「Beam Deflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

By a beam deflection width control circuit 250, a self-excited oscillation circuit 200 is controlled so that beam deflection width in the light receiving area of the PSD 220 becomes constant in response to the beam deflection width detection signal.例文帳に追加

ビーム振れ幅制御回路２５０はビーム振れ幅検出信号に応答してＰＳＤ２２０の受光領域でのビーム振れ幅が一定になるように自励発振回路２００を制御する。 - 特許庁

By impressing a voltage on the deflection element 2, its optical characteristics determining a beam deflection angle are changed.例文帳に追加

偏向素子２は、電圧の印加によってビームの偏向角を決定する光学的特性が変化する。 - 特許庁

To provide a cathode-ray tube having a deflection unit capable of reducing the deflection power of an electron beam.例文帳に追加

電子ビームの偏向電力を低減できる偏向ユニットを備えた陰極線管を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFLECTION OF ROOF SLAB AND STRING BEAM USED THEREFOR例文帳に追加

屋根版のたわみ矯正方法およびそれに用いる張弦梁 - 特許庁

To reduce a cost without enlarging other beam deflection means.例文帳に追加

他のビーム偏向手段を大型化することなく、コスト低減を図る。 - 特許庁

TOROIDAL DEFLECTION SYSTEM, ITS MANUFACTURING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

トロイダル偏向器、その製造方法、及び荷電粒子線露光装置 - 特許庁

METHOD FOR ACQUIRING OFFSET DEFLECTION AMOUNT FOR SHAPED BEAM AND PLOTTING DEVICE例文帳に追加

成形ビームのオフセット偏向量取得方法及び描画装置 - 特許庁

METHOD OF ADJUSTING DEFLECTION TRACK OF CHARGED PARTICLE BEAM OF EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

荷電粒子線露光装置における偏向軌道の調整方法 - 特許庁

To provide an electron beam exposure device which is capable of controlling the deflection timing of an electron beam with high accuracy.例文帳に追加

電子ビームの偏向タイミングを高精度に制御する電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

The light beam reflected from the beam deflection elements produces spots illuminated in a system pupil surface (70).例文帳に追加

ビーム偏向要素から反射される光ビームは、システム瞳表面（７０）にスポットを生成する。 - 特許庁

In this case, all the deflection directions of light beams on other deflection mirror faces are aligned in the same direction as the deflection direction of the light beam deflected with the reference deflection mirror face (third deflection mirror face 951c), in order to give a a deflection angle Θs larger than 2×Θ3max to the light beam emitted from a N-th deflection mirror face 951n.例文帳に追加

この時、第Ｎ偏向ミラー面９５１ｎから射出される光ビームの偏向角Θsを、２・Θ3maxより大きくするためには、他の偏向ミラー面による光ビームの偏向方向がすべて、基準偏向ミラー面（第３偏向ミラー面９５１ｃ）による光ビームの偏向方向と同じ方向になるようにしてやればよい。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS, DEFLECTION AMPLIFIER, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY PROGRAM例文帳に追加

電子ビーム描画装置、偏向アンプ、電子ビーム描画方法、半導体装置の製造方法、及び電子ビーム描画プログラム - 特許庁

To provide a septum electromagnet for beam deflection and separation of completely new composition and an electromagnet for beam deflection and separation, and further to provide a beam deflecting method using them.例文帳に追加

全く新規な構成のビーム偏向分離用セプタム電磁石及びビーム偏向分離用電磁石を提供するとともに、これらを用いたビーム偏向方法を提供する。 - 特許庁

The reference deflection mirror face (third deflection mirror face 951c) deflects the light beam at a maximum deflection angle of 2×Θ3max, in a positive direction at a time t3max.例文帳に追加

基準偏向ミラー面（第３偏向ミラー面９５１ｃ）は時刻ｔ3maxの時に正方向に最大偏向角２・Θ3maxで光ビームを偏向する。 - 特許庁

The wobble signal is modulated so that a deflection time becomes equal at the inner peripheral deflection time and at outer peripheral deflection time when the exposure beam is turned off.例文帳に追加

