「Beam Deflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

Data of the pattern for determination stored in a pattern data storage part 301 includes data in which light deflection surfaces 43, to which a light beam LB is radiated in formation of an electrostatic latent image of each thin-width pattern, are the same.例文帳に追加

パターンデータ記憶部３０１に記憶されている判定用パターンのデータは、各細幅パターンの静電潜像の形成において光ビームＬＢを照射する光偏向面４３が同じとなるデータを含む。 - 特許庁

The image forming apparatus 1 includes a laser scanner 2 and reciprocally scans the latent image forming region 50 of a photoreceptor drum 5 by deflecting a laser beam LB emitted from a laser diode 21 with a deflection mirror 25.例文帳に追加

画像形成装置１はレーザ走査装置２を備えており、レーザダイオード２１が出射したレーザビームＬＢを偏向ミラー２５により偏向して感光体ドラム５の潜像形成領域５０上を往復走査する。 - 特許庁

A deflection control part 50 modulates and controls at least the wave-form of the deflecting current of a part corresponding to a signal for detecting the electron beam orbit independently from a part corresponding to image display period.例文帳に追加

偏向制御部５０は、少なくとも電子ビーム軌道検出用の検出用信号に対応する部分の偏向電流の波形を、画像表示期間に対応する部分とは独立して変調制御する。 - 特許庁

The beams composited by the beam compositing prism 9 condense almost linearly along the horizontal scanning direction by a cylindrical lens 10, and are reflected and deflected by a polygon mirror 11, and changes the deflection angle in equal angular speed.例文帳に追加

ビーム合成プリズム９により合成されたビームは、シリンドリカルレンズ１０で主走査方向に沿うほぼ直線状に集光し、ポリゴンミラー１１で反射偏向し且つ偏向角度を等角速度的に変化させる。 - 特許庁

To provide new structure for setting an incidence angle and a shape of a hole in the longitudinal direction section in an optical perforating device for perforating by a laser beam LSt using a deflection optical system AO.例文帳に追加

偏向光学系ＡＯを用いレーザビームＬＳｔにより孔をあけるための光学孔あけ装置において、射し込み角度と孔の長手方向セクションの形状を設定するための新たな構成を提供する。 - 特許庁

To provide an optical scanner which prevents misalignment of scanning lines in subscanning line direction due to the thermal expansion of a casing without preparing a beam detection means or a subscanning direction deflection means and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

ビーム検知手段や、副走査線方向偏向手段を設けずとも、ハウジングの熱膨張による走査線の副走査線方向のずれを抑制することができる光走査装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

By an optical lever method of making a laser beam come into a thin film formed on a substrate, for example, and of measuring the angle variation of the reflected light, deflection of the substrate is measured and internal stress σ of the thin film is determined.例文帳に追加

基板上に成膜された例えば薄膜について、レーザ光を入射し反射光の角度変化を測定する光てこ方式によって、基板の撓みを測定し、薄膜の内部応力σを求める。 - 特許庁

To keep high focusing performance with low deflection power in a single electron beam projection-type cathode-ray tube which is used for a projection TV or a projector and operates at a high voltage and a high current.例文帳に追加

プロジェクションＴＶまたはプロジェクターに使用され、高電圧でかつ高電流で動作する単電子ビーム方式プロジェクション用ブラウン管の、低い偏向パワーで高いフォーカス性能を維持させることを目的とする。 - 特許庁

While securing the spatial insulation distance between the cathode support 33 and the depression portion 41 of the vacuum housing 15, the distance between the cathode 31 and the anode target 27 is brought closer and magnetic flux density of the deflection magnetic field in the electron beam position is increased.例文帳に追加

陰極支持体33と真空外囲器15の窪み部41との間の空間絶縁距離を確保したうえで、陰極31と陽極ターゲット27との距離を近付け、電子ビーム位置での偏向磁界の磁束密度を高める。 - 特許庁

