| 意味 | 例文 |
Beam Deflectionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 826件
To realize a mark position detecting method capable of measuring a pattern larger than an exposure deflection distance and to provide an electron beam exposure technique using the same.例文帳に追加
マルチ電子ビーム描画装置において、描画偏向距離よりも大きなパターン計測を可能にするマーク位置検出方法を実現し、それを用いた電子ビーム描画技術を提供する。 - 特許庁
On the other hand, if the electromagnetic coil 3 for deflection is not energized, because the electron beam is incident on an X-ray emission face T4 of a target plate T1, emission of the X-rays is started.例文帳に追加
一方、偏向用電磁コイル3が非通電となると、電子ビームがターゲット板T1のX線出射面T4に入射されるため、X線の出射が開始される。 - 特許庁
To provide a lifting tool having a lightweight and simple structure which is capable of suppressing the bending stress and the deflection of a lifting beam and reliably lifting a cargo such as reinforcing bars of low bending rigidity.例文帳に追加
軽量で且つ簡単な構造で、天秤の曲げ応力や撓みを抑えることができ、しかも低曲げ剛性の鉄筋等の吊り荷を確実に揚重することができる。 - 特許庁
To provide stairs constituted by fixing a step member per step on an inclined beam and capable of increasing rigidity of the step member, reducing deflection, improving construction easiness, and adjusting height easily.例文帳に追加
傾斜する桁の上に、各段毎の段部材を固定した階段であって、段部材の剛性を大きくし、たわみを小さくするとともに、施工性を良好とし、高さの調整も容易とする。 - 特許庁
To provide an optical scanner tester for simply testing deflection characteristics of an optical scanner for deflecting a laser beam by altering a deflecting angle of a reflecting mirror according to a drive signal.例文帳に追加
駆動信号に応じて反射鏡の偏向角度を変えてビーム光を偏向する光学スキャナの偏向特性を簡易に試験し得る光学スキャナ試験装置を提供する。 - 特許庁
To provide a means for measuring change in a deflection angle speed of a beam deflecting means for the moving speed of a marking object before marking of an identification code and an arbitrary pattern.例文帳に追加
識別コードや任意のパターンのマーキング前に、マーキング対象物の移動速度に対する、前記光線偏向手段の偏向角速度の変化を計測する手段を提供する。 - 特許庁
A liquid crystal deflection element 102 serving as a scanning position correction means is disposed between a half mirror prism 4 and a cylindrical lens 5 to vary the scanning position of a laser beam in a subscanning direction.例文帳に追加
ハーフミラープリズム4とシリンドリカルレンズ5の間には、レーザビームの走査位置を副走査方向に可変する走査位置補正手段としての液晶偏向素子102が配置されている。 - 特許庁
A reinforcing truss combining a beam, a pillar and a diagonal member with each other is provided inside a pontoon to constitute the floating roof of the single deck structure so as to increase the deflection rigidity of the floating roof.例文帳に追加
シングルデッキ構造の浮屋根を構成するポンツーンの内部に、浮屋根の撓み剛性を増加させる如く、梁材と柱材及び斜材を組合せた補強トラスを設けたものである。 - 特許庁
Furthermore, because of energization of the electromagnetic coil 3 for deflection, and because the electron beam is incident on the refuge part F3 of the hood electrode F in the defocus state, damage of the hood electrode F is suppressed.例文帳に追加
また、偏向用電磁コイル3の通電により、電子ビームはフード電極Fの退避部位F3にデフォーカス状態で入射されるため、フード電極Fの損傷が抑制される。 - 特許庁
The electron beam which has passed through the projection lens 11 is deflected by a deflection coil 12 for a spectrum position movement, and the spectra (Sp1 to Spn) are always projected on the center of the CCD camera 13.例文帳に追加
投影レンズ11を通過した電子線はスペクトラム位置移動用偏向コイル12により偏向され、スペクトラム(Sp_1,Sp_2,…Sp_n)は常にCCDカメラ13の中央に投影される。 - 特許庁
A controller controls the deflector and the driving device so that the deflection of the optical axis by the deflector and the variation in the incident angle of the pulse laser beam onto the attenuation plate mutually is synchronized.例文帳に追加
制御装置が、偏向器による光軸の振れと、減衰板へのパルスレーザビームの入射角の変動とが相互に同期するように、偏向器及び駆動装置を制御する。 - 特許庁
To provide an exposure method in a charged particle beam exposure apparatus capable of lessening deflection distortion caused by a follower deflector and the amount of blur of the same even when a subfield is enlarged.例文帳に追加
サブフィールドを大きくした場合でも、追随偏向器が発生する変更歪やボケの量を小さくすることができる荷電粒子線露光装置における露光方法を提供する。 - 特許庁
