「Beam Deflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

Image light beam is shifted by an arbitrary distance in the array direction of pixels by an optical path deflection means 9 using a Bragg diffraction element having a polymer distributed liquid crystal structure disposed just before a screen 6.例文帳に追加

スクリーン６の直前に配置したポリマー分散液晶構造のブラッグ回折素子を用いた光路偏向手段９によって、画像光を画素の配列方向に任意の距離だけシフトする。 - 特許庁

To enable highly accurate processing without controlling a focal position during processing even if a substrate has deflection, when laser beam processing is performed from above by placing on the lower side a thin film formed on the large substrate.例文帳に追加

大きな基板上に形成された薄膜を下側にして上側からレーザ加工する際に、基板が撓んでいても加工途中に焦点位置を制御せずに高い加工精度での加工を可能とする。 - 特許庁

A top magnetic pole of an objective lens is electrically insulated against the part of the lens other than that for the top magnetic lens, and a scanning electron microscope with positive voltage applied accelerating a primary electron beam post-deflection is provided.例文帳に追加

対物レンズの上磁極を、対物レンズの上磁極以外の残部に対し電気的に絶縁し、一次電子ビームを後段加速する正の電圧を印加する走査形電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

A landing correction coil 11 is placed at a rear side of a deflection yoke 8 provided to the cathode ray tube 1, and a correction current depending on the beam landing pattern is supplied to the landing correction coil 11.例文帳に追加

陰極線管１に設けられた偏向ヨーク８の後部側にランディング補正用コイル１１が配置され、ランディング補正用コイル１１にビームランディングパターンに応じた補正電流が供給される。 - 特許庁

In this way, the light beam is made incident onto the deflection mirror face 651 along the swinging axis direction, thus the length of a movable plate 653 in the main scanning direction X is made comparatively short.例文帳に追加

このように揺動軸方向に沿って光ビームを偏向ミラー面６５１に入射しているため、主走査方向Ｘにおける可動板６５３の長さを比較的小さくすることができる。 - 特許庁

Namely, the high quality image is formed by correcting a deflection even when the scanning optical beam is deflected from a reference scanning position in the subscanning direction due to an error of components, an error of assembly or the like.例文帳に追加

すなわち、部品誤差や組立誤差などにより副走査方向において走査光ビームが基準走査位置からずれていたとしても該ずれを補正して高品質な画像を形成することができる。 - 特許庁

Thereby, the magnetic flux density of the deflection magnetic field in the electron beam position is increased and the distance between a cathode support body 33 and the anode target 27 is brought closer, and occurrence of expansion, blurring, distortion or the like of the X-ray focus is reduced.例文帳に追加

電子ビーム位置での偏向磁界の磁束密度を高め、陰極支持体33と陽極ターゲット27との距離を近付け、Ｘ線焦点の拡大、ぼけ、歪みなどの発生を低減する。 - 特許庁

To provide an over-hang type unit building capable of effectively eliminating the deflection of an over-hang part by using a floor beam section of the standard specification for an upper-floor building unit.例文帳に追加

上階建物ユニットに標準仕様の床梁断面形状を使用して、オーバーハング部のたわみを効果的に解消できるオーバーハング型のユニット建物を提供することを目的としている。 - 特許庁

In this instance, a synchronous light detecting means detects one beam that is deflected in the center in the main scanning direction of the deflection plane 99 of a polygon mirror 98 and in the center in the vertical scanning direction, as the synchronous light.例文帳に追加

ここで、同期光検出手段は、ポリゴンミラー９８の偏向面９９の主走査方向中央側で、且つ副走査方向中央側で偏向された１ビームを同期光として検出する。 - 特許庁

The electron beam is radiated matching its deflection and the movement of the stage on which the original disk is loaded and for a longer time while making its blanking time short.例文帳に追加

電子ビーム偏向と原盤の搭載されているステージの動作とを連携させた電子ビーム照射を行ない、電子ビームのブランキング状態時間を短くし、原盤への電子ビーム照射時間を長くする。 - 特許庁

The deflection part 70 deflects electron beam emitted from the cathode 36 in a direction along the first plane S1, and moves the position of the focus F on the target surface 35b along the first plane S1.例文帳に追加

偏向部７０は、陰極３６から放出される電子ビームを第１平面Ｓ１に沿った方向に偏向させ、焦点Ｆの位置を第１平面Ｓ１に沿ったターゲット面３５ｂ上で移動させる。 - 特許庁

Thereby, the magnetic flux density of the deflection magnetic field in the electron beam position is increased and the distance between a cathode support body 33 and an anode target 27 is brought closer and occurrence of expansion, blurring, distortion or the like of the X-ray focus is reduced.例文帳に追加

電子ビーム位置での偏向磁界の磁束密度を高め、陰極支持体33と陽極ターゲット27との距離を近付け、Ｘ線焦点の拡大、ぼけ、歪みなどの発生を低減する。 - 特許庁

A mask 32 for calibration, where a plurality of marks 32A are formed in advance is loaded, and deflection control is made by a deflector, so that an electron beam 15 enters the mark 32A of the mask 32 for calibration.例文帳に追加

予め複数のマーク３２Ａが形成された較正用マスク３２をロードし、電子ビーム１５が較正用マスク３２のマーク３２Ａに入射するように偏向器によって偏向制御する。 - 特許庁

If an electromagnetic coil 3 for deflection of the X-ray tube 2 is energized, because an electron beam is incident on a refuge part F3 on a hood electrode F in a defocus state, emission of the X-rays is suspended.例文帳に追加

Ｘ線管２の偏向用電磁コイル３が通電すると、電子ビームがフード電極Ｆ上の退避部位Ｆ３にデフォーカス状態で入射されるため、Ｘ線の出射が停止される。 - 特許庁

To provide an electron-beam tube device capable of improving the resolution of an exposure pattern by shortening the range of electron beams while maintaining the size of a maximum deflection region scanned by electron beams.例文帳に追加

電子ビームを走査する最大偏向領域の大きさを維持しつつ、電子ビームの飛程を短縮して露光パターンの分解能を向上することが可能な、電子線鏡筒装置を提供する。 - 特許庁

An input signal processing unit 54 and a deflection control unit 55 control the beam trajectory and the input signal based on the amount of correction so that the display screen approaches the state of the initial regulating stage.例文帳に追加

入力信号処理部５４および偏向制御部５５は、その補正量に基づいて、表示画面が初期調整段階の状態に近づくよう、ビーム軌道や入力信号の制御を行う。 - 特許庁

This is constituted so that a cable 4 to connect a power supply 5 that supplies a deflection voltage with an electrode 2 which deflects an electron beam 6 is connected with the electrode 2 via a high-resistor 3.例文帳に追加

この発明は、電子ビーム６を偏向する電極２に偏向電圧を供給する電源５と電極２とを接続するケーブル４を、高抵抗体３を介して電極２に接続して構成される。 - 特許庁

Laser beam loss can be prevented by letting the reflection surface of the foregoing deflection unit have a tilting angle to the optical axis of laser beams, thereby widening the caliber of incidence of the optical waveguide or the light pipe.例文帳に追加

前記偏向体の反射面をレーザビームの光軸に対して傾斜角度を持たせるように備えることにより、光導波路又はライトパイプの入射口径を広げレーザビームの損失を防止する。 - 特許庁

To provide a vacuum container for a beam deflection electromagnet with a distribution ion pump which can easily be installed and replaced, adopting an absorber with high heat removal efficiency.例文帳に追加

ビーム偏向電磁石用真空容器への分布イオンポンプの取り付けや交換が容易であり、また、除熱効率を高めたアブソーバを採用したビーム偏向電磁石用真空容器を提供する。 - 特許庁

Deflection electrodes 20, 22, deflecting the electron beam emitted from the cold cathode by the electric field having a directional component other than the direction vertical to the rear plate, is arranged in the vicinity of respective cold cathodes.例文帳に追加

各冷陰極の近傍には、冷陰極から放出された電子ビームをリアプレートに対して垂直な方向以外の成分を持つ電界により偏向する偏向電極２０、２２が配設されている。 - 特許庁

Moreover, the deflection of the beam on the revolution orbit is negated by the perpendicularly upward magnetic field B3 in the 1st auxiliary electromagnet 30, and the perpendicularly upward magnetic field B4 in the 2nd auxiliary electromagnet 40.例文帳に追加

