「Beam Deflection」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To restrain an electron beam spot size from being enlarged by improving an incident angle of an electron beam to a fluorescent screen at the periphery of the screen, in a wide angle deflection cathode-ray tube device.例文帳に追加

広角偏向の陰極線管装置であって、電子ビームが画面周辺で蛍光面に入射する角度を改善して、電子ビームスポットサイズの肥大化を抑制できるようにする。 - 特許庁

Thereby, the deflection of the shade 22 produced by vibration during the travelling of a vehicle is prevented in advance, by producing no backlash of the shade 22 at the low beam position and the high beam position.例文帳に追加

これによりロービーム構成位置およびハイビーム構成位置においてシェード２２にガタが生じないようにし、車両走行中の振動等によるシェード２２のブレ発生を未然に防止する。 - 特許庁

In an embodiment, a deflection means deflects secondary particles collected via a final lens toward a detector as well as deflects the electron beam on an axis of the FBI beam.例文帳に追加

一実施形態においては、偏向手段が、電子ビームをイオンビームの軸上へ偏向すると共に、最終レンズを介して集められた２次粒子を検出器に向けて偏向する。 - 特許庁

A write timing to start exposing a photoreceptor is determined on the basis of timing of detection in which an SOS sensor detects one beam of a light beam group as synchronous light for each deflection plane 99.例文帳に追加

感光体を露光し始める書き込みタイミングは、偏向面９９毎にＳＯＳセンサが光ビーム群の１ビームを同期光として検出し、この検出タイミングに基づいて決められる。 - 特許庁

To obtain an optical scanner of a multi-beam deflection type whose high-speed applicability is made excellent by reducing a load to a deflector and in which multi-beam optical performance is made uniform on the same surface.例文帳に追加

偏向器への負荷を軽減でき、高速適用性に優れるとともに、複数ビームの光学性能が均一な同一面による複数ビーム偏向型の光走査装置を得る。 - 特許庁

After deflecting an electron beam 1 at the first deflector 2 and swinging it back at the second deflector 3, the intersecting point 5 of the deflection track of the electron beam 1 and the optical axis 4 is moved.例文帳に追加

電子線１を第１偏向器２で偏向し、さらに第２偏向器３で振り戻して、電子線１の偏向軌道が光軸４と交わる交点５の位置を変化させる。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system capable of shortening a time of waiting deflection control only in exposure of a specific pattern without remarkably revamping a conventional electron beam exposure system.例文帳に追加

従来の電子線露光装置に大幅な改造を加えることなく、特定のパターンの露光時にのみ偏向制御待ち時間を短くすることが可能な電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

Advantageously, such a beam splitter plate is used in the position of a deflection mirror in the reduction lens, and in this case only a refraction component is placed between the beam splitter plate and the reflection reticle.例文帳に追加

有利には、このようなビームスプリッタプレートは縮小レンズの内部の偏向鏡の位置で使用され、その際ビームスプリッタプレートと反射レチクルの間に屈折成分のみが設置されている。 - 特許庁

The exposure beam emitted from the modulation optical system 15 is made incident on an AOD 20, is subjected to optical deflection, is reflected by a mirror M2 and is made incident on a polarization beam splitter PBS.例文帳に追加

変調光学系１５から出射された露光ビームは、ＡＯＤ２０に入射し、光学偏向が施され、ミラーＭ２によって反射されて偏光ビームスプリッタＰＢＳに入射する。 - 特許庁

The electron-beam graphics drawing apparatus comprises a probe wherein an electromotive force is induced by a magnetic field generated by the electron beam, an arithmetic unit for obtaining the position of the electron beam from the electromotive force induced in the probe, and a control unit for controlling the deflection of the electron beam based on the obtained position of the electron beam.例文帳に追加

本発明は、電子ビームが発生する磁場により起電力を誘起する測定子と、前記測定子が誘起した起電力より前記電子ビームの位置を求める演算装置と、求めた前記電子ビームの位置に基づいて前記電子ビームの偏向を制御する制御装置とを備えたものである。 - 特許庁

The ion beam device includes an ion beam source 110 for generating an ion beam 170 emitted along a first axis 142, an aperture unit adapted to shape the ion beam, and an achromatic deflection unit 162 adapted to deflect ions on the ion beam with a predetermined mass at a deflecting angle.例文帳に追加