露光光がオフになったときに偏向時間が内周偏向時と外周偏向時で等しくなるようにウォブル信号を変調する。 - 特許庁

To provide a deflection electromagnet adjustment apparatus which accurately adjusts deflection control of a charged particle beam performed by a deflection electromagnet.例文帳に追加

偏向電磁石による荷電粒子ビームの偏向制御を高精度に調整する偏向電磁石調整装置を得ることを目的とする。 - 特許庁

For example, the deflection pattern to the charged particle beam is made into a parallelogram.例文帳に追加

例えば、荷電粒子ビームの偏向パターンを平行四辺形となる。 - 特許庁

To provide a beam separator having a larger deflection angle and small aberration.例文帳に追加

大きな偏向角と小さな収差を有するビームセパレータを提供する。 - 特許庁

INFORMATION RECORDING METHOD BY BEAM WITH FINE RECIPROCATIVE VIBRATION DEFLECTION ADDED例文帳に追加

微小往復振動偏向を加えたビームによる情報記録方法 - 特許庁

Each of the beam deflection elements (Mij) deflects an impinging light beam by a deflection angle that is variable in response to control signals.例文帳に追加

各ビーム偏向要素（Ｍｉｊ）は、制御信号に応答して変更可能な偏向角で衝突する光ビームを偏向するようになっている。 - 特許庁

After engaging a jet pump beam (referred to as beam) 27 with protruding portions 25A, 25B of a transition piece and giving a deflection to the beam 27, a beam bolt 28 on the beam 27 is tightened.例文帳に追加

ジェットポンプビーム（以下、ビームという）２７がトランジションピースの突出部２５Ａ，２５Ｂに嵌め込まれ、ビーム２７へのたわみ付与後に、ビーム２７のビームボルト２８を締め付ける。 - 特許庁

When an amendment magnetic field is added to the horizontal deflection magnetic field, a beam deflection center is shifted to a neck portion side, and when it is a backward amendment magnetic field, the beam deflection center is shifted to a funnel portion side.例文帳に追加

水平偏向磁界に補正磁界が加わるときにはビーム偏向中心がネック部側にシフトし、逆向きの補正磁界のときは、ビーム偏向中心がファンネル部側にシフトする。 - 特許庁

To enable highly accurate control for a deflection angle of a mirror substrate in an electrostatically driven twisted beam type mirror deflection device.例文帳に追加

静電駆動のねじり梁型ミラー偏向装置において、ミラー基板の振れ角の高精度制御を可能とする。 - 特許庁

The deflection part deflects the electron beam so that the beam is incident on a target surface 35b in a third direction d3.例文帳に追加

偏向部は、電子ビームを偏向させ、ターゲット面３５ｂに、第３方向ｄ３に向けて入射させる。 - 特許庁

To provide a deflection beam antenna capable of deflecting a radiation beam upward or downward.例文帳に追加

放射ビームを上方向あるいは下方向に偏向させることができる偏向ビームアンテナを提供する。 - 特許庁

To correct a deflection chromatic aberration of a primary electron beam by an E×B separator in an electron beam device.例文帳に追加

電子線装置において、Ｅ×Ｂ分離器による一次電子線の偏向色収差を補正する。 - 特許庁

Patterns P are drawn by moving an electron beam through main deflection by a short distance from an adjacent sub-deflection region 101a to a sub-deflection region 101b.例文帳に追加

主偏向により電子ビームを隣接する副偏向領域１０１ａから副偏向領域１０１ｂに短距離移動させてパターンＰを描画する。 - 特許庁

To provide an adjusting method which is capable of setting the point and angle of incidence of a deflection beam on a wafer at designed values and making the deflection beam pass through the center of a contrast aperture.例文帳に追加

偏光ビームがコントラストアパーチャの中心を通り、ウエハ面上の入射位置、入射角も設計値に合わせるような調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method for controlling the deflection amplitude and offset of a laser beam deflected by a resonance mirror galvanometer to which only beam deflection timing information is provided.例文帳に追加

ビーム偏向タイミング情報のみを与えられて、共振ミラーガルバノメータによって偏向されたレーザ・ビームの偏向振幅とオフセットを制御するシステムと方法。 - 特許庁

To detect coil anomaly in a deflection device of a charged particle beam irradiation device.例文帳に追加