また、周回軌道上にあるビームの偏向は、第１の補助電磁石３０内の垂直上向きの磁場Ｂ３及び第２の補助電磁石４０内の垂直上向きの磁場Ｂ４によって打ち消す。 - 特許庁

A deflection angle of an illumination beam is measured with high accuracy for an expanded continuous range of angles using grating sensors that are configured to exhibit Surface Plasmon Resonance effects at actinic wavelengths.例文帳に追加

化学線波長での表面プラズモン共鳴効果を示すよう構成されたグレーティングセンサを用いて、拡大された連続的な角度範囲に対して照明ビームの偏向角が高精度で測定される。 - 特許庁

As a result, the amount of deflection on the charged particle beam 9 changes so that radiation can take place on a position shifted by an offset of the wafer stage 2 and a reticle pattern image is transcribed onto a target position of wafer 1 by exposure.例文帳に追加

それにより、荷電粒子線９の偏向量が変化し、ウエハステージ２の位置ずれ分だけずれた位置に入射し、ウエハ１の目標とする位置に、レチクルのパターン像が露光転写される。 - 特許庁

To provide a charged beam writing apparatus and a method, capable of correcting astigmatism, without being limited in the direction for which the astigmatism correction value is max. in a deflection region, as seen from the polarization center.例文帳に追加

偏向中心から見た偏向領域内における非点補正値が最大となる方向に制約を受けることなく非点収差が可能な荷電ビーム描画装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The apparatus includes a deflection control part 30 for deflecting the electron beam to a plurality of positions shielded by the second aperture 18 at the periphery of the opening of the second aperture 18 when actual drawing is not performed so as to radiate a prescribed irradiation amount of the electron beam to the respective positions.例文帳に追加

実描画が行われていないときに、第２のアパーチャ１８の開口部の周囲であって第２のアパーチャ１８によって遮蔽される複数の位置に電子ビームを偏向し、各位置に所定の照射量の電子ビームが照射されるようにする偏向制御部３０を備える。 - 特許庁

To obtain a polygon mirror scanner motor employed in a digital copier, a laser beam printer, or the like, and used for deflection scanning of laser beam in which positional stability is ensured in the axial direction without worsening the motor characteristics, and reliability of a bearing is enhanced while reducing noise and thickness.例文帳に追加

デジタル複写機、レーザビームプリンタなどに用いられ、レーザ光の偏向走査に利用されるポリゴンミラースキャナモータにおいて、モータ特性を悪化させることなくアキシャル方向の位置安定性が確保でき、低騒音で薄型に適し、軸受信頼性を高めることを目的とする。 - 特許庁

In this case, the accelerating tubes 6, 7 are formed so as to operate at high frequencies in X band frequencies and an electron beam deflection part 8 comprising a permanent magnet is provided for deflecting 180° the track of the electron beam between these accelerating tubes 6, 7 to reduce the size of the liniac.例文帳に追加

このとき、加速管６，７をＸバンド帯域の周波数の高周波で動作するように構成するとともに、これらの加速管６，７の間で電子線の軌道を１８０°偏向するための永久磁石からなる電子線偏向部８を設けて小形化を図った。 - 特許庁

The difference between deflection quantities in respective directions (a1-a2) is adjusted to a value, which can cancel an increase δPa of exposure quantity, at deflecting of the one light beam Beam1 in the direction where superposition upon another light beam Beam2 becomes larger, by taking into consideration Gaussian distribution shape of the light beams Beam1, Beam2.例文帳に追加

各方向への偏向量の差（ａ_１−ａ_２）は、光ビームBeam1，Beam2のガウシャン分布の形状を考慮し、一方の光ビームBeam1を他方の光ビームBeam2との重なり合いが大きくなる方向に偏向させたときの露光量の増加分δＰａを相殺可能な値に調整する。 - 特許庁

The lower flange of a steel frame beam and the upper runner of a partition wall by a joint material deforming vertically, even when the steel frame beam is at a high temperature by a fire and large deflection is produced, the joint material follows up and deforms, and excessive load is not applied on the just-under partition wall.例文帳に追加

鉄骨梁の下フランジと間仕切り壁の上部ランナーとを上下方向に変形する繋ぎ材で連結し、火災により鉄骨梁が高温となり大きな撓みを生じても、前記繋ぎ材が追従変形して直下の間仕切り壁に過大な負荷を及ぼしめない構成とした。 - 特許庁

A control part 82 rotates the mirror 81 so that an optical axis of the light beam from the light source and a light ray of all the light beams after the deflection by the mirror 81 are contained in the same surface, and a light beam irradiating an ultraviolet curable resin 62 is scanned to a direction of x.例文帳に追加

制御部８２は、光源からの光ビームの光軸と、ミラー８１による偏向後の全ての光ビームの光線が同一面内に含まれるように、ミラー８１を回転させることにより、紫外線硬化樹脂６２に照射される光ビームをx方向に走査する。 - 特許庁

Besides, a second beam member 15 attached to the bushing 6 through the coupling arm 16 pulls the rotary member 11 clockwise in the direction of Arrow D, and the pushing force in the direction of Arrow C and the pulling force in the direction of Arrow D set off each other, which allows suppressing deflection of the H-beam 3.例文帳に追加

これに対し、ブッシュ６に連結アーム１６を介して取り付けられた第２ビーム部材１５は回動部材１１を矢示Ｄ方向へと時計回りに引くようになり、これら矢示Ｃ方向の押す力と矢示Ｄ方向の引く力とが互いに相殺し合い、Ｈ型ビーム３が撓むのを抑える。 - 特許庁

In the region toward the cathode from the main lens, an asymmetrical lens is formed between a fifth grid G5 and the sixth grid G6, which has asymmetry in lens action to an electron beam in the horizontal direction and the vertical direction as well as has a lens power changing in synchronizing with the electron beam deflection.例文帳に追加

主レンズよりカソード側において、第５グリッドＧ５と第６グリッドＧ６との間には、水平方向と垂直方向とで電子ビームに対するレンズ作用が異なる非対称性を有するとともに電子ビームの偏向に同期してレンズ強度が変化する非対称レンズが形成される。 - 特許庁

The electron beam deflector for deflecting a plurality of electron beams respectively comprises a deflecting section having a hole for passing an electron beam and a plurality of deflection electrodes arranged around the passing hole, and electrodes for shielding electric fields generated among a plurality of deflecting sections.例文帳に追加

複数の電子ビームを独立に偏向する電子ビーム偏向装置であって、電子ビームが通過する通過孔、及び通過孔の周囲に設けられた複数の偏向電極を有する偏向部と、複数の偏向部の間に生成される電界を遮蔽する遮蔽電極とを備える。 - 特許庁

Deflection distortion correction is made to a wafer 12 by mark positions 25A and 25B, the deflection position of a positioning deflector 8 is corrected according to the deflection distortion value, corrected electron beams 9 are applied to the wafer 12, and patterns are accurately drawn on the wafer 12, thus accurately executing the calibration of electron beams and hence accurately operating the electron beam-drawing apparatus for improving yields.例文帳に追加

ウェハ１２にマーク位置２５Ａ，２５Ｂを使って偏向歪みの補正を施し、この偏向歪み値に応じて位置決め偏向器８の偏向位置を補正し、補正された電子線９をウェハ１２に照射し、ウェハ１２にパターンを正確に描画することにより、電子線の校正を精度良く実施する事が可能となり、電子線描画装置を高精度にて稼動でき歩留まりの向上を達成することができる。 - 特許庁

To provide a micro electromechanical system (MEMS) optical scanner which is made compact by employing a structure having a light-receiving element which is disposed so that the output thereof may vary according to the deflection angle of a mirror face, and in which the incident position of a light beam on the mirror face or the deflection angle of the mirror face is prevented from being limited.例文帳に追加

ミラー面の振れ角に応じて出力が変化するように配置された受光素子を備えた構成の採用による小型化を図ながらも、ミラー面において光ビームを入射させる位置が制限されたりミラー面の振れ角が制限されるのを防止することが可能なＭＥＭＳ光スキャナを提供する。 - 特許庁

To provide a scanning image display device that has a function to project and display a two-dimensional image on a projection screen by two-dimensionally scanning a light beam with repetitive deflection means of a reflection mirror surface, and suitably corrects large image distortion due to two-dimensional repetitive deflection drive of the reflection mirror surface.例文帳に追加

反射ミラー面の反復偏向手段によって光ビームを２次元的に走査することで投射スクリーン上に２次元画像を投影表示する機能を備えた走査型画像表示装置において、反射ミラー面の２次元反復偏向駆動に起因する大きな画像歪を良好に補正する。 - 特許庁

A charged particle beam device has an irradiation system, having an objective lens for focusing charged particle beams and irradiating a sample with the focused beams; a deflection scanning system for deflection-scanning the charged particle beams; and a scanning image forming system for detecting signals generated from the sample by the irradiation of the charged particle beams and then forming a scanning image.例文帳に追加

荷電粒子線装置は、荷電粒子線を集束させて試料に照射する対物レンズを有する照射系と、荷電粒子線を偏向走査する偏向走査系と、荷電粒子線の照射により試料から発生する信号を検出して走査像を生成する走査像生成系と、を有する。 - 特許庁

At the observation of the sample, a magnification control circuit 12 sends a magnification control signal to a deflection control circuit 10 and the control device 26 calls the interlaced scanning line number corresponding to the observation magnification from the table 26 and supplies it to the deflection control circuit 10, and makes interlaced scanning two-dimensionally on the sample by electron beam.例文帳に追加

試料観察時、倍率制御回路１２は偏向制御回路１０に倍率コントロール信号を送り、制御装置２６はテーブル２６から観察倍率に応じた飛び越し走査線数を呼び出して、偏向制御回路１０に供給し、電子ビームで試料上を二次元的に飛び越し走査させる。 - 特許庁

To reduce deflection power, to improve focus performance of a display image, and to improve correcting efficiency of a convergence error in a single electron beam system projection type cathode-ray tube used for a projection TV or a projector.例文帳に追加

プロジェクションＴＶまたはプロジェクター等に使用される単電子ビーム方式投射形ブラウン管の、偏向パワーを低減させ、表示画像のフォーカス性能を向上させると共に、色ずれ補正効率を向上させる。 - 特許庁

When device patterns are formed on the mask by a charge particle beam drawing, the mask stripes 49 are further divided to drawing stripes 63 and 65 and drawing is executed by making combination use of the deflection scanning of the charge particle beams and mechanical movement.例文帳に追加

デバイスパターンを荷電粒子線描画によりマスク上に形成する際に、マスクストライプ４９をさらに描画ストライプ６３、６５に分けて、荷電粒子線の偏向走査とマスクの機械的移動を併用して描画する。 - 特許庁

The 8-pole converting circuit 104 comprises a digital circuit, and gain connections are individually conducted by digital for connecting the 8-pole deflection signal in digital by a gain corrective circuit 202 so as to correct a beam form.例文帳に追加

８極変換回路１０４は、ディジタル回路により構成され、このディジタルによる８極の偏向信号を、ビーム形状を補正するために、ゲイン補正回路２０２を介して、それぞれ個別にディジタルによるゲイン補正する。 - 特許庁

To provide a light source device using a surface light emission laser wherein loss of optical beam in a main direction which is essentially required is reduced, deflection dependency of permeability and reflectance of an optical deflector and an optical element is not generated and miniaturization is realized.例文帳に追加

面発光レーザを用いた光源装置において、本来必要となる主たる方向への光ビームのロスを少なくし、光偏向器や光学素子の透過率や反射率の偏光依存性が生じず、小型である。 - 特許庁

However, the level of the correctable tilt is varied in accordance with the size of a deflection angle to reflect a light beam.例文帳に追加

走査線傾きが生じた場合、折り返しミラーＭの一端を軸とした揺動を利用して走査線の傾きを補正することが可能であるが、光ビームを反射する偏角の大小によって補正可能な傾きの大きさが異なる。 - 特許庁

To provide a driving stage capable of preventing a fastening section from slipping and shear fracture of a bolt from occurring, suppressing a torsional deflection of a beam due to a magnetic attractive force, and increasing the life and precision of the driving stage.例文帳に追加

締結部のすべりやボルトのせん断破壊の発生を防ぎ、磁気吸引力によるビームのねじれ変形を抑え、駆動ステージの高寿命化と高精度化を図ることができる駆動ステージを提供する。 - 特許庁

In this case, the amount δ_s of allowable deflection of the main reinforcements 32A and 32B in the direction of pulling out main reinforcements 18 and 20 of a beam is appropriately adjusted depending on the strength, number, etc. of the main reinforcements 32A and 32B for use.例文帳に追加

ここで、柱主筋３２Ａ、３２Ｂの梁主筋１８、２０の引き抜き方向の許容たわみ量δ_ｓは、用いられる柱主筋３２Ａ、３２Ｂの強度、本数等によって、適宜調整される。 - 特許庁