Further, since a deflection point of the laser beam can be disposed at the front side focus f_f of the lens 18, a hole having an axis perpendicular to the surface of an object 19 to be formed can be formed.例文帳に追加
また、レーザ光の偏向点を加工レンズ18の前側焦点f_fに位置決めできるので、軸線が加工対象19の表面に垂直な穴を加工することができる。 - 特許庁
The deflection and scanning means scanningly deflects the light beams emitted from each of the plurality of light emission points so as to scan a face to be exposed along a main scanning direction with each of deflected light beam.例文帳に追加
偏向走査手段は、偏向された各光ビームが主走査方向に沿って被露光面を走査するよう、複数の発光点のそれぞれから射出され光ビームを偏向走査する。 - 特許庁
Each minute light deflector independently deflects an emitted beam 16 from at least one light emitting element at a desired angle by an action of transmission refraction or reflection on the deflection plane 13.例文帳に追加
各微小光偏向器が、少なくとも1つの発光素子からの出射ビーム16を偏向面13での透過屈折或は反射作用で所望の角度で独立に偏向する。 - 特許庁
As for the device, the rotary range of the mirror in the deflection unit is designed so that the laser beam is guided to each point in the circular imaging area obtainable by the imaging unit.例文帳に追加
装置に関しては偏向ユニット内のミラーの回転範囲は、レーザビームが結像ユニットにおいて可能な円形の結像領域における各点に誘導されるように設計されている。 - 特許庁
To provide a bellows mechanism for an optical path of a laser beam machine capable of suppressing the deflection of bellows when the bellows are moved in a direction orthogonal with their expansion and contraction directions.例文帳に追加
ジャバラがその伸縮方向に対して直交する方向に移動される際のジャバラの振れを抑制することができるレーザ加工機の光路用ジャバラ機構を提供する。 - 特許庁
The transmission voltage coefficients in the respective transmission channels are set to uniformize a sound pressure in the respective transmission focus points irrelevant to the beam deflection angle θ and the transmission focal depth r.例文帳に追加
ビーム偏向角度θ及び送信焦点深度rによらずに、各送信焦点において音圧が均一になるように、それぞれの送信チャンネルにおける電圧係数が設定される。 - 特許庁
The rotation of the 1/2 wavelength plate 4 is controlled so that the deflection direction of the laser beams becomes constant in the laser beam moving direction with respect to the substrate 7.例文帳に追加
本実施形態では、基板7に対するレーザ光の移動方向に対して、レーザ光の偏光方向が常に一定となるように、1/2波長板4の回転を制御する。 - 特許庁
An auxiliary lens formed by a third grid G4 to a first segment G5-1 disposed in front of the main lens decreases in focusing action as the amount of deflection of the electron beam increases.例文帳に追加
主レンズの前段に配置された第3グリッドG4乃至第1セグメントG5−1によって形成される補助レンズは、電子ビームの偏向量の増大に伴って集束作用が低下する。 - 特許庁
Furthermore, each cross section area of the plurality of holes 13 is designed by computer simulation so that the magnetic field is uniform over the whole passing range of the beam of the deflection electromagnet 1.例文帳に追加
また、上記複数の貫通穴13の各穴断面積は、偏向電磁石1のビーム通過領域全体に亘って磁場が均一となる様にコンピュータシミュレーションにより設計する。 - 特許庁
In a composite structure composed of concrete 32 and a steel product 31, the steel product 31 is formed with a protrusive streak 34 for prevention of bending deflection in a direction in which beam members 21 cross each other.例文帳に追加
コンクリート32と鋼材31による合成構造体であって、鋼材31に梁部材21の交差する方向へ向けて曲げ変形防止用の突条34を形成した。 - 特許庁
Since a beam member 10 is laid between walls 1 and 1 and the kitchen counter 3 is supported from below by a support member 14 fixed to the beam member 10 and a wall 2, heights of the beam member 10 and the support member 14 are adjusted to set the height of the kitchen counter 3 freely and deflection of the kitchen counter 3 is prevented by the beam member 10.例文帳に追加
壁1,1間に梁部材10が架設され、この梁部材10と壁2に固定された支持部材14によってキッチンカウンタ3が下方から支持されているので、梁部材10および支持部材14の高さ位置を調整することによって、キッチンカウンタ3の高さを自由に設定できるとともに、梁部材10によってキッチンカウンタ3の撓みを防止できる。 - 特許庁