イオンビーム装置は第１軸１４２に沿って放射されるイオンビーム１７０を発生させるためのイオンビーム源１１０と、イオンビームを整形するよう適合された開口ユニットと、所定の質量のイオンビームのイオンを偏向角でもって偏向するよう適合された収差補正型偏向ユニット１６２を含む。 - 特許庁

An angle detector 33 placed on an optical axis of light reflected in a 1st reflecting face of a beam deflector 32 detects angular fluctuations in a received beam 36 to correct a deflection angle of the beam deflector 32.例文帳に追加

受信ビーム３６の角度変動をビーム偏向器３２の一方の第１の反射面で反射させた光軸上に配置された角度検出器３３で検出し、これに基づいてビーム偏向器３２による変更角度の補正を行う。 - 特許庁

To suppress occurrence of image expansion/contraction resulting from a variation in scanning speed of a light beam caused by a variation in oscillation amplitude of a deflection mirror.例文帳に追加

偏向ミラーの振動振幅変動して光ビームの走査速度が変動することに起因した、画像伸縮の発生を抑制する。 - 特許庁

An optical beam-scanning device includes a horizontal synchronization unit which gives a plurality of light beams deflected with a light deflection unit.例文帳に追加

本発明の光走査装置は、光偏向装置により偏向された複数の光線が与えられる水平同期用装置を備える。 - 特許庁

The focal length and the beam spot position in the subscanning direction are variably controlled with the focal length varying means and the light deflection means 212.例文帳に追加

焦点距離可変手段と光偏向手段２１２により、焦点距離と副走査方向のビームスポット位置が可変に制御される。 - 特許庁

To provide a particle beam therapy apparatus capable of irradiation from a plurality of directions around a patient body axis and a deflection device, while reducing their costs.例文帳に追加

患者体軸周りの複数の方向から照射可能な粒子線治療装置およびその偏向装置のコスト低減を図る。 - 特許庁

By the deflection of the secondary electrons, one of detectors 20a-20n is selected correspondingly to the scanning position of the primary electron beam 1.例文帳に追加

この２次電子の偏向により、一次電子ビームの走査位置に対応して検出器２０ａ〜２０ｎのいずれかの検出器を選択する。 - 特許庁

To correct any beam mis-landing of outward, inward, leftward and rightward deviation while restraining the deviation amount from a design position of a deflection yoke.例文帳に追加

偏向ヨークの設計位置からのずれ量を抑えながら、外ずれ、内ずれ、左ずれ、右ずれのいずれのビームミスランディングをも補正する。 - 特許庁

The light beams expanded consecutively within the plane can take a beam deflection angle larger than that of the output of an array waveguide lattice.例文帳に追加

平面内に連続的に広がった光ビームは、アレイ導波路格子の出力に比べ、ビーム偏向角を大きく取ることができる。 - 特許庁

A transmission unit includes beam deflection mirrors (4, 5) controllable via a control unit (30) and location-adjusting devices (2, 3, 6-8).例文帳に追加

送信ユニットは制御ユニット（３０）と位置調整装置（２，３，６−８）とを介して制御可能なビーム偏向用のミラー（４，５）を有している。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device capable of improving or relaxing deflection phenomenon of charged particle beams such as ion beams and electron beams.例文帳に追加

イオンビームや電子ビームなど、荷電粒子線の偏向現象を、改善ないし緩和することのできる荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁

An intermediate plate located between two-staged deflectors is made to serve as a virtual deflection main surface, and a beam shutoff/stop 24 is arranged on this main plane.例文帳に追加

２段偏向器の中間を２段偏向系の仮想偏向主面にとり、この位置にビーム遮断絞り２４を配置している。 - 特許庁

A deflection part 13 deflecting the electron beam EB is arranged in a beam formation electrode 12 accelerating an electron emitted from the filament 11 and forming an electric field generating the electron beam EB so that the electron beam EB is protruded on the emission side beyond an opening part.例文帳に追加