荷電粒子線照射装置の偏向装置のコイル異常を検出する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING DEFLECTION OF LASER BEAM IN STEREO LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

光造形システムにおけるレーザビームの偏向制御方法及びその装置 - 特許庁

LIGHT BEAM DEFLECTION STRUCTURE PLATE, SURFACE LIGHT SOURCE DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

光偏向構造板及び面光源装置並びに液晶表示装置 - 特許庁

METHOD OF MEASURING INCIDENT ANGLE OF CHARGED PARTICLE BEAM AND DEFLECTION CONTROLLING METHOD例文帳に追加

荷電粒子線の入射角度測定方法および偏向制御方法 - 特許庁

To appropriately quickly correct the deflection of an electron beam by a deflector.例文帳に追加

適切且つ迅速に偏向器による電子ビームの偏向の校正を行う。 - 特許庁

The first scanning means 114a changes deflection direction of the irradiation beam.例文帳に追加

第１の走査手段１１４ａは照射光の偏向方向を変える。 - 特許庁

A beam deflection scanning device periodically changes an orbit of a charged particle beam by carrying out deflection scanning for the charged particle beam having a fixed orbit in a vacuum space.例文帳に追加

本発明によるビーム偏向走査装置は、真空空間中で一定軌道を有する荷電粒子ビームに偏向走査を行なうことにより荷電粒子ビームの軌道を周期的に変更する。 - 特許庁

To provide a controlling method for a liquid crystal beam deflector with high accuracy by which distortion in the wavefront of a transmitting beam in a liquid crystal beam deflector can be decreased and high efficient beam deflection can be achieved at a desired deflection angle.例文帳に追加

波晶光ビーム偏向器の透過光線の波面歪みを低減し、任意の偏向角度に対して高効率のビーム偏向を可能にする液晶光ビーム偏向器の高精度制御方法を提供する。 - 特許庁

Further, the patterns of pit signals for turning the exposure beam on/off are changed at an outer peripheral deflection time and at an inner peripheral deflection time.例文帳に追加

また、露光光をオンオフさせるためのピット信号のパターンを外周偏向時と内周偏向時で異ならせる。 - 特許庁

A parallel light beam emitted from a collimator lens 63 is directly made incident on the deflection mirror face 651 of a deflection device.例文帳に追加

コリメータレンズ６３から射出される平行光ビームがそのまま偏向素子の偏向ミラー面６５１に入射される。 - 特許庁

METHOD OF DETERMINING MAIN DEFLECTION SETTLING TIME OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING, CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画の主偏向セトリング時間の決定方法、荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁

A reaction beam for deflection correction is attached near both ends of the beam itself with a pin or the like in a both ends supported manner, and a mechanism giving a reaction load, F, equivalent to the dead weight of the beam from the reaction beam to the beam and self-correcting the deflection is adopted.例文帳に追加

梁自身の両端近傍にたわみ修正用の反力梁をピンなどで両端支持の状態で取り付け、反力梁より梁の自重に相当する反力荷重：Fを梁に与えてたわみを自己補正できる機構を採用している。 - 特許庁

Thus, a secondary electron emission coefficient can be made small, and a beam deflection amount can be reduced.例文帳に追加

２次電子放出係数を小さくでき、ビーム偏向量を低減できる。 - 特許庁

The deflection angle of laser beam is controlled by an electron scan device 2 to emit the laser beam toward an object which is to be measured.例文帳に追加

電子スキャン装置２によってレーザ光の偏向角が制御され、被測定物にレーザ光を発信される。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure apparatus and electron beam exposure method which can correct a deflection strain of sub-deflectors.例文帳に追加

副偏向器の偏向歪みを補正しうる電子線露光装置及び電子線露光方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the light beam is reflected twice at the deflection element 65 and is emitted toward a scanning lens 66, at a second deflection angle which is larger than the first deflection angle.例文帳に追加

これによって、光ビームが偏向素子６５で２回反射され、第１偏向角よりも大きな第２偏向角で光ビームが走査レンズ６６に向けて射出される。 - 特許庁