| 意味 | 例文 |
Beam Deflectionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 826件
The insertion light source device has a first deflection electromagnet device, a second deflection electromagnet device and a third deflection electromagnet device disposed in the named order along a beam orbit.例文帳に追加
挿入光源装置は、ビーム軌道に沿って第一の偏向電磁石装置、第二の偏向電磁石装置及び第三の偏向電磁石装置をこの順に配置している。 - 特許庁
To provide a charged corpuscular beam exposing device which can obtain a large deflection amount with small excitation electric current and of which deflection aberration is small.例文帳に追加
小さな励磁電流で大きな偏向量が得られ、かつ、偏向収差の小さい荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁
In addition, connecting the switch 54 to the primary electron beam deflection control circuit 56 for obtaining the defective image allows low-speed deflection.例文帳に追加
また、スイッチ54を画像取得用一次電子線偏向制御56に接続することにより低速偏向が可能となる。 - 特許庁
To provide an optical scanner that can reduce changes of beam diameter due to a temperature change and a pitch deflection of a vertical scanning beam pitch of multi-beam.例文帳に追加
温度変動によるビーム径変動やマルチビームの副走査ビームピッチのピッチ偏差を低減することのできる光走査装置を提供すること。 - 特許庁
By a light quantity and beam deflection width detection circuit 230, a light quantity detection signal and a beam deflection width detection signal are outputted from a current outputted by the PSD 220.例文帳に追加
光量・ビーム振れ幅検出回路230はPSD220の出力電流から光量検出信号およびビーム振れ幅検出信号を出力する。 - 特許庁
The light incident on the beam deflection element 31 is received by a light detection element 32 by making the state of the beam deflection element 31 into transmissive state.例文帳に追加
またビーム偏向素子31の状態を透過状態とすることによって、光検出素子32にビーム偏向素子31に入射する光を受光させることができる。 - 特許庁
The progression direction of the laser beam emitted from the laser beam source 101 is deflected by using a deflection element 102 and the deflection element 102 is rotated by a rotating device 103.例文帳に追加
レーザ光源101より発するレーザ光の進行方向を、偏向素子102を用いて偏向させるとともに偏向素子102を回転装置103で回転させる。 - 特許庁
When a prescribed deflection amount is given, installation of the beam is completed.例文帳に追加
所定のたわみ量が付与されているとき、ビームの取り付け方法が終了する。 - 特許庁
To provide a static deflection device for correcting the landing deviations of the electron beam.例文帳に追加
静的な電子ビームの到達誤差を修正するための偏向装置を提供する。 - 特許庁
OPTICAL PROFILER FOR ULTRA-SMOOTH SURFACE BASED ON RIGHT-ANGLED INCIDENT BEAM DEFLECTION METHOD例文帳に追加
直角入射ビーム偏向方法による超平滑面のためのオプティカルプロファイラ - 特許庁
Substantially the entire light incident on a beam deflection element 31 is propagated to a polygon mirror 33 by making the state of a beam deflection element 31 into a reflective state.例文帳に追加
ビーム偏向素子31の状態を反射状態とすることによって、ビーム偏向素子31に入射される光のほぼ全部がポリゴンミラー33に向かって進む。 - 特許庁
To provide a laser beam machining method which can suppress deflection of a workpiece.例文帳に追加
加工対象物の反りを抑制することができるレーザ加工方法を提供する - 特許庁
The second galvanometer mirror 13 changes the angle of deflection of the laser beam made incident on itself by the same angle as the angle to indicate the variation of the angle of deflection of the laser beam when the first galvanometer mirror 10 changes the angle of deflection.例文帳に追加
第2のガルバノミラー13は、第1のガルバノミラー10が偏向角を変化させるときに、その変化量を表す角度と同一の角度だけ自己に入射したレーザ光の偏向角を変化させる。 - 特許庁
To provide an optical scanner, in which a deflection angle of a light beam is surely larger than the maximum deflection angle of the light beam given with a reference deflection mirror face, and to provide image forming apparatus furnished with the optical scanner.例文帳に追加