フィラメント１１より放出された電子を加速して電子ビームＥＢを生成する電界を形成するためのビーム形成電極１２に、その開口部よりも電子ビームＥＢが射出する側に突出するように、電子ビームＥＢを偏向するデフレクション部１３を設ける。 - 特許庁

A wedge-shaped prism 10, which has a relative inclination angle between an optical surface 11 on the light beam incident side and an optical surface 12 on the light beam emission side defined as δ, is arranged in a reflection light beam light path between a deflection mirror device 9 for light beam scanning and a projection screen 20.例文帳に追加

光ビーム走査用偏向ミラー装置９と投射スクリーン２０の間の反射光ビーム光路中に、光ビーム入射側の光学面１１と光ビーム出射側の光学面１２との相対傾き角がδとして規定されたくさび型プリズム１０を配置する。 - 特許庁

The laser marking device includes: a laser beam generator which emits a laser beam by means of an emitter; and a deflection box which deflects the laser beam onto the packet at a marking station by directing the laser beam along a focus path that starts at the emitter and terminates on the outer surface of the packet.例文帳に追加

マーキング装置がエミッタによってレーザービームを発射するレーザービーム発生器、及びエミッタで開始しかつパケットの外面上で終端する焦点通路に沿ってレーザービームを誘導することによりマーキングステーションでパケットへのレーザービームを偏向する偏向箱を含む。 - 特許庁

A first and a second deflection mirror faces 651a and 651b are arranged facing the side of the reflection face 671a of a concave face mirror 671, a light beam deflected with a first deflection mirror face 651a is reflected on the concave mirror face 671a and guided to a second deflection mirror face 651b.例文帳に追加

第１および第２偏向ミラー面６５１ａ，６５１ｂが凹面ミラー６７１の反射面６７１ａ側を向いて配置されており、第１偏向ミラー面６５１ａにより偏向された光ビームが凹面ミラー面６７１ａにより反射されて第２偏向ミラー面６５１ｂに導光される。 - 特許庁

In the electron beam type testing device, the deflection control means 2 to control the electrostatic deflector has a deflection waveform forming means 21 to form a deflection control signal, and a deflection signal output means 20 of applying different voltages to respective stages of the electrostatic deflector by amplifying formed control signals and by branching these amplified control signals.例文帳に追加

電子ビーム式検査装置において、静電偏向器を制御する偏向制御手段２は、偏向制御信号を生成する偏向波形生成手段２１と、生成された制御信号を増幅し、この増幅された制御信号を分岐して静電偏向器の各段に違う電圧を印加する偏向信号出力手段２０とを有する。 - 特許庁

A deflector 39 is composed of three deflection electrode pairs consisting of first deflection electrodes 51a, 51b and 51c disposed at given intervals in the direction of an optical axis 5 of an ion beam 19 and second deflection electrodes 52a, 52b and 52c opposing the foregoing, and is so designed that different electric potentials can be applied to each deflection electrode from a controller 7 via a switch 61.例文帳に追加

偏向器３９をイオンビーム１９の光軸５の方向に隙間を設けて配設された第１偏向電極５１ａ、５１ｂ、５１ｃ及びこれに対向する第２偏向電極５２ａ、５２ｂ、５２ｃからなる３つの偏向電極対によって構成し、コントローラ７からスイッチ６１を介して各偏向電極に異なる電位を印加できるようにする。 - 特許庁

A charged corpuscular beam 2 incident in a final deflection electromagnet 7 via four-pole electromagnets 4, 5 and 6, is scanned by including an X directional component, while advancing in a circular arc shape in the final deflection electromagnet 7, by increasing and decreasing a deflection electromagnetic field generated in the final deflection electromagnet 7, for example, with a specific period.例文帳に追加

四極電磁石４，５，６を経由して最終偏向電磁石７内に入射してきた荷電粒子ビーム２は、最終偏向電磁石７内で生じる偏向電磁場を例えば一定の周期をもって増減させることにより、最終偏向電磁石７内を円弧状に進行しつつ、Ｘ方向の成分を含んでスキャンされる。 - 特許庁

Deflection control means 13 transmits a deflection signal for deflecting a secondary electron in synchronization with a primary beam scanning to a deflector power supply 12 so that the secondary electron emitted from a sample is incident along an optical axis of an analyzer (a center of an incident slit 15) irrespective of the primary beam scanning.例文帳に追加