From other viewpoint, the measure of reducing the X-ray tube output derating during the dynamic focal point deflection includes a step which generates the electron beam in a rotary anode X-ray tube, a step which focuses the electron beam on the first position of the anode, a step which at least partially prevents the electron beam, and a step which again focuses the electron beam on the second position of the anode.例文帳に追加
他の観点では、動的焦点スポット偏向時のX線管出力の減定格を少なくする方法が、回転アノードX線管において電子ビームを発生するステップと、電子ビームをアノードの第一の位置に合焦させるステップと、電子ビームを少なくとも部分的に阻止するステップと、電子ビームをアノードの第二の位置に再合焦させるステップとを含んでいる。 - 特許庁
The e-beam mask writer includes a plurality of DAC/amplifier circuits to output analog voltage signals, each DAC/amplification circuit having a first output terminal and a second output terminal, the first output terminals of the plurality of DAC/amplification circuits being respectively coupled to deflection plates of the e-beam mask writer to provide the output analog voltages as deflection voltages.例文帳に追加
電子ビーム・マスク描画装置は、アナログ電圧信号を出力する多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路を含み、各ディジタル・アナログ変換/アンプ回路が第1の出力端子及び第2の出力端子を有し、第1の出力端子が夫々偏向電圧としての出力アナログ電圧を供給する電子ビーム・マスク描画装置の偏向プレートに連結されている。 - 特許庁
Even in case the centers of the convergent lenses 31, 32 are not on the axis C, an optical axis can be aligned to the center of the both convergent lenses 31, 32 by deflecting beams in two stages with the inlet side beam deflection portion 2, and further, the optical axis can be aligned to the center of the objective lens 7 by deflecting the beams in two stages with the outlet side beam deflection part 4.例文帳に追加
収束レンズ31、32のレンズ中心が軸C上にない場合でも、入口側ビーム偏向部2でビームを二段階に偏向させることで両収束レンズ31、32のレンズ中心に光軸を合わせることができ、さらに、出口側ビーム偏向部4でビームを二段階に偏向させることで対物レンズ7の中心に光軸を合わせることができる。 - 特許庁
Therefore, even if the position of irradiating the objective optical apparatus 51 with the beam changes due to deflection of the substrate, the position would still be within the range of the focus depth of the Bessel beam, thus enabling highly accurate processing without having to implement control such as changing the focal position during processing.例文帳に追加
したがって、対物光学装置51に対するビーム照射位置が基板の撓みにより変化しても、それをベッセルビームの焦点深度の範囲内として、加工中に焦点位置を変更するような制御しなくても、高い精度での加工を可能とする。 - 特許庁
On the other hand, the laser beam B2 shaped with the aperture 18 is made incident on the triangle prism 19 which is the deflection optical element, the optical path of the laser beam is changed by being reflected on an inner reflection face 22 of the triangle prism 19, and focused with a cylindrical lens 4.例文帳に追加
一方、アパーチャ18により整形されたレーザビームB2は、偏向光学素子である三角プリズム19に入射し、三角プリズム19の内部反射面22により反射され光路が変更された後、シリンドリカルレンズ4により集光される。 - 特許庁
For example, the first BD sensor 29, which detects the light beam L1 for monitoring the deflection angle characteristics of the MEMS mirror, is disposed closer to an outer end side in a scanning direction than the second BD sensor 30 detecting the light beam L2 for the writing-out position timing control.例文帳に追加
例えば、前記MEMSミラーの偏向角特性をモニターするための光ビームL1を検知する第1のBDセンサ29を、書き出し位置タイミング制御のための光ビームL2を検知する第2のBDセンサ30よりも走査方向外端側に配置する。 - 特許庁
In this transfer exposure method, mark patterns 87 and 88 for forming a mark detection beam are made on a mask in a deflection band 82 of an end part in the lengthwise direction of respective stripes, and marks 98 and 97 to be irradiated which are irradiated through scanning by a detection beam are made on a wafer.例文帳に追加
各ストライプの長手方向端部の偏向帯82、102について、マスク上(図2)にはマーク検出ビーム形成用のマークパターン87、88を設け、ウエハ上(図3)には該検出ビームによって走査的に照射される被照射マーク98、97を設ける。 - 特許庁
For realizing inspection at 2.0-2.5 mm image visual field with 20-30 nm image resolution of an SIM image, a beam-irradiating energy of an FIB device is set to 25-50 keV, and the maximum distance between a beam deflection support point and a sample 5 is set to a range of 60-120 mm.例文帳に追加
SIM像の像分解能が20〜30nmで、かつ像視野2〜2.5mm を実現するために、FIB装置におけるビーム照射エネルギーを25〜50keVで、かつビーム偏向支点11から試料5までの最大距離を60〜120mmの範囲とした。 - 特許庁