This optical pickup device is provided with light-reception-and-emission integrated elements 1a, 1b, a beam splitter 12, a collimator lens 13, a vertical deflection mirror 14, an objective lens 15, a front monitor light photo detector 17, and an optical guide member 18.例文帳に追加

光ピックアップ装置は、受発光一体型素子１ａ，１ｂ、ビームスプリッター１２、コリメートレンズ１３、立ち上げミラー１４、対物レンズ１５、フロントモニタ光受光素子１７および光ガイド部材１８を備えてなる。 - 特許庁

On the charged particle beam column comprising an aberration correction device 10, a convergent charged particle beam is formed, slanted against a sample 18 face in large angles by controlling an incident direction of the beams incident on a second condenser lens 7 without moving an object point of the condenser lens by using a deflection device 51, and also without moving an object point of an objective lens 17 located on a beam axis.例文帳に追加

収差補正器１０を含む荷電粒子ビームカラムにおいて、偏向器５１を用いてコンデンサーレンズの物点を動かすことなく、ビームの第２コンデンサーレンズ７への入射方向を制御することにより、光軸上にある対物レンズ１７の物点を動かすことなく、試料１８面に対し大角度で傾斜した収束荷電粒子線ビームを形成する。 - 特許庁

Particles adhered to a specimen 35 are removed by specifying a secondary ion taking area 46 to take the secondary ion and applying an electron beam 47 on a wider electron beam irradiating area 49 that the area 46, a deflection electrode 38 is provided in front of a mass spectrometer 40, and a secondary ion detecting area 45 to be specified by the deflection electrode 38 is scanned in conformity with scanning of a primary ion scanning electrode 34.例文帳に追加

２次イオン３６を取込むべき２次イオン取込領域４６を規定し、その領域４６よりも広い電子線照射領域４９に電子線４７を照射して、試料３５への付着粒子を除去するとともに、偏向電極３８を質量分析計４０の手前に設け、１次イオン走査電極３４の走査に合わせて、該偏向電極３８によって規定されることになる２次イオン検出領域４５を走査する。 - 特許庁

In an OFS scanning optical device which makes a luminous flux made incident on a deflection surface wider than the deflection surface, angles formed between center axes of emitted distributions from light emitting points of lasers being light sources and the optical axis of a corresponding optical system within a main scanning section and the overall angular width of laser beam radiation angles within the main scanning section are regulated.例文帳に追加

そのために、偏向面に入射する光束を偏向面より広い光束としたＯＦＳ走査光学装置で、主走査断面内に於いて、光源であるそれぞれのレーザの発光点からの射出分布の中心軸と、それに対応する光学系の光軸とがなす角度、また主走査断面内のレーザビーム放射角の全角幅を規制する。 - 特許庁

The optical deflector controlling apparatus 51 has an arithmetic and logic unit which decides a target value of control of the maximum amplitude of a sine oscillation of a deflection and reflection face of an optical deflector 31 from the maximum and the minimum values of the angular velocity of the deflection scanning with a light beam which is deflected and scanned by the optical deflector 31 and one of different frequencies of sine oscillation.例文帳に追加

光偏向器制御装置５１は、光偏向器３１によって偏向走査される光の偏向走査の角速度の最大値と最小値および異なる周波数の正弦振動のいずれか１つの周波数から、光偏向器３１の偏向反射面の正弦振動の最大振幅の制御目標値を決定する演算回路を有する。 - 特許庁

A control part 92 rotates the mirror 91 so that an optical axis of a center of the deflection by the mirror 81 and a light ray of all the light beams after the deflection by the optical mirror 91 from the mirror 81 which passes along the optical axis are contained in the same surface, and a light beam irradiating the ultraviolet curable resin 62 is scanned in a direction of z orthogonal to the direction of x.例文帳に追加