偏向制御手段１３は、１次ビーム走査に拘わらず試料から放出された２次電子がアナライザの光軸（入射スリット１５の中心）に沿って入射するように、１次ビームの走査に同期して２次電子を偏向させるための偏向信号を偏向器電源１２に送る。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing apparatus capable of transferring drawn data efficiently to a deflection control means and surely preventing missing blocks in the drawn data in the deflection control means, and also to provide a method of transferring drawn data by the charged particle beam drawing apparatus.例文帳に追加

偏向制御手段への描画データの転送を高効率で行うと共に、偏向制御手段における描画データのブロックの欠損を確実に防止することが可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画装置の描画データ転送方法を提供する。 - 特許庁

An optical system consisting of paraboloid-of-revolution mirrors 11 and 12 changes the incident direction of the laser beam to be made incident on a second galvanometer mirror 13 by the same angle as the angle to indicate the variation of the angle of deflection of the laser beam when the first deflector 10 changes the angle of deflection.例文帳に追加

回転放物面鏡１１及び１２よりなる光学系は、第１の偏向器１０が、レーザ光の偏向角を変化させるときに、その変化量を表す角度と同一の角度だけ、第２のガルバノミラー１３に入射させるレーザ光の入射方向を変化させる。 - 特許庁

The coupling deflector has a deflection prism 5 for the purpose of the illumination beam route of the conventional illumination system 19 and has two deflection elements 12a and 12b disposed symmetrically for the purpose of the illumination beam routes 10b and 10b of the double UV irradiation apparatus 20a and 20b.例文帳に追加

この結合偏向装置は、従来の照明システム１９の照明ビーム経路３のために偏向プリズム５を有し、ダブル紫外線照射装置２０ａ、２０ｂの照明ビーム経路１０ａ、１０ｂのために、二つの対称的に配された偏向要素１２ａ、ｂを有する。 - 特許庁

To measure beam yaw with good repeatability, of the axes of three electron beams, a center electron beam and two side electron beams, in a coordinate system determined by a deflection reference axis determined when a cathode-ray tube and a deflection yoke are combined together and by a phosphor stripe on a phosphor screen.例文帳に追加

陰極線管と偏向ヨークを組み立てた時に決定される偏向基準軸と蛍光面の蛍光体ストライプで決定される座標系において、再現性よくセンター電子ビーム及び両サイド電子ビームの３本の電子ビーム軸の離軸量を測定する。 - 特許庁

A camera mechanism is provided in an observation room, the horizontal component of the deflection system of an electron gun is adjusted by calculating the position of a beam, and the oblique component of the deflection system of the electron gun is adjusted so that the maximum quantity of a current can be obtained, by detecting the amount of a beam current.例文帳に追加

観察室にカメラ機構を設け、ビームの位置を計算することにより電子銃の偏向系の水平成分を調整し、また、ビームの電流量を検出することにより、最も多く電流量が得られるように電子銃の偏向系の傾斜成分を調整する。 - 特許庁

To adjust the center of vibration of a deflection mirror face with high accuracy and to improve scanning performance of a light beam, in an optical scanner in which a light beam scans a surface to be scanned in the main scanning direction by the vibrating deflection mirror face, and in an image forming apparatus equipped with this scanner.例文帳に追加

振動する偏向ミラー面によって主走査方向に光ビームを被走査面上に走査させる光走査装置および該装置を装備する画像形成装置において、偏向ミラー面の振動中心を高精度に調整して光ビームの走査性を向上させる。 - 特許庁

This electron-beam evaporating device has an electron gun 4 and a crucible 6 accommodating the vaporizing material 5 arranged between deflection yokes 1A and 1B so that the electron beam emitted from the electron gun 4 is deflected by a magnetic field formed by the deflection yokes 1A and 1B, and can irradiate the vaporized material 5 in the crucible 6.例文帳に追加

偏向用ヨーク１Ａ，１Ｂ間に電子銃４と蒸発物質５を収容した坩堝６を設け、電子銃４から発せられた電子ビームが偏向用ヨーク１Ａ，１Ｂが形成する磁場により偏向されて坩堝６内の蒸発物質５に照射される様に成す。 - 特許庁

