「Beam Deflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Based on the index signal a convergence york and a deflection york are controlled for automatically controlling the scanning position of the electron beam eB.例文帳に追加

このインデックス信号に基づいて、コンバーゼンスヨーク３２および偏向ヨーク２１が制御され、電子ビームｅＢの走査位置の自動制御が行われる。 - 特許庁

To provide an ultrasonic diagnosis apparatus which reduces an inhomogeneity between a deflection of a transmitting and receiving beam and a sensitivity of receiving in a parallel and simultaneous receiving.例文帳に追加

並列同時受信における送受信ビームのビーム曲がりと受信感度の不均一を低減した超音波診断装置の提供。 - 特許庁

To suppress occurrence of poor optical scanning caused by a variation in scanning speed of a light beam resulting from a variation in oscillation amplitude of a deflection mirror.例文帳に追加

偏向ミラーの振動振幅変動して光ビームの走査速度が変動することに起因した、光走査不良の発生を抑制する。 - 特許庁

The spot dimension Wsp of an incident light beam is longer than the length Wcp of the deflection mirror face 651 at the incident center position CP.例文帳に追加

また、入射光ビームのスポット寸法Ｗspが入射中心位置ＣＰでの偏向ミラー面６５１の長さＷcpよりも長くなっている。 - 特許庁

The first scanning means 114a can move a scanning point along the first scanning direction by changing the deflection direction of the irradiation beam.例文帳に追加

第１の走査手段１１４ａは走査点を照射光の偏向方向を変えることにより第１の走査方向に沿って移動可能である。 - 特許庁

To provide an ultrasonic diagnostic equipment of high sensitivity by increasing the accuracy in convergence and deflection of a received beam, and reducing the insertion loss of a delay line.例文帳に追加

受信ビームの収束偏向精度を高め、かつ、遅延線の挿入損失を減らして高感度の超音波診断装置を提供する。 - 特許庁

A case 11 accommodates therein a laser beam source 12, and an optical scanning means M comprising a galvano-mirror 13, a deflection mechanism 14 and a galvano-motor 15.例文帳に追加

ケース１１の内部にレーザ光源１２と、ガルバノミラー１３、偏向機構１４及びガルバノモータ１５よりなる光走査手段Ｍとを収容する。 - 特許庁

An electron gun structure for the cathode ray tube device contains a quadrupole lens formed with the increasing deflection of an electron beam.例文帳に追加

この陰極線管装置における電子銃構体は、電子ビームの偏向量の増大に伴なって形成される４極子レンズを含んでいる。 - 特許庁

To provide a time of flight mass spectrometer in which a deflection phenomenon of ion beam in an ion storage can be improved or relaxed.例文帳に追加

イオン溜内におけるイオンビームの偏向現象を、改善ないし緩和することのできる飛行時間型質量分析装置を提供する。 - 特許庁

The cathode-ray tube device is provided with a deflection yoke to deflect an electron beam emitted from an electron gun to the horizontal direction and the vertical direction.例文帳に追加

陰極線管装置は、電子銃から射出された電子ビームを水平及び垂直方向に偏向するための偏向ヨークを備えている。 - 特許庁

The deflection of the laser beam is continued during the time that the welding is stopped after a weld joint is formed and before the formation of a second joint is started.例文帳に追加

レーザービームの偏向は、ある溶接継手を形成したのち２番目の溶接継手を開始する前の溶接停止段階の間、続ける。 - 特許庁

To make a light beam scanner simple in configuration and low in cost by unnecessitating synchronization with a deflection means and facilitating connection in a main scanning direction.例文帳に追加

偏向手段の同期をとる必要をなくし、さらに主走査方向の繋ぎ合せを容易にし、装置の簡略化とコストの低減を図る。 - 特許庁

Furthermore, beam spots of uniform energy distribution can be formed at the ejection exit of the waveguide section by letting the deflection unit have an angle adjustment facility.例文帳に追加

