| 意味 | 例文 |
Beam Deflectionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 826件
To provide a deflection yoke and a color cathode ray tube device capable of effectively converging electron beam and improving an image characteristics at whole image surface.例文帳に追加
電子ビームを効率的に収束でき、画面全面における画像特性向上を図ることが可能な偏向ヨーク、およびカラー陰極線管装置を提供する。 - 特許庁
An overall controller 9 computes an unfocused quantity from the movement of a microscope image caused by beam deflection, and commands to the power source of the object lens to deflect a focus distance.例文帳に追加
全体制御器9は、ビーム偏向による顕微鏡像の移動量から焦点はずれ量を計算し、焦点距離を偏向するように対物レンズ電源に指令する。 - 特許庁
This wavelength scanning type laser light source is composed of an optical fiber loop 11 including a gain medium 12, an optical circulator 13, a light beam deflection part, and a diffraction grating 27.例文帳に追加
ゲイン媒体12を含む光ファイバループ11、光サーキュレータ13、光ビーム偏向部及び回折格子27によって波長走査型レーザ光源を構成する。 - 特許庁
A scanning signal of large dynamic range (a scanning signal of large amplitude) of a scanning power supply is supplied to electron gun alignment deflection coils 10 and 11 to scan electron beam.例文帳に追加
電子銃アライメント偏向コイル10,11には走査電源の大きなダイナミックレンジの走査信号(大きな振幅の走査信号)が供給され、電子ビームの走査が行われる。 - 特許庁
On the other hand, the position of the scanning optical beam L on a photoreceptor 2 in the subscanning direction is adjusted by oscillating the deflection mirror face 651 around the second axis.例文帳に追加
一方、偏向ミラー面651を第2軸回りに揺動させることで副走査方向における感光体2上での走査光ビームLの位置を調整している。 - 特許庁
The deflection element 10 includes a pair of terminal sections 13, 14 disposed to face each other, a deflecting section 11 disposed therebetween, and beam sections 16, 17 for connecting them.例文帳に追加
偏向素子10は、対向配置された一対の端子部13,14、その間に配置された偏向部11、及びこれらを連結する梁部16,17を有する。 - 特許庁
By employing a prism 13, the beam diameters of signal light beams input from lenses 12a to 12n of a micro lens array 12 are expanded or contracted in a direction 1 perpendicular to the beam axes of the signal light beams, and the beam axes of the signal light reflected on deflection elements are made parallel to the beam axes of optical fibers 11a to 11n.例文帳に追加
プリズム13を設けることにより、マイクロレンズアレイ12のレンズ12a〜12nから入力された信号光のビーム径を、この信号光の光軸に直交する1の方向に拡大または縮小させ、かつ、その信号光の偏向素子による反射光の光軸が光ファイバ11a〜11nの光軸と平行にさせることができる。 - 特許庁
The device for guiding an electron beam which is specifically a beam deflector 10, is equipped with a cylindrical support body 11 having a path 12 to an axial direction capable of transmitting a beam inside, and a string of a coil 14 separated to a direction of an axis operable by electric energy to generate electromagnetic field for beam deflection.例文帳に追加
電子ビームを誘導するための装置、具体的にはビーム偏向器10は、ビームが中を伝播することができる軸方向の通路12を有する円筒支持本体11と、本体11によって支持され、ビームの偏向のための電磁場を生成するための電気エネルギーによって動作可能な軸方向に離隔された一連のコイル14と、を具備している。 - 特許庁
The optical axis direction position of the sample face is detected on the basis of the deflection voltage ratio of the deflection systems 19, 20 when the left and right of a secondary electron image of the marker obtained while a primary electron beam is deflected by the electrostatic deflection systems 19, 20 to scan on the marker 18, are just reversed, or the magnification substantially becomes infinite.例文帳に追加
静電偏向器19及び20により一次電子線を偏向してマーカ18上を走査する間に得られた該マーカの二次電子画像の左右が丁度反転するとき又はその倍率が実質的に∞になるときの偏向器19及び20の偏向電圧比に基づいて、試料面の光軸方向の位置を検出する。 - 特許庁