The deflection angle difference is set so that the principal part of a beam spot formed from the first luminous flux by the condensing lens overlap the part of the first local minimum of the optical amplitude distribution of a beam spot formed from the second luminous flux by the condensing lens.例文帳に追加
第2の光束から集光レンズにより形成されるビームスポットの光振幅分布の第一極小値の部分に前記第1の光束から集光レンズにより形成されるビームスポットの主要な部分が重なり合うように、前記の偏角差を設定する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam apparatus which does not make an electrode inside diameter too small and a deflection voltage too high and can decide a beam incident position on an objective lens image surface and rectify a deflecting coma aberration and a deflecting color aberration simultaneously.例文帳に追加
電極内径を小さくしすぎることなく、また偏向電圧を高くしすぎることなく、対物レンズ像面におけるビーム入射位置を決定しつつ偏向コマ収差と偏向色収差を同時に補正することのできる荷電粒子ビーム装置を提供する。 - 特許庁
To provide a stage device provided with a mark stand capable of adjusting a focus of an electron beam or deflection sensitivity by using a mark at the height actually same as the height of a sample surface such as a mask, and an electron beam drawing device using the stage device.例文帳に追加
マスクなどの試料面の高さと実質的に等しい高さのマークを用いて、電子ビームの焦点や偏向感度を調整することが可能なマーク台が設けられたステージ装置と、このステージ装置を用いた電子ビーム描画装置とを提供する。 - 特許庁
The support member 8 is moved to adjust an interval of a horizontal direction of the beam-like members 9, deflection produced by self weight of the wafers W is suppressed by holding lower faces of the wafers W with the beam-like members 9, and the wafers W can be horizontally held.例文帳に追加
そして、支持部材8を移動させて梁状部材9同士の水平方向の間隔を調節し、ウエハWの下面を梁状部材9で保持することでウエハWの自重によって発生する撓みを抑制し、ウエハWを水平保持することができる。 - 特許庁
The ion implanting device is provided with a park electrode 26 as a deflection means which is arranged in a section between an exit of a mass spectrometry electromagnet unit 22 through a bean line in front of a mass spectrometry slit 28 and deflects the ion beam out of a beam line in a predetermined direction.例文帳に追加
質量分析磁石装置22の出口から質量分析スリット28手前のビームライン区間に配置されて電界の作用によりイオンビームをビームライン上から外れた所定の向きに偏向させる偏向手段としてパーク電極26を備える。 - 特許庁
The timing at which the magnitude of the signal, which each beam detection sensor outputs when scanning, is replaced, is detected by logic circuits 51 to 54, the signal which the logic circuit outputs according to the scanning direction of the laser beam is selected, and the starting position of forming of a latent image by the laser beam and the scanning region of the deflection mirror are controlled on the basis of the time detected by the logic circuit.例文帳に追加
各ビーム検知センサがレーザビームの走査時に出力する信号の大きさが入れ替わるタイミングを論理回路51〜54で検出し、レーザビームの走査方向に応じて論理回路が出力する信号を選択して、論理回路で検出したタイミングに基づいてレーザビームによる潜像の形成開始位置と、偏向ミラーの走査範囲を制御する。 - 特許庁
In the optical scanning device provided with a polygon mirror for performing deflection-scanning on a photoreceptor by deflecting a light beam, and a synchronous detection sensor 131a for detecting the light beam at the position of write start timing, the synchronous detection sensor 131a is constituted of an LED 132 and a photodiode 12 for turning on the LED 132 by detecting the light beam.例文帳に追加
光ビームを偏向して感光体上を偏向走査するためのポリゴンミラーと、光ビームを書き込み開始タイミングの位置で検知する同期検知センサ131aを備えた光走査装置において、同期検知センサ131aをLED132と、光ビームを検知することでLED132を点灯させるフォトダイオード12とから構成している。 - 特許庁
The electron beam drawing device includes: a deflection control recording means recording history data of operation of a deflector; a stage movement control recording means recording history data of operation of stage movement; and an electron beam irradiation determination means determining presence of irradiation of the electron beam to the blanks by receiving the respective recorded history data.例文帳に追加
偏向器の操作の履歴データを記録する偏向制御記録手段と、ステージ移動の操作の履歴データを記録するステージ移動制御記録手段と、記録された前記各履歴データを受け取って前記ブランクスに対する電子ビームの照射の有無を判断する電子ビーム照射判断手段とを有する電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