制御部９２は、ミラー８１による偏向の中心の光軸と、その光軸を通るミラー８１からの光のミラー９１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一面内に含まれるように、ミラー９１を回転させることにより、紫外線硬化樹脂６２に照射される光ビームをx方向に直交するz方向に走査する。 - 特許庁

The light-source device 31 includes an adjusting screw 56 for adjusting the orientation of the light beam 59 from a light-source unit 48 being a light source part and an adjusting screw hole 69, a vibrating mirror 85 which deflects the light beam 59 on a deflection plane 95 and reciprocally scans on the face to be scanned in a main scanning direction X.例文帳に追加

光源装置３１は、光源部としての光源ユニット４８からの光ビーム５９の向きを調整する調整ねじ５６及び調整用ねじ孔６９と、該光ビーム５９を偏向面９５で偏向して被走査面上に主走査方向Ｘに往復走査させる振動ミラー８５とを備えている。 - 特許庁

Logic circuits 51 to 52 detect timing at which the magnitude of signal output by each beam detection sensor is replaced, select a signal that the logic circuits output according to the scanning direction of the laser beam, and control the formation starting position of a latent image with the laser beams and the scanning range of the deflection mirror on the basis of the detection timing in the logic circuits.例文帳に追加

各ビーム検知センサが出力する信号の大きさが入れ替わるタイミングを論理回路５１〜５２で検出し、レーザビームの走査方向に応じて論理回路が出力する信号を選択し、論理回路での検出タイミングに基づいてレーザビームによる潜像の形成開始位置と、偏向ミラーの走査範囲を制御する。 - 特許庁

To provide a constant speed scanning of a spot and an excellent optical characteristics such as image plane curvature and spot diameter in an optical scanner in which a light beam is deflected with a deflection mirror face which is oscillated in a sine wave form and the deflected light beam is focused as a spot on a face to be scanned with a scanning optical system.例文帳に追加

正弦振動する偏向ミラー面により光ビームを偏向するとともに、該偏向光ビームを走査光学系により被走査面にスポット状に結像する光走査装置において、該スポットの等速走査性を実現しつつ、かつ像面湾曲やスポット径等の光学特性を良好に実現することを可能にする。 - 特許庁

The focused ion beam device detects the mark with a mark detecting view magnification lower than a view magnification when registering the mark, before processing the processed pattern, calculates a degree of displacement while comparing the position of the registered mark with the position of the detected mark, and detects the mark again after shifting an ion beam deflection region to restore the view magnification into that when registering the mark.例文帳に追加

加工パターンの加工前にマーク登録時の視野倍率よりも低いマーク検出用の視野倍率でマークを検出し、登録したマークと検出されたマークの位置を比較して位置ずれ量を算出し、イオンビーム偏向領域をシフトさせてマーク登録時の視野倍率に戻してマークを再検出する。 - 特許庁

A deflecting means is disposed at 3a, 3b, 3c between lens means 1a, 1b, 1c and a focus detecting means 5, respectively, to guide the beam of light from the lens means 1a, 1b, 1c to the focus detecting means 5 with variable deflection characteristics.例文帳に追加

偏向手段は、レンズ手段１ａ，１ｂ，１ｃと焦点検出手段５との間３ａ，３ｂ，３ｃに配置され、レンズ手段１ａ，１ｂ，１ｃからの光束を、偏向特性を変更可能に、焦点検出手段５に導く。 - 特許庁

It is useful to have the intermediate image located in between a pair of lenses (17 and 21) of the dioptric part (8) and exists at a position behind the final reflection surface (10) of the beam- deflection device (7) and being separated far therefrom, in order to eliminate imaging aberrations.例文帳に追加

中間像が屈折部分（８）の１対のレンズ（１７、２１）間に配置され、それがビーム偏向装置（７）の最終反射面（１０）より後でそれから遠く離れた位置にあることが、結像収差をなくすのに役立つ。 - 特許庁