The tendency of beam current distribution on a first formation aperture 8 is measured in a plurality of deflection states deflected by a first deflection means 2, and feedback is made to the first deflection means 2 according the measurement value, thus making an adjustment regarding the position relationship between the opening of a limitation aperture 4 and the current density distribution of beams on the limitation aperture 4.例文帳に追加
第1成形アパーチャ8上のビーム電流分布傾向を第1の偏向手段2により偏向された複数の偏向状態において測定し、それらの測定値をもとに第1の偏向手段2にフィードバックを行うことで、制限アパーチャ4の開口部と制限アパーチャ4上のビームの電流密度分布の位置関係に関する調整を行う。 - 特許庁
Since a spot size Hbs of an incident light beam on a surface of a deflection mirror 651 is made larger than a width Hb of the mirror surface when the oscillating angle θ is zero, a relation Hbs>Hb is maintained all over the oscillating angles θ, and the incident light beam is in a over-filled state on the deflection mirror 651.例文帳に追加
揺動角θがゼロとなっているときに、偏向ミラー面651上での入射光ビームのスポット寸法Hbsが偏向ミラー面651の幅Hbよりも大きくなるように構成しているので、全揺動角θにおいて、Hbs>Hbの関係が成立し、入射光ビームは偏向ミラー面651に対してオーバーフィル状態となっている。 - 特許庁
To provide a scanning-type image display device that has a function to project to display a two-dimensional image on a projection screen by two-dimensionally scanning a light beam with repetitive deflection means of a reflection mirror surface, and appropriately corrects image distortion resulting in two-dimensional repetitive deflection drive of the reflection mirror surface and occurring during light beam scanning.例文帳に追加
反射ミラー面の反復偏向手段によって光ビームを2次元的に走査することで投射スクリーン上に2次元画像を投影表示する機能を備えた走査型画像表示装置において、前記反射ミラー面の2次元反復偏向駆動に起因する光ビーム走査時に生じる画像歪みを良好に補正する。 - 特許庁
To reduce whining sound generated by vibration of a magnetic body due to influence of a vertical magnetic field when the magnetic body for correcting a vertical deflection magnetic field is mounted, and to enhance versatility of the magnetic body, in a deflection yoke device used for controlling an electron beam.例文帳に追加
電子ビームの制御に利用される偏向ヨーク装置において、垂直偏向磁界を補正する磁性体を取り付けたとき、垂直磁界の影響により磁性体が振動して生じるうなり音を低減するとともに磁性体の汎用性を高める。 - 特許庁
To prevent image deterioration due to a difference in light intensity profiles on a photoreceptor surface of each beam in an overfilled scanner optical system of a plurality of beams which is provided with a plurality of deflection faces like those of a polygon mirror and emits a spot diameter wider than the widths of the deflection faces.例文帳に追加
ポリゴンミラーのような複数の偏向面を備え、かつこの偏向面幅よりも広いスポット径を出射する複数ビームのオーバーフィルドスキャナ光学系などにおいて、各ビームの感光体面上光量プロファイルの差に起因する画像劣化を防ぐ。 - 特許庁
In a comparison control portion 5, a differential amplifier 8 obtains a deflection signal from the output command value of a predetermined laser beam from an irradiation command portion 4, and output voltage of a power detector 3 and thereafter, an adder 9 adds the deflection signal and the output command value and outputs it.例文帳に追加
比較制御部5では、照射指令部4よりの所定レーザ光の出力指令値とパワー検出部3の出力電圧から差動増幅器8により偏差信号を得た後に、加算器9で偏差信号と出力指令値を加算し、出力される。 - 特許庁
The abnormal current in this protective net 16 is detected by a detecting part 17 to stop the driving of the coil 12 for primary deflection by a control part 18, and, moreover, the coil 13 for secondary deflection is driven to apply the electron beam (b) to a safe position.例文帳に追加
この防御ネット16の異常電流を検出部17で検出して、制御部18で第1偏向用コイル12の駆動を停止させると共に、第2偏向用コイル13を駆動させて電子ビームbを安全な位置へ照射させるようにする。 - 特許庁
A light beam at a return path that is emitted from a light source 101 and is reflected from an optical disk 106 is separated by a half mirror 102 and is split into a light beam through a specific region and that through the other regions by a hologram 109 for deflection.例文帳に追加