Further, a light beam from a first optical system is made incident to the front face side of the deflection mirror face 651 from a rocking axis direction Y with an acute angle with respect to the normal line of the deflection mirror face 651.例文帳に追加

また、第１光学系からの光ビームが偏向ミラー面６５１の正面側より偏向ミラー面６５１の面法線に対して鋭角をなすように揺動軸方向Ｙから偏向ミラー面６５１に入射される。 - 特許庁

To provide a light deflection element which is increased in a deflection angle and is capable of efficiently deflecting a light beam to a driving voltage, by using a light-exiting prism with a slant face tilted at a prescribed angle.例文帳に追加

所定角度で傾斜した斜面を備えた出射用プリズムを用いることによって、偏向角度を大きくし、駆動電圧に対し効率良く光ビームを偏向することが可能な光偏向素子を提供する。 - 特許庁

When the objective lens is deviated from the optical axis, amount of receiving beam of the split beams at the light receiving surfaces A1, A2 is different and a deflection signal S6 indicating deflection of the objective lens is formed depending on the difference of these receiving beams.例文帳に追加

対物レンズが光軸に対して振れているときは、受光面Ａ１、Ａ２での分割光の受光量が異なり、これらの差に応じて、対物レンズの振れを表す振れ信号Ｓ６が形成される。 - 特許庁

Forming as a protrusive beam protruding for such a length as attaining the object end across the width from the bearing nearer the other end allows yielding the carrier wheel shaft equipped with the maximum deflection amount between the bearings and the deflection amount of the protrusive end, the two being aligned.例文帳に追加

他端寄り軸受から搬送物幅端に達する所定長さ突き出した突き出し梁形とすることで、軸受間の最大撓み量と突き出し端の撓み量とを揃えた駆動キャリアホイール軸とする。 - 特許庁

To provide a deflection yoke, that prevents magnetic field leakage of a supersaturated reactor from adversely affecting the horizontal and vertical deflection coils and the electron beam, and that can suppress distortion of screen image and improve the convergence characteristics.例文帳に追加

過飽和リアクタから漏れる磁界が、水平および垂直偏向コイル、および電子ビームに悪影響を及ぼすのを防止し、画面の歪みの抑制およびコンバージェンス特性の向上が図れる偏向ヨークを提供する。 - 特許庁

To provide a projection optical system of charged particle beam capable of obtaining good image formation performance, by optimizing a deflection orbit even in the case that an image rotation angle is other than a non-rotated inverted image in a deflection optical system.例文帳に追加

偏向光学系において、像の回転角が無回転倒立像以外の場合でも偏向軌道を最適化し、良好な結像性能を得ることの可能な荷電粒子線投影光学系を提供する。 - 特許庁

The deflection of an electron beam caused by eddy currents generated by leakage magnetic fields from the electronic oven of the electron beam exposure system and the deflection of the beam caused by the influence of charge up by secondary electrons are reduced sufficiently by constituting a mobile guide 3 journaled by the static-pressure bearing 10 of a conductive material having a volume resistance of about 1E^-3 Ωcm or higher.例文帳に追加

静圧軸受１０に軸支される可動ガイド３を略１Ｅ^−３Ω・ｃｍ以上の体積抵抗を有する導電性材料で構成することにより、電子ビーム露光装置の電子レンズからの漏れ磁場によって発生する渦電流によるビームの振れ、２次電子によるチャージアップの影響によるビームの振れを十分小さくする。 - 特許庁

The collimated plane light source consists of a laser beam source 10 having a prescribed emission width, a reflecting member 20 to reflect emitted light beams L1 from a laser beam source 10 mutually in parallel in a prescribed direction, and a deflection member 30 having a deflection plane 32 to reflect each reflected light beam 24 reflected on the reflecting member 20 in an almost right-angled direction to the parallel surface.例文帳に追加

所定の出射幅を有するレーザ光源１０と、レーザ光源１０の出射光Ｌ１を所定方向に互いに平行に反射させる反射部材２０と、反射部材２０で反射した各反射光２４についてその平行面に対して略直角方向に反射させる偏向面３２を有する偏向部材３０とから構成する。 - 特許庁