The instrument measures the surface shape, based on a difference in propagation directions of a reflected laser beam from a measuring object face depending on the inclinations of the measuring object 30 surface, by setting a positional relation between a plane mirror 21 and a concave mirror 22, and by introducing the reflected laser beam affected by the angular deflection into a light beam detector 42 by a lens 41.例文帳に追加
本装置では、平面ミラー21と凹球面ミラー22の位置関係を設定し、かつ角度振れを受けた反射レーザビームをレンズ41により光ビーム検出器42上に導くことにより、測定対象30表面の傾斜によって測定対象面からの反射レーザビームの伝搬方向が異なることから表面形状の測定を行う。 - 特許庁
To provide a distance measuring device capable of a wide range of measurement, having no dead angle even in the case that an optical component for guiding a laser beam to a deflection element is disposed within the measurement range.例文帳に追加
偏向素子へレーザ光を導くための光学部品を測定範囲内に配置した場合でも死角を形成することなく、広角な範囲を測定可能な距離測定装置を提供する。 - 特許庁
The wobbles formed by using modulation and deflection are faster than the time that the intensity change of the beam by the modulation spends for the defection and therefore the groove widths are steepened and the decrease of the jitters may be expected.例文帳に追加
本発明による変調及び偏向を用いて形成したウォブルは変調によるビームの強度変化が偏向にかかる時間よりも速いために、溝幅は急峻となり、ジッターの低減が望める。 - 特許庁
Further, the size of a movable mirror part 14 and the position relation of the support beam parts 12a and 12b, and 13a and 13b are optimized and the elements are driven at a natural oscillation frequency to obtain a large angle of deflection and fast operation.例文帳に追加
また、可動ミラー部14のサイズ及び支持梁部12a,12b,13a,13bの位置関係を最適化するとともに、固有振動数で駆動することにより、より大きな偏向角を得るとともに、高速化を可能とする。 - 特許庁
To satisfactorily conduct a latent image forming operation, in an image formation device for forming a latent image by scanning an optical beam on the effective image region of a latent image carrier using the surface of a vibrating deflection mirror.例文帳に追加
振動する偏向ミラー面を用いて光ビームを潜像担持体の有効画像領域上に走査させて潜像を形成する画像形成装置において、潜像形成動作を良好に行う。 - 特許庁
To provide an illuminator for projector by which an illumination area is not moved with respect to a display element and stable illumination is realized even when the angle of a reflected light beam is deviated by the deflection of the reflection surface of a color wheel.例文帳に追加
カラーホイールの反射面の振れにより反射光線角にズレが生じても、表示素子に対して照明エリアが移動しない、安定した照明が可能なプロジェクター用照明装置を提供する。 - 特許庁
At first, a beam PB is adjusted to pass the center C of the first stage lens 15 using an alignment function having a deflection fulcrum P2 on the surface 10 of an object out of alignment functions of the alignment coils 50.例文帳に追加
まず、アライメントコイル50のアライメント機能の内、物面上10に偏向支点P2を持つアライメント機能を用いて、ビームPBが一段目のレンズ15の中心Cを通るように調整する。 - 特許庁
To provide a laser beam scanning system constituted so that the variation in the optical characteristics of a deflection means can always be inspected and corrected and a timewise and economic burden can be reduced in the manufacturing process.例文帳に追加
常に偏向手段の光学的特性のばらつきを検査して、補正することができ、かつ製造過程での時間的、経済的な負担を軽減することができるレーザビーム走査システムを提供する。 - 特許庁
To realize a scanning electron microscope formed so that the position of a deflection supporting point of the electron beam always passes through the main surface position of an objective lens, even if the position of the lens main surface of the objective lens is changed.例文帳に追加
対物レンズのレンズ主面の位置が変化しても、電子ビームの偏向支点の位置が常に対物レンズの主面位置を通るように構成した走査電子顕微鏡を実現する。 - 特許庁
A laser beam radiated from a light source device 210 is deflected to scan in a main scanning direction by a deflection means 22 and condensed toward the surface to be scanned by the scanning image-formation means 216.例文帳に追加
光源装置210から放射されたレーザビームを、偏向手段22により主走査方向に偏向走査し、走査結像手段216により被走査面に向かって集光する光走査装置。 - 特許庁
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