基準となる偏向ミラー面による光ビームの最大偏向角よりも、確実に大きな光ビームの偏向角を得ることができる光走査装置および該装置を備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁
An electron beam optical axis positioning device 110 has a deflection amount decision means 112 which decides a deflection amount when an electron beam 15 is cast on a prescribed position on a mask 30 and an electron beam optical axis calibration means 114 which calibrates an optical axis position of the electron beam 15 by controlling a deflection means 20 based on the decided deflection amount.例文帳に追加
電子ビーム光軸位置調整装置110を、マスク30上の所定位置に電子ビーム15を照射したときの偏向量を決定する偏向量決定手段112と、決定された偏向量に基づき、偏向手段20を制御して、電子ビーム15の光軸位置を較正する電子ビーム光軸較正手段114とを備えて構成する。 - 特許庁
The optical scanner of includes a single optical deflection device, pre-deflection optical systems for making the beams of light from two or more light sources incident on the optical deflection device, and an after-deflection optical system including a 1st optical element for image-forming each beam of light reflected from the optical deflection device on a surface to be scanned for each beam of light.例文帳に追加
本発明の光走査装置は、単一の光偏向装置と、複数の光源からの光線を光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、光偏向装置からの各反射光線を光線毎の被走査面に結像させる第1の光学素子を含む偏向後光学系とを有する。 - 特許庁
To set a deflection angle of a light beam which is propagated in the space with good accuracy.例文帳に追加
空間を伝搬する光ビームの偏向角度の設定を、良好な精度で行う。 - 特許庁
To improve throughput by optimizing the main deflection settling time of charged particle beam drawing.例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画の主偏向セトリング時間を最適化してスループットの向上を図る。 - 特許庁
The maximum deflection angle of the laser beam is ±4° which is equivalent to the maximum rotational angle ±2° of the reflecting mirror.例文帳に追加
最大偏向角度は±4度、反射ミラーの回転角度にすると最大±2度である。 - 特許庁
MAGNETIC/ELECTROSTATIC HYBRID DEFLECTOR FOR ION IMPLANTATION SYSTEM, AND DEFLECTION METHOD OF ION BEAM例文帳に追加
イオン注入システムのための磁気/静電式ハイブリッド偏向器およびイオンビームの偏向方法 - 特許庁
Near the central part of the beam 104, a sensor unit for detecting its deflection is provided.例文帳に追加
ビーム104の中央部近傍には、その撓みを検出するセンサユニットが設けられる。 - 特許庁
ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR CALCULATING ASYNCHRONOUS ROTATION DEFLECTION, AND PATTERN DRAWING METHOD例文帳に追加
電子線描画装置、非同期回転振れ量算出方法、及びパターン描画方法 - 特許庁
An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus (10) includes a number of beam deflection elements.例文帳に追加
マイクロリソグラフィ投影露光装置(10)の照明システムは、多数のビーム偏向要素を含む。 - 特許庁
A correction sequence is repeated for calibration, deflection/axis correction, beam center alignment, and deflection gain and axis correction parameter adjustment.例文帳に追加
較正、偏向/軸補正、ビーム中央位置合わせ、ならびに偏向利得および軸補正パラメータ調整のために、補正シーケンスを繰り返す。 - 特許庁
In a second operation mode (for example, 1 keV ion beam energy), a deflection electric field is generated for only the deflection electrode pair 51a and 52a.例文帳に追加
第2動作モード(例えば、1keVのイオンビームエネルギー)においては、偏向電極対51a、52aのみに偏向電場を発生させる。 - 特許庁
The image forming apparatus includes an optical beam scanning device allowing a light deflection unit to deflect and scan a light beam emitted from a light source and deflect the deflected and scanned light beam and then, a post-deflection optical unit to form the image of the deflected and scanned light beam on a surface to be scanned.例文帳に追加
本発明の画像形成装置は、光源から出射された光線を光偏向装置が偏向走査し、偏向走査された光線を偏向後光学装置が被走査面に結像させる光走査装置を有するものである。 - 特許庁
Therefore, the light beam emitted from a deflection mirror plane 651 toward the scanning lens 66 becomes a light beam increasingly diverging with the increase of deflection angles, and the image-forming position of the light beam also shifts to the surface side of the photoreceptor.例文帳に追加