The beams L_a-L_c emitted from three laser emission parts (LD) 24a-24c pass through collimator lenses 31a-31c, beam splitters 25a, 25b, a planar mirror 26 and a cylindrical lens 32 and is imaged on a deflection surface 33a of a polygon mirror 33 as line images.例文帳に追加

３つのＬＤ２４ａ〜２４ｃから射出されたビームＬａ〜Ｌｃはコリメータレンズ３１ａ〜３１ｃ、ビームスプリッタ２５ａ、２５ｂ、平面ミラー２６、シリンドリカルレンズ３２を通過し、ポリゴンミラー３３の偏向面３３ａに線像として結像する。 - 特許庁

Further, the scanning in a main scanning direction is performed by deflecting an optical beam L by oscillating the deflection mirror face 651 around the first axis by controlling a mirror driving part which is composed of a first axis driving part and a second axis driving part.例文帳に追加

そして、第１軸駆動部と第２軸駆動部とからなるミラー駆動部を制御することによって偏向ミラー面６５１を第１軸回りに揺動させることで光ビームＬを偏向して主走査方向に走査させている。 - 特許庁

The electron beam EB to be controlled in opening angle by each lens is scanned on a sample 32 by an upper stage deflector 35 and a lower stage deflector 36, and the deflection is effected in two stages so as to effect the vertical scanning of the surface of the wafer sample 32.例文帳に追加

各レンズにより開き角等が制御される電子ビームＥＢは、上段偏向器３５と下段偏向器３６により、試料３２上で走査されるが、ウエハ試料３２の表面を垂直走査するように２段偏向される。 - 特許庁

As an operating means, a second forming mask formed below the first forming mask is opened in advance and the reflected electronic image from a reference dot mark is observed by scanning the deflection of a beam passed through the rectangular opening with the auxiliary holes of the first forming mask.例文帳に追加

その操作手段としては、予め下方の第２成形マスクを開放状態とし、第１成形マスクの補助孔付き矩形開口を貫通したビームの偏向走査によって基準ドットマークからの反射電子像を観察する。 - 特許庁

At the off of the main power source, a transistor Q2 is turned on to impress electric charge stored in a capacitor C1 to an RGB output circuit 3, so that a beam current of a CRT 4 is increased momentarily before stop of a deflection circuit.例文帳に追加

主電源オフ時は、Ｂ１ラインの立下りでトランジスタＱ２をＯＮさせ、コンデンサＣ１に蓄積された電荷をＲＧＢ出力回路３に印加し、偏向回路の停止前にＣＲＴ４のビーム電流を瞬間的に増加させる。 - 特許庁

A deflection apparatus for a high perveance ion beam, which works at a basic frequency of 20Hz or an order harmonic wave having a frequency higher than the basic frequency, and which has a magnetic structure formed by a stacked layer (72) having a thickness from 0.2 to 1mm.例文帳に追加

高パービアンス・イオン・ビームのための偏向装置であって、20Hzの其本周波数及び実質的にこれより高いオーダー調波で作用し、0.2ないし1ミリメートルの範囲の厚みの積層(７２)によって形成される磁気構造を有する。 - 特許庁

An upward deflection reflecting element 20s1 for radiating the beam to a space nearly over an oblique cutoff line CL2 is formed in the peripheral edge of the oblique cutoff line forming area 20a2 side of a reflecting surface 20a of a reflector 20.例文帳に追加

リフレクタ２０の反射面２０ａにおける斜めカットオフライン形成領域２０ａ２側の外周端部に、斜めカットオフラインＣＬ２の上方近傍空間へビームを照射する上向き偏向反射素子２０ｓ１を形成する。 - 特許庁

To provide an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus which images a mask on a light sensitive surface, especially an illumination system accommodating a mirror array or other beam deflection elements, and a method of operating the microlithographic projection exposure apparatus.例文帳に追加