また、偏向体に角度調整機構を備えることにより、導波部射出口においてエネルギー分布の均一なビームスポットを形成する。 - 特許庁

In the electron beam inspection device, a stage shifting speed can be adjusted irrespective of a limit of electron beam deflection frequency by scanning electron beam in the same direction (a horizontal direction) with a direction of scan-shifting of the stage.例文帳に追加

本発明による電子線検査装置では、ステージをスキャン移動させる方向と同一の方向（水平方向）にて電子線を走査させることで、電子線の偏向周波数の限界に関係なく走査数によりステージ移動速度が調整可能となる。 - 特許庁

To stabilize the shape of a beam spot on a scanned surface by suppressing changes in a convergence or divergence state of a projection beam caused by optical path deflection of an incident beam when a liquid crystal element is applied as an optical path deflecting means in an optical scanning device.例文帳に追加

液晶素子を光走査装置内の光路偏向手段として適用した場合に、入射ビームの光路偏向に伴う出射ビームの収束または発散状態の変化を抑制し、被走査面でのビームスポット形状の安定化を図る。 - 特許庁

In conducting calibration of the beam, the deflection center of the electron optics system is positioned at the center of the group of sub- fields 66-1 to 66-20, the sub-fields 66-1 to 66-20 are sequentially scanned by the beam, and the beam property is measured at each position.例文帳に追加

ビームの較正を行う際には、まず、電子光学系の偏向中心をサブフィールド群６６−１〜６６−２０の中央に位置させ、サブフィールド６６−１〜６６−２０に順次ビーム走査し、各位置においてビーム性状の測定を行う。 - 特許庁

Also, while movable members is kept stationary, the main beam (first main beam) PR of the light beam deflected by a deflection mirror face 651 and the optical axis OA of the scanning lens system 66 are parallel with and separated from each other in the main scanning cross section.例文帳に追加

また、可動部材を静止させた状態で偏向ミラー面６５１により偏向される光ビームの主光線（第１主光線）ＰＲと走査レンズ系６６の光軸ＯＡとが主走査断面において互いに平行で且つ離間している。 - 特許庁

A scanning optical apparatus includes, for example: a light source which outputs the light beam modulated in pulse width according to input image data; and a deflection means which deflects the light beam so as to scan an image carrier with the light beam in a main scanning direction.例文帳に追加

走査光学装置は、たとえば、入力された画像データに応じてパルス幅変調された光ビームを出力する光源と、光ビームが像担持体上を主走査方向に走査するよう、光ビームを偏向する偏向手段とを含む。 - 特許庁

To provide a light beam deflector which is manufactured at low cost by furnishing a simply structured wavefront aberration correcting means on a prism member having a reflection face which reflects a focused beam for deflection scanning.例文帳に追加

偏向走査を行うため集光ビームを反射させる反射面を持つプリズム部材に簡素な構成の波面収差補正手段を施して廉価に製造可能な光ビーム偏向器を提供する。 - 特許庁

To provide an optical scanner or the like which is so controlled that the scan speed of a light beam on a face to be irradiated is kept constant even when the deflection angle of the light beam reflected on a mirror is distorted.例文帳に追加

ミラーで反射した光ビームの偏向角が歪曲しても、被照射面における光ビームの走査速度が一定になるよう制御することが可能な光走査装置などを提供する。 - 特許庁

The optical pickup device 51 comprises a laser beam source 52; a collimator lens 53; a beam splitter 54, an optical element for receiving light; a vertical deflection mirror 55; a condenser lens 56; and a light-receiving means 57.例文帳に追加

光ピックアップ装置５１は、レーザ光源５２、コリメータレンズ５３、受光用光学素子であるビームスプリッタ５４、立上げミラー５５、集光レンズ５６および受光手段５７を含んで構成される。 - 特許庁

To provide an optical scanning device in which the deflection of an optical beam pitch is suppressed by preventing the deterioration in the beam diameter due to the influence of the built-in error of a light source, and to provide an image forming apparatus using the optical scanner.例文帳に追加

光源の組み付け誤差の影響による光ビーム径の劣化を防止して光ビームピッチの偏差を抑えることが可能な光走査装置及びこれを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A reflection mirror of a deflection optical system 2 reflects a light beam emitted from a laser oscillator 1 and makes the light beam reach on the surface of the work to be machined 20 held on the stage 7.例文帳に追加

偏向光学系２の反射鏡が、レーザ発振器１から出射された光ビームを反射させて、ステージ７に保持された加工対象物２０の表面上に光ビームを到達させる。 - 特許庁

Owing to deflection by the deflector 19, the electron beam 8 can be emitted from the horizontal direction of the vapor deposition material 5 in which vapor generation concentration is thin, and the generation degree of electron beam scattering is reduced.例文帳に追加

偏向器１９の偏向により、電子ビーム８は、蒸気発生濃度が薄く、電子ビーム散乱の発生度合いが小さい、蒸着材料５の横方向から照射することができる。 - 特許庁

To provide a rigidity increasing structure of a steel frame beam capable of suppressing or preventing deflection of the beam effectively by an inexpensive and simple structure to facilitate the construction.例文帳に追加

梁の撓みの発生を効果的に抑制ないしは阻止することができ、しかも、それを、低コストで、簡素な構造により、施工容易に実現することができる、鉄骨梁の剛性アップ構造等を提供する。 - 特許庁

A 1st catadioptric part (5), having a concave mirror (6) and a beam-deflection device (7), and a 2nd dioptric part (8) beginning from the beam deflecting device are positioned between the object plane and the image plane.例文帳に追加

凹面鏡（６）とビーム偏向装置（７）を有する反射屈折第１部分（５）およびこのビーム偏向装置から始まる屈折第２部分（８）が、物体平面と像平面との間に位置している。 - 特許庁

The wafer surface irradiation device comprises a first flash light source 21 for emitting a first light beam, a second flash light source 22 for emitting a second light beam, a deflection optical system 30, and a control means.例文帳に追加

ウエハー表面照射装置は、第１の光ビームを発する第１のフラッシュ光源２１と、第２の光ビームを発する第２のフラッシュ光源２２と、偏向光学系３０と、制御手段と、を備える。 - 特許庁

The light beam is made to scan to reciprocate in a main scanning direction by a vibrated deflection mirror surface, and the scanning direction of the light beam for forming a latent image is switched in accordance with a skew state.例文帳に追加

振動する偏向ミラー面によって光ビームを主走査方向に往復走査可能に構成するとともに、スキュー状態に応じて潜像形成用光ビームの走査方向を切り換えている。 - 特許庁

A charged particle beam deflection device D is arranged in front of the aberration correction device C, and it is made possible to change an incident direction of the charged particle beam against a multipole at a first step of the aberration correction device C.例文帳に追加

収差補正装置Ｃの前方に荷電粒子線の偏向器Ｄを設け、収差補正装置Ｃの一段目の多極子に対する荷電粒子線の入射方向を変えることを可能とする。 - 特許庁

Since the beam must be both rocked and unrocked, in the beam-rocking technique, deflection coils both before and after the sample are required. 例文帳に追加

ビームロッキング法(ビームを角度変化させる方法)においては、ビームが「揺り動かされ」、そして「揺り動かされない状態に戻され」なければならないので、試料の前と後の両方に偏向コイルが要求される。 - 科学技術論文動詞集

The laser beam machining apparatus 1 includes: a light absorbing member 7 absorbable of the laser beam between a galvanomirror 4 and a printed board 10; and a control part 8 for controlling the deflection angle of the laser beam based on the galvanomirror 4 so that the light absorbing member 7 is irradiated with the leaser beam in order to temporarily interrupt the irradiation with the leaser beam for the printed board 10.例文帳に追加