光源101から射出され、光ディスク106で反射された復路の光ビームをハーフミラー102で分離し、ホログラム109で特定領域を通過する光ビームとそれ以外の領域を通過する光ビームとに分割して偏向させる。 - 特許庁
To provide an optical scanner in which an image having excellent quality is formed by uniformizing the beam spot diameters over a whole face to be scanned by adjusting the incident position of a light beam onto an optical deflection face in a main scanning direction.例文帳に追加
光偏向面への光ビームの主走査方向の入射位置を調整して、被走査面全体にわたってビームスポット径を均一にすることにより、良好な品質の画像を形成できる光走査装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The pre-deflection optical system has a polarization beam splitter that synthesizes the optical paths of the two light beams and a first and a second 1/2 wavelength plates which vary the polarization direction of the respective light beams incident to the two incident faces of the polarization beam splitter.例文帳に追加
偏向前光学系は、2つの光線の光路を合成する偏光ビームスプリッタと、偏光ビームスプリッタの2つの入射面へのそれぞれの光線に対し、その偏光方向を変更する第1及び第2の1/2波長板とを有する。 - 特許庁
In case of failure, a low-beam emitting device 8 controls the reflected light L6 from a reflection type digital light deflection device 2 during non-energization period to use it as a light distribution pattern P for low beam and emit it to a road surface.例文帳に追加
故障が発生した場合において、ロービーム照射装置8により、無通電時の反射型デジタル光偏向装置2からの反射光L6を制御してすれ違い用の配光パターンPとして使用して路面などに照射することができる。 - 特許庁
A setting section of a blood flow measuring beam calculates a middle point 50 based on a position of a front wall 46 and a position of a back wall 48 of the blood vessel 14 and sets a deflection angle ξ so that the flow measuring beam 42 passes through the middle point 50.例文帳に追加
血流速計測用ビーム方向設定部は、血管14の前壁46の位置と後壁48の位置に基づいて、中点50の位置を演算し、流速計測ビーム42が中点50を通過するように、偏向角度ξを設定する。 - 特許庁
To suppress lowering of writing accuracy due to unexpected deflection of an electron beam caused directly or indirectly by a part of noise source flowing from a structure, e.g. a metal mesh floor, in a clean room to the earth of an electron beam writing system.例文帳に追加
クリーンルーム内の金属メッシュ床等の構造物に流れているノイズ源の一部が、電子ビーム描画装置のアースに流れ、直接的、間接的に電子ビームに対し予期せぬ偏向作用を与え、描画精度を低下させるので、これを低減させる。 - 特許庁
To provide a multi-beam light scanning optical system capable of reducing an interval of a main ray of each light beam on a deflection face so as to effectively suppress production of jitter due to out of focus in the main scanning direction and to provide an image forming device using the optical system.例文帳に追加
偏向面上の各光ビームの主光線の間隔を減少させ、主走査方向のピントずれによるジッターの発生を効果的に抑制することができるマルチビーム光走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を得ること。 - 特許庁
A collision position changing control part 21 changes the direction of the center orbit E of the electron beam e which enters into a throttle hole 8 by interlockingly operating these deflection coils 11, 13 while the center orbit E of the electron beam e passes through the throttle hole 8.例文帳に追加
衝突位置変更制御部21は、これら偏向コイル11、13を連動操作することで、電子ビームeの中心軌道Eが絞り孔8を通過しつつ、絞り孔8へ入射する電子ビームeの中心軌道Eの方向を変える。 - 特許庁
An electron beam converged to an area MA of a substrate W rotating at a speed to be exposed by the electron beam is deflected periodically to a +X direction without blanking by applying a pulse voltage PV to a second deflection electrode 18.例文帳に追加
電子ビームによって感光される速度で回転する基板Wの領域MAに収束される電子ビームを、第2偏向電極18にパルス電圧PVを印加することで、ブランキングすることなく+X方向に周期的に偏向する。 - 特許庁