マスクを感光表面上に結像するマイクロリソグラフィ露光装置の照明システム、特に、ミラーのアレイ又は他のビーム偏向要素を収容する照明システム、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法を提供する。 - 特許庁

The electronic beam 20 is emitted while being subjected to mis-landing correction due to an external magnetic field such as the earth magnetism, deflected by a deflection yoke 6, emits a phosphor face 9 via a color selection element 8 to stimulate a prescribed phosphor.例文帳に追加

この電子ビーム２０は、地磁気などの外部磁界によるミスランディングを補正された状態で射出され、偏向ヨーク６で偏向されて、色選択素子８を介して蛍光面９を照射し、所定の蛍光体を発光させる。 - 特許庁

To provide a device capable of optimizing scanning according to a situation/objective, reducing distortion of an image, and improving throughput, image quality and a defect detection rate by controlling deflection of a charged particle beam in a stage following method.例文帳に追加

ステージ追従方式において荷電粒子線の偏向を制御する事で、状況・目的に応じて走査を最適化し、画像の歪みを低減し、スループット，画質，欠陥検出率が向上した装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

On the other hand, the position of the scanning optical beam L on photoreceptor 2 in a subscanning direction is adjusted by oscillating the deflection mirror face 651 around the second axis according to the correction information necessary for correcting the resist displacement.例文帳に追加

一方、レジストズレを補正するために必要な補正情報に応じて偏向ミラー面６５１を第２軸回りに揺動させることで副走査方向における感光体２上での走査光ビームＬの位置を調整している。 - 特許庁

The scanning optical device 1 is equipped with a scanning optical system 100 which forms the scanning line on a photoreceptor drum 150 through an image-formation optical system 130 by performing the deflection scanning of the laser beam emitted from a light source part 110 by a polygon mirror 120.例文帳に追加

走査光学装置１は、光源部１１０から発するレーザ光をポリゴンミラー１２０で偏向走査して結像光学系１３０を介して感光ドラム１５０上に走査線を形成する走査光学系１００を、備える。 - 特許庁

Digital data for circuit diagnosis is transmitted from a position deflection control circuit 230 of the charged particle beam drawing device to the DAC amplifier unit 232 at a speed substantially equal to the drawing speed of a product reticle, and stored in a maintenance memory 231.例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置の位置偏向制御回路２３０からＤＡＣアンプユニット２３２に回路診断用のデジタルデータを製品レチクルの描画速度と同等の速度で送信すると共に、メンテナンスメモリ２３１に記憶する。 - 特許庁

The incident and reflected light to the polygon mirror 4 has no angle in the sub-scanning direction, the polarization direction of the laser beam is tilted, with respect to the flat surface (deflection plane), including the incident and reflected light to the polygon mirror 4.例文帳に追加

ポリゴンミラー４への入射光や反射光は、副走査方向には角度を持たず、そのポリゴンミラー４への入射光や反射光が含まれる平面（偏向平面）に対して、レーザー光の偏光方向が傾いている。 - 特許庁

To improve a situation that the amount of light for exposure becomes insufficient at the off-center part of the phosphor screen of a wide deflection angle color picture tube because the reflection of an exposure light beam on the incidence surface of an exposure lens becomes large at the time of exposing the phosphor screen.例文帳に追加

広偏向角カラー受像管の蛍光体スクリーン露光時に、露光レンズ入射面での露光光線の反射が大きくなるために蛍光体スクリーン周辺部で露光光量が不足するのを改善する。 - 特許庁

To configure a color cathode-ray tube device that solves a problem of mis-convergence due to a change in a deflection frequency and a screen size or the like caused through the introduction of a convergence correction means to obtain an excellent beam spot.例文帳に追加

良好なビームスポットを得るためにコンバーゼンス補正手段を導入した場合に生ずる偏向周波数や画面サイズなどの変化によるミスコンバーゼンスを解決するカラー陰極線管装置を構成することを目的とする。 - 特許庁

A beam deflection means is arranged in the base station (11) to deflect the light pulses in a second scanning direction (s).例文帳に追加

アプリケーション・ヘッド３はさらに送り方向ｘおよび走査方向ｙ、ｙ′に前記ライト・プロジェクタ５８を移動する移動ドライバ５７を有するスキャナ５２をビーム偏向手段を前記ベース・ステーション１１に配置して前記光パルスを第２の走査方向に偏向する。 - 特許庁

To provide a damping structure capable of effectively absorbing vibration energy caused by elastic deformation such as deflection of a base and suppressing resonance and thus stably projecting an optical beam spot on an information recording surface of a recording medium.例文帳に追加

基台のたわみ等の弾性変形に起因する振動エネルギーを効率的に吸収して共振を抑制し、記録録媒体の情報記録面に光ビームスポットを安定して照射できる制振構造を提供すること。 - 特許庁

Blanking by a blanking control unit 31 is eliminated by making the circumferential direction movement velocity Vsub of a substrate and a beam deflection velocity Vbeam higher in a segment R2 in which a drawing pattern is sparse, and making Vsub and Vbeam lower in segments R1 and R3 which are dense.例文帳に追加

描画パターンが疎である区間Ｒ２は基板周方向の移動速度Ｖsub及びビーム偏向速度Ｖbeamを速くし、密である区間Ｒ１，Ｒ３Ｖsub及びＶbeamを遅くすることで、ブランキング制御部３１によるブランキングをなくす。 - 特許庁

The light signal may be attenuated by changing the angle of deflection before the light signal arrives at the the outlet port or by changing the width of the collimation of a beam or by releasing part of the light signal from the waveguide.例文帳に追加

光信号を、例えば、光信号が出力口に到達する前に、偏向角を変化させるか、ビームのコリメーションの幅を変化させることによって、又は導波路から光信号の一部を放出することから、減衰させてもよい。 - 特許庁

The deviation of an irradiation spot of the charged beam 6 due to an incline deflection is corrected and controlled by the observation position, feeding back an input value as well as an incline angle of the defector 32 for observing inclination to an input value of the scan deflector 26.例文帳に追加

傾斜偏向による荷電ビーム６の照射位置のずれは、傾斜観察用偏向器３２への入力値および傾斜角度を走査偏向器２６の入力値にフィードバックすることにより観察位置を補正制御する。 - 特許庁

The deflector power supply 12 transmits a voltage signal corresponding to the deflection signal to the deflector 11, and the secondary electron retarded at the input lens 6 is incident along the optical axis O of the analyzer 7 at all times irrespective of the primary beam scanning.例文帳に追加

偏向器電源１２は、その偏向信号に対応した電圧信号を偏向器１１に送るので、インプットレンズ６で減速された２次電子は、１次ビーム走査に拘わらず常にアナライザ７の光軸Ｏに沿って入射する。 - 特許庁

The vacuum container for the beam deflection electromagnet comprises the distribution ion pump 1 keeping vacuum inside the container 2 and the absorber 8 receiving radiated light and protecting the generation of the high-temperature part inside the container caused by the irradiation of radiated light.例文帳に追加

容器２内部を真空に保つための分布イオンポンプ１と、放射光の照射により容器内に高温部が発生するのを防ぐよう放射光を受光するアブソーバ８とを有するビーム偏向電磁石用真空容器である。 - 特許庁

Further, an optical beam L is deflected and scanned in a main scanning direction by oscillating the deflection mirror face 651 around the first axis by controlling a mirror driving part which is composed of a first axis driving part and a second axis driving part.例文帳に追加

そして、第１軸駆動部と第２軸駆動部とからなるミラー駆動部を制御することによって偏向ミラー面６５１を第１軸回りに揺動させることで光ビームＬを偏向して主走査方向に走査させている。 - 特許庁