レーザ加工装置１は、ガルバノミラー４とプリント基板１０との間でレーザ光を吸収可能な光吸収部材７と、プリント基板１０に対するレーザ光の照射を一時的に中断するために、光吸収部材７にレーザ光を照射させるようにガルバノミラー４によるレーザ光の偏向角度を制御する制御部８とを備える。 - 特許庁

The deflection device 20 with a magnetic field includes: permanent magnets 21 for generating a magnetic field substantially vertical to a beam line of a gas cluster beam generated through the skimmer 2; and beam dampers 22 arranged by facing to each other, by interposing the beam line therebetween, in the direction of the magnetic field generated by the permanent magnets 21 and in a perpendicular direction to the beam line.例文帳に追加

有磁場偏向装置２０は、スキマー２を介して生成されたガスクラスタービームのビームラインに対して実質的に垂直な磁場を発生する永久磁石２１と、永久磁石２１によって発生する磁場の方向およびビームラインに垂直な方向にビームタインを挟んで対向して配置されたビームダンパー２２を有している。 - 特許庁

A deflection yoke fitting section 12 where the layout portion of a deflection yoke (unit) 10 is formed into a noncircular shape in sequence along the advancing direction of the electron beam oscillated from an electron gun 2 is formed on the funnel section 6 of this cathode-ray tube 1.例文帳に追加

陰極線管１のファンネル部６には，偏向ヨーク（ユニット）１０の配置部分が電子銃２から発振される電子ビームの進行方向に沿って順次非円形状に形成される偏向ヨーク装着部１２が形成される。 - 特許庁

A voltage is applied to an electrode 5 for X deflection and an electrode 6 for Y deflection provided on the orthogonal side faces of a KTN crystal 4, and the light beam 11a passing through the KTN crystal 4 is scanned in XY directions.例文帳に追加

ＫＴＮ結晶４の直交する側面に設けたＸ偏向用電極５およびＹ偏向用電極６に電圧を印加してＫＴＮ結晶４を通過する光ビーム１１ａをＸＹ方向に走査する。 - 特許庁

By inputting a volume of the measurement error into an error detection/correction circuit 48, adding two kinds of error volumes to make up a deflection signal 25, and inputting it into an electrostatic deflection electrode 15, the electron beam 10 is positioned in precision.例文帳に追加

この測定誤差量を誤差検出・補正回路４８に入力し、２種類の誤差量を加えて偏向信号２５を作り、静電偏向電極１５に入力することで、電子ビーム１０の正確な位置決めを可能とする。 - 特許庁

A deflection device 2 is provided which deflects a laser beam 200 in a scanning plane perpendicular to a rotating axis line c with a deflection mirror 21 arranged so as to be moved around the rotating axis line c.例文帳に追加

回転軸線ｃを中心として動かすことができるように配置された偏向ミラー２１によってレーザ光線２００を、回転軸線ｃに対して垂直な走査平面内で偏向させる偏向装置２を提供する。 - 特許庁

To omit the whole or a part of a correction coil of an electron beam position slippage correcting mechanism, simplify this correcting mechanism, reduce deflection power relating to the correction coil, and reduce the cost of a deflection yoke.例文帳に追加

電子ビーム位置ずれ補正機構の補正コイルの全部又はその一部を省略できるようにすると共に、その補正機構を簡略化、その補正コイルに係る偏向電力を削減、及び、偏向ヨークのコストを低減できるようにする。 - 特許庁

The laser distance measuring instrument 1 includes an optical separation part 80, which separates a pulse laser beam L1 from a deflection part 41 into beams for a first route and a second route different in length, when this deflection part 41 is at a predetermined turning position.例文帳に追加

レーザ距離測定装置１には、光分離部８０が設けられ、偏向部４１が所定回動位置にあるときに、この偏向部４１からのパルスレーザ光Ｌ１を、経路長が異なる第１の経路と第２の経路とに分離している。 - 特許庁

The deflection means is inclined as a whole so that a distance between the beam incident position on the deflection means and the scanning means in a horizontal direction may be equal to or more than a fixed value, accordingly, the influence of the aberrations is suppressed, and deterioration in image resolution is prevented.例文帳に追加

偏向手段上のビーム入射位置と走査手段の水平方向の距離が一定値以上になるように、偏向手段全体を傾けることで、収差の影響を抑え、画像の解像度の悪化を防ぐ。 - 特許庁

Furthermore, the Δtp which is a jitter component which the write clock PLL circuit can not follow is given to a deflection correction circuit 22, and then the fine adjustment of the deflection angle in the circumferential direction of an electron beam is performed through a deflector 23.例文帳に追加

更に、ライトクロックＰＬＬ回路が追従できなかったジッタ成分であるΔｔｐが偏向補正回路２２に与えられ、偏向器２３を介して電子ビームの円周方向の偏向角度の微調整が行われる。 - 特許庁

To provide a decorative cover for a columnar member, by which the appearance of the columnar member used for a beam or the like is improved and which can be installed easily regardless of deflection even when there are a quantity of the deflection in the columnar member.例文帳に追加

梁等に用いられる柱状部材の外観の向上を図るとともに、この柱状部材に多少の撓みなどがあっても当該撓みに係わらず取付けが容易にできる柱状部材の化粧カバーを提供する。 - 特許庁

The deflection circuit 10 is provided with nonlinear amplifiers 11, 12 that amplify an ABL(automatic beam limiter) voltage so that a change in the ABL voltage is proportional to a change in a high voltage and horizontal and vertical deflection currents flowing through a horizontal deflection yoke 6 and a vertical deflection yoke 7 respectively are corrected on the basis of output signals from the nonlinear amplifiers 11, 12.例文帳に追加

ＡＢＬ電圧の電圧変化が高電圧の電圧変化に比例したものとなるように、ＡＢＬ電圧を非線形に増幅する非線形増幅器１１，１２を設け、この非線形増幅器１１，１２の出力信号に基づいて、水平偏向ヨーク６及び垂直偏向ヨーク７を流れる水平偏向電流及び垂直偏向電流を補正するようにした。 - 特許庁

The electron beam exposure apparatus 1 comprises a deflection strain information storage 62 for storing information on the deflection strain which is preliminarily obtained information on deviation of deflecting angle caused by the deflection strain of the sub-deflectors 51 and 52, and an incident angle information corrector 74 for correcting information on incident angle instructed to the sub-deflectors 51 and 52 based on the information on the deflection strain.例文帳に追加

電子線露光装置１を、予め取得した副偏向器５１及び５２の偏向歪みにより生じる偏向角度のずれ情報である偏向歪み情報を記憶する偏向歪み情報記憶部６２と、副偏向器５１及び５２に指令する入射角度情報を、偏向歪み情報に基づき補正する入射角度情報補正部７４とを備えて構成する。 - 特許庁

Two photodetectors 10, 12 are arranged in the vicinity of both the ends of a deflection range of a resonance scanning mirror 14 for deflecting a laser beam 16.例文帳に追加

レーザ・ビーム１６を偏向している共振走査ミラー１４に関する偏向範囲の両端の近くに、２つの光検出器１０、１２がある。 - 特許庁

It is assumed that a deflection amount of an electron beam and a current then flowing through a blanking aperture 12 are (X_i, Y_j) (i=1 to 128, j=1 to 128) and I(X_i, Y_j), respectively.例文帳に追加

電子線の偏向量を（Ｘ_ｉ，Ｙ_ｊ）（ｉ＝１〜128，ｊ＝１〜128）とし、そのときにブランキングアパーチャ１２に流れる電流をＩ（Ｘ_ｉ，Ｙ_ｊ）とする。 - 特許庁