To provide a mask for charged particle beam exposure eliminating thermal deflection and displacement of a membrane due to heat storage during exposure without blocking formation of a fine mask pattern, and to provide a method of manufacturing the mask for charged particle beam exposure.例文帳に追加
微細なマスクパターンの形成を阻害することなく、露光時の蓄熱に起因したメンブレンの熱たわみ及び位置ずれを解消することを可能とする荷電粒子線露光用マスク及び荷電粒子線露光用マスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁
When there is the atmospheric pressure fluctuation, an irradiation position of the electron beam on a sample under the atmospheric pressure fluctuation can be corrected if the amount of deflection of an electron beam is changed according to the amount of the atmospheric pressure fluctuation to offset the fluctuation of an image.例文帳に追加
大気圧の変動があれば、大気圧の変動量に応じて電子ビームの偏向量を像の変動を打ち消すように変化させれば、大気圧変動による電子ビームの試料上の照射位置の補正を行うことができる。 - 特許庁
The relay optical system propagates the light beam flux so that when the scan with the light beam flux is made by the 1st scanning optical system, the position where the light beam flux is deflected in the 2nd scanning optical device does not move or the length of a track of the position of the deflection is shorter than that when the relay optical system is not arranged.例文帳に追加
第1の走査光学系で光線束を走査したときに、第2の走査光学装置内で光線束が偏向される位置が移動しないか、または偏向される位置の軌跡の長さが、リレー光学系が配置されていないときのそれよりも短くなるように、リレー光学系が光線束を伝搬させる。 - 特許庁
To obtain a track pitch of concentric-circular or spiral beam irradiation track which is never affected by the synchronous/asynchronous rotation deflection of a turntable by precisely detecting true rotation synchronization components and a synchronous rotation components and adjusting a beam irradiation position in a radial direction on the master disk of an optical disk by a beam irradiation position control means.例文帳に追加
真の回転同期成分と非同期回転成分を高精度で検出し、ビーム照射位置制御手段で光ディスク原盤上の半径方向のビーム照射位置を調整し、ターンテーブルの同期・非同期回転振れによる影響を受けない同心円またはスパイラル状のビーム照射軌跡のトラックピッチを得ること。 - 特許庁
The structure is such that the light beam is folded back with the concave face mirror 671 of the transmission optical system 67, thus, the device is more miniaturized than a conventional device in which the first deflection mirror face, the transmission optical system and the second deflection mirror face are arranged in line.例文帳に追加
このように光ビームを伝達光学系67の凹面ミラー671で折り返すように構成しているため、第1偏向ミラー面、伝達光学系および第2偏向ミラー面を直線状に配置していた従来装置に比べ、装置を小型化することができる。 - 特許庁
This magnetic field applying device of the transmission electron microscope comprises a plurality of deflectors to swingingly return the optical axis deflection of an irradiated electron beam generated simultaneously with application of the magnetic field onto the optical axis, and is formed so that the deflection main surface of one deflector is disposed at a position extremely close to the surface of the sample 6.例文帳に追加
透過電子顕微鏡の磁場印加装置において、磁場印加と同時に発生する照射電子線の光軸偏向を軸上に振り戻す複数の偏向器からなり、1つの偏向器の偏向主面が試料6表面に極めて近い位置に配置されように構成される。 - 特許庁
By this configuration, without wasting a beam movement distance in the deflection direction that poses a problem when an external mirror is used, or causing an increase in cost or an occurrence of stress accompanying the formation of a dielectric multilayer film mirror, the interaction length of crystal and light is extended, thereby increasing a deflection angle.例文帳に追加
これによれば、外部ミラー使用時に問題となる偏向方向へのビーム移動距離を浪費することも、誘電体多層膜ミラー形成に伴うコスト上昇や応力発生を生じることもなく、結晶と光の相互作用長を延伸させ、偏向角を増大させることが可能となる。 - 特許庁
To improve the throughput of an electron beam exposure system and its operating method by shortening the time required for deflection and exposure without degