンナノチューブからなる。例文帳に追加

This carbon nanotube film 3 comprises a plurality of carbon nanotubes produced by forming a polycrystalline film 2 made up of silicon carbide on the substrate 1 made up of graphite and the like, and subsequently heating the film to the temperature at which silicon carbide is decomposed under the atmosphere containing a trace amount of oxygen to lose silicon atoms from the surface of the polycrystalline film of silicon carbide to completely remove the silicon atoms. - 特許庁

導電性基体上に配設される感光層と、感光層上に配設され、ガリウム（Ｇａ）と酸素（Ｏ）と水素（Ｈ）とを９０原子％以上含んで構成されると共に膜の原子数密度が７．９×１０^２２ｃｍ^−３以上である表面層と、を備える電子写真感光体、該電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジ、及び該電子写真感光体を備えた画像形成装置。例文帳に追加

The process cartridge includes the electrophotographic photoreceptor, and the image forming apparatus includes the electrophotographic photoreceptor. - 特許庁

少なくとも炭素とフッ素とを構成元素とする原料物質と水素とのプラズマ雰囲気を用いて、基材の表面にカーボンナノウォールを形成するカーボンナノウォールの製造方法において、プラズマ雰囲気に、酸素のプラズマの形成を加えたことを特徴とするカーボンナノウォールの製造方法である。例文帳に追加

In a method for manufacturing a carbon nanowall wherein the carbon nanowall is formed on the surface of a substrate by using a plasma atmosphere of a raw material substance containing at least carbon and fluorine as constituent elements and hydrogen, the invented method is characterized by adding the formation of oxygen plasma to the plasma atmosphere. - 特許庁

有機層３と、該有機層の表面に設けられた無機層４とを有し、有機層がリン酸エステル基を有する重合性化合物を含む重合性組成物を紫外線を照射することによって硬化させてなり、紫外線照射量が１０〜２５０ｍｊ/ｃｍ^2であり、紫外線照射時の酸素濃度が５０ｐｐｍ以下であるバリア性積層体。例文帳に追加

The barrier laminate has an organic layer 3 and an inorganic layer 4 formed on the surface of the organic layer, and the organic layer is formed by hardening a polymerizable composition containing a polymerizable compound having a phosphoric ester group by irradiation with UV rays in an amount of UV-ray irradiation of 10-250 mj/cm^2 with a concentration of oxygen on irradiation with UV rays of ≤50 ppm. - 特許庁

次に、マスクが形成された基板表面を、酸素を含む雰囲気で熱処理して導電性水素バリア膜の所定領域を酸化させ、コンタクトプラグに接する領域の少なくとも一部を導電性水素バリア層８とし、導電性水素バリア層となる領域以外に絶縁性水素バリア層９を形成する。例文帳に追加

The surface of the substrate 2 with the mask 7 formed thereon is subjected to heat treatment in an oxygen-containing atmosphere, and this oxidizes a predetermined region of the conductive hydrogen barrier film 6 for the conversion of at least a part of the region in contact with the contact plug 5 into a conductive hydrogen barrier layer 8. - 特許庁

さらに、酸素およびハロゲン化合物を含む雰囲気で半導体基板１０１に熱処理を行なって、ＯＮＯ膜１０２の開口部の端部表面にシリコン酸化膜１０６を形成すると同時に、各ｎ型拡散層１０４の上部を酸化することにより、各ｎ型拡散層１０４の上部にビットライン酸化膜１０７を形成する。例文帳に追加

In addition, a silicon oxide film 106 is formed on the surface of end of the aperture of the ONO film 102 by conducting heat treatment to the semiconductor substrate 101 in an atmosphere including an oxygen and halogen compound, and a bit line oxide film 107 is simultaneously formed to the upper part of each n-type diffusing layer 104 by oxidizing the upper part of the n-type diffusing layer 104. - 特許庁

ウエハ１０を用意し、ウエハ１０上に金属膜１１を形成し、金属膜１１をエッチングしてＩＤＴ２及び反射器３を形成し、ウエハ１０の一部である圧電基板１０ａ及びＩＤＴ２をトリミングして周波数を調整し、ＩＤＴ３表面を酸素雰囲気中での熱処理により急速に変質させて変質層を形成して特性を安定させる。例文帳に追加

A metal film 11 is formed on a prepared wafer 10, etching the metallic film 11 forms IDTs 2 and reflectors 3, the frequency is adjusted by trimming a piezoelectric substrate 10a and the IDTs 2 which are part of the wafer 10, the surface of the IDTs 2 are rapidly modified through heat treatment under an oxygen atmosphere, to form a modified layer so as to stabilize the characteristics. - 特許庁

集電体と、前記集電体の表面に形成された、活物質および結着剤を含む活物質層と、を有する電池用電極であって、前記結着剤が、分子構造中にリチウムイオンに配位しうる酸素原子を含む官能基を有することを特徴とする、電池用電極によって上記課題は解決される。例文帳に追加

In an electrode for a battery having a current collector and an active material layer formed on the surface of the current collector and including an active material and a binding agent, the binding agent has a functional group including atomic oxygen capable of being coordinated with a lithium-ion in a molecular structure. - 特許庁

表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。例文帳に追加

To provide a photocrosslinkable resin composition hardly receiving influence of polymerization impediment due to oxygen even while a resin layer surface is uncovered after film-thinning an photocrosslinkable resin layer in a method of manufacturing a circuit board for forming the photocrosslinkable resin layer on a substrate putting a conductive layer on the surface, and performing exposure of a circuit pattern and development treatment after performing film-thinning treatment of the photocrosslinkable resin layer with aqueous alkali solution. - 特許庁

該基体がアルミニウムまたはアルミニウム合金でありかつ、該基体の感光層側の表面を酸またはアルカリあるいはアルカリと酸の両方を使用してエッチング処理を行った後にチタニウムまたはジルコニウムの金属化合物の金属塩を含有する酸性水溶液で化成処理した後に更にケイ酸塩の溶液にて後処理することを特徴とする電子写真感光体の製造方法、およびこの方法により製造された感光層側の表面にアルミニウム、酸素およびチタニウムまたはアルミニウム、酸素およびジルコニウムを含有する電子写真感光体用基体、並びに該感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置。例文帳に追加

The substrate for an electrophotographic photoreceptor is obtained by subjecting the photosensitive layer side surface of an aluminum or aluminum alloy substrate to etching with an acid and/or an alkali, a chemical conversion treatment with an acidic aqueous solution containing a metal salt of titanium or zirconium and an aftertreatment with a silicate solution, and the photosensitive layer side surface of the substrate comprises aluminum, oxygen and titanium, or aluminum, oxygen and zirconium. - 特許庁

基板１０１上にＳｉＯＦ膜１０２を形成するステップと、前記ＳｉＯＦ膜に配線形成用の開口部を形成するステップと、前記ＳｉＯＦ膜に形成された前記開口部の表面から該ＳｉＯＦ膜に含まれるフッ素を除去するステップと、前記フッ素が除去された前記開口部の表面に酸素プラズマ処理を行うステップと、前記開口部に配線用の金属１０４，１０５を設けるステップとを備えている。例文帳に追加

The manufacturing method includes steps of forming an SiOF film 102 on a substrate 101, forming an opening for wiring formation in the SiOF film, removing fluorine contained in the SiOF film from a surface of the opening, subjecting the fluorine-removed surface of the opening to an oxygen plasma process, and providing wiring metals 104 and 105 to the opening. - 特許庁

基体と該基体上に形成されたマグヘマイト薄膜とからなる磁気記録媒体において、前記マグヘマイト薄膜の膜厚が７〜５０ｎｍであり、その表面の中心線平均粗さＲａが０．１〜１．０ｎｍであって、保磁力角型比Ｓ^＊値が０．５０以上である磁気記録媒体は、スパッタ法によって基体上にマグネタイト薄膜を形成した後、引き続きスパッタ室内において該マグネタイト薄膜を酸素過剰雰囲気下でスパッタ処理してマグヘマイト薄膜にして得ることができる。例文帳に追加

The magnetic recording medium is obtained by forming a magnetite thin film on the base body by the sputtering method and subjecting the magnetite thin film to sputtering treatment successively in a sputtering chamber in an excess oxygen atmosphere to form the maghemite thin film. - 特許庁

基材上に、銅ナノ粒子を含む塗布液をパターン状に印刷して印刷層を形成した後、この印刷層を焼成処理してパターン状の半導体層を形成する半導体基板の製造方法であって、酸素を含む雰囲気下、マイクロ波エネルギーの印加により発生する表面波プラズマに前記印刷層を晒すことにより、該印刷層の焼成処理を行うことを特徴とする半導体基板の製造方法である。例文帳に追加

The method for producing the semiconductor substrate includes a step of forming the printed layer by printing a pattern with a coating solution containing copper nano-particles and then a step of forming the pattern of the semiconductor layer by baking the printed layer, wherein the printed layer is baked by exposing the printed layer to the surface-wave plasma generated by an application of a microwave energy under an atmosphere containing oxygen. - 特許庁

親水性表面を有する支持体上に、少なくともポリハロメチル化合物、分子内に複数のエチレン性付加重合性基を有する化合物及び下記一般式（１）又は一般式（２）で表される環状置換基を有する化合物とを含有する感光層と、ポリビニルアルコールを含有する酸素遮断層とを有する感光性平版印刷版を、画像露光した後、現像処理前に加熱処理を施すことを特徴とする感光性平版印刷版の作製方法。例文帳に追加

In the method for making a photosensitive planographic printing plate, a photosensitive planographic printing plate having a photosensitive layer comprising at least a polyhalomethyl compound, a compound having a plurality of ethylenic addition polymerizable groups per molecule and a compound having a cyclic substituent of formula (1) or (2) and an oxygen intercepting layer comprising polyvinyl alcohol on a support having a hydrophilic surface is imagewise exposed and heated before development. - 特許庁

アルミニウム又はアルミニウム合金からなる導電性基体上に感光層を有する電子写真感光体において、該導電性基体の感光層側表面にチタニウム又はジルコニウム、リン、アルミニウム及び酸素からなる化成皮膜を有し、且つ、該化成皮膜のチタニウム又はジルコニウム含有量とリン含有量の質量比率が４／１〜０．４／１の範囲であることを特徴とする電子写真感光体、この電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置。例文帳に追加

The electrophotographic photoreceptor, which has a photosensitive layer on a conductive base made of aluminum or an aluminum alloy, has a formed film of titanium or zirconium, phosphorus, aluminum, and oxygen on the photosensitive-layer side surface of the conductive base, and the mass ratio of the titanium or zirconium content and phosphorus content of the formed film being 4/1 to 0.4/1. - 特許庁

抵抗発熱体２１を内部に有するセラミック製の基体２と、固体電解質体からなる検出層１１の表裏面に検知電極１３１、基準電極１３２が形成された酸素濃淡電池素子１と、電極保護層５とを積層した板状の素子本体を有する積層型ガスセンサ素子４００において、少なくとも測定対象気体に晒されることになる先端側全周に、多孔質接着層４１と多孔質表面層４２とからなる多孔質保護層４０を形成する。例文帳に追加

The laminated type gas sensor element 400 has plate-like element body in which ceramic-made base substance 2 internally containing resistance heating element 21, oxygen concentration cell element 1 with sensing electrode 131 and reference electrode 132 formed on both faces of sensing layer 11 consisting of solid electrolyte, and electrode protective layer 5, are laminated. - 特許庁