このため、偏向ミラー面651から走査レンズ66に向けて射出される光ビームは、偏向角が増大するのにしたがって発散光ビームとなり、光ビームの結像位置も感光体の表面側に移動する。 - 特許庁
To realize a structure capable of retaining a beam such that vertical and left and right gaps of the beam and a case inner wall surface become equal in a deflection vibration type exciter having a structure in which the beam for deflection vibration is stored in a case.例文帳に追加
撓み振動用のビームをケースに収容した構造の撓み振動型エキサイタにおいて、ビームとケース内壁面との上下・左右の間隔が均等になるように、ビームを保持可能な構造を実現する。 - 特許庁
The deflection method of ion beam includes a step in which one or a plurality of characteristics of beam are identified and a step in which, based on the identification, either of the magnetic deflection module or the electrostatic deflection module are operated selectively.例文帳に追加
また、本発明に係るイオンビームの偏向方法は、ビームに関する1つまたは複数の特性を判別するステップと、この判別に基づいて、磁気偏向モジュールと静電偏向モジュールの1つを選択的に動作させるステップを含む。 - 特許庁
Further, a light beam deflected by a first deflection angle with the first deflection mirror face 651a of a deflection device 65 is reflected on the first concave face mirror 671 and guided to the second concave face mirror 672 and a light beam reflected on the second concave face mirror 672 is guided to the second deflection mirror face 651b.例文帳に追加
そして、偏向素子65の第1偏向ミラー面651aにより第1偏向角に偏向された光ビームを第1凹面ミラー671で反射して第2凹面ミラー672に導くとともに、第2凹面ミラー672で反射された光ビームを第2偏向ミラー面651bに導く。 - 特許庁
To miniaturize an optical scanner in which a deflection angle is increased by guiding a light beam deflected on a first deflection mirror face to a second deflection mirror face with a transmission optical system and further deflecting the light beam on the second deflection mirror face, and to miniaturize an image forming apparatus which is furnished with the optical scanner.例文帳に追加
第1偏向ミラー面で偏向された光ビームを伝達光学系により第2偏向ミラー面に導き、該第2偏向ミラー面でさらに光ビームを偏向することで偏向角の増大を図る光走査装置および該装置を装備する画像形成装置において、装置の小型化を図る。 - 特許庁
To provide a charged particle beam deflection device for particularly controlling beam deflection with a high degree of accuracy, in deflecting charged particle beams such as electron beams, etc.例文帳に追加
電子ビーム等の荷電粒子線を偏向する荷電粒子線偏向装置に関し、特に、ビーム偏向を高精度に制御する荷電粒子線偏向装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
A light beam from a laser light source 62 is made incident on the deflection mirror face 6511 (M1) of a deflector 65 through a beam shaping system 63 and deflected with the deflection mirror face 6511.例文帳に追加
レーザー光源62からの光ビームはビーム整形系63を介して偏向器65の偏向ミラー面6511(M1)に対して入射し、該偏向ミラー面6511により偏向される。 - 特許庁
An electronic beam deflection control unit 25 controls the electronic beam deflection mechanism 23 such that each of the plurality of detecting element groups is sequentially included in the X-ray irradiation range for each view.例文帳に追加
電子ビーム偏向制御部25は、複数の検出素子群の各々がビュー毎に順番にX線照射範囲に含まれるように電子ビーム偏向機構23を制御する。 - 特許庁
To provide an electron beam aligner wherein blur and distortion of an image caused by deflection aberration is suppressed for large deflection amount even when an aperture half angle of electron beam is large.例文帳に追加
電子線の開き半角を大きめにとった場合でも、偏向収差による像のぼけ、歪みを小さく押さえ、大きな偏向量のとれる電子線露光装置を提供する。 - 特許庁
In the inspection device using an electron beam, an electron beam deflection control circuit includes a first deflection circuit part generating a signal of a component in an electron beam running direction, and a second deflection circuit part generating a signal of a component in the moving direction of an inspection object sample, and further includes a setting means for independently setting deflection circuit characteristics of the first and second deflection circuit parts.例文帳に追加
電子ビームを用いた検査装置において、電子ビーム偏向制御回路は、電子ビーム走査方向成分の信号を生成する第一の偏向回路部と、被検査試料の移動方向成分の信号を生成する第二の偏向回路部を備え、前記第一及び第二の偏向回路部の偏向回路特性を独立に設定する設定手段を備える。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF STOCK TUBE RIGID IN DEFLECTION AND WEAK IN TORSION AS CROSS BEAM FOR PIVOT BEAM REAR AXLE OF PASSENGER CAR例文帳に追加
乗用車のピボットビームリヤアクスルのためのクロスビームとして撓み剛性を有しねじりに弱い管成形材を製造する方法 - 特許庁
When the beam passes through the polarization beam splitter 6 again, only a component of a prescribed deflection angle passes downward (in the direction of a lens 2).例文帳に追加
この光が再度偏光ビームスプリッタ6を通るときには、所定の偏向角の成分のみが下(レンズ21の方)へ透過する。 - 特許庁
Thereby, the amount of the materials used can be reduced compared with the case where both board thicknesses of the ceiling beam 16 and the floor beam 20 are increased, while the deflection of the floor beam 20 of the girder side on the second floor 2F (the floor deflection of the second floor 2F) which is considered to be weak against deflection can be effectively restrained.例文帳に追加
これにより、天井梁16及び床梁20の両方の板厚を厚くした場合に比較して材料使用量が抑えられると共に、撓みに対して厳しいとされる2階2Fの桁側の床梁20の撓み(2階2Fの床の撓み)を効果的に抑えられる。 - 特許庁
A torsion beam deflector 100 is constituted of an inside (y)-axis direction deflection part 103 and an outside (x)-axis direction deflection part 104.例文帳に追加
トーションビーム光偏向器100は、内側のy軸方向偏向部103と、外側のx軸方向偏向部104とから構成されている。 - 特許庁
Further, deflection of the structure is controlled by a deflection adjusting mechanism which is arranged at a joint portion between the single member or field-assembled unit and the setting beam.例文帳に追加
また、単部材または地組したユニットとセッティングビームの結合部分に設けた、撓み調整機構を用いてその撓みを制御する。 - 特許庁
Charged particles that are in transit through a deflection system when the beam is repositioned do not receive correct deflection force and are misdirected.例文帳に追加
ビームが再配置されるときに偏向システムを通って遷移する帯電粒子は、適切な偏向力を受け取らず、誤って方向付けられる。 - 特許庁
To obtain an electron beam drawing apparatus, where an electron beam is capable of reaching to a shutoff stop edge passing through a distance much smaller than a total deflection amplitude at shutoff and deflection of a beam, a time required for shutting off a beam is markedly shortened, and a drawing pattern is improved in resolution.例文帳に追加
ビーム遮断偏向時の全偏向振幅よりはるかに小さい距離で遮断絞りエッジにビームを到達させ、ビーム遮断までの時間を大幅に短縮して描画パターンのエッジ解像度を向上させることができる電子ビーム描画装置を実現する。 - 特許庁
Thus, the beam is illuminated along an axial direction of the mirror, and its deflection characteristics are measured.例文帳に追加
つまり反射鏡の軸方向に沿ってビーム光を照射して、その偏向特性を計測する。 - 特許庁
Each of the beam deflection parts 2, 4 consists of deflectors in two stages arranged in an axis C direction, respectively.例文帳に追加
各ビーム偏向部2、4はそれぞれ軸C方向に配置された二段の偏向器からなる。 - 特許庁
Deflection of the tip end part 1a of a cantilever beam 1 with its base end part 1b fixedly supported is controlled.例文帳に追加
基端部1bを固定支持された片持ち梁1の先端部1aの撓みを制御する。 - 特許庁
To make it possible to deflect light, such as a laser beam, at a high velocity and wide deflection angle.例文帳に追加
レーザービームなどの光を高速且つ広偏向角度で偏向できる光偏向子を提供する。 - 特許庁
The multi-beam pattern definition device 300 includes a deflection array means 302 and a plurality of electrostatic deflector electrodes 321 for each beamlet.例文帳に追加
偏向アレイ手段302、各ビームレット用の複数の静電偏向電極321を有する。 - 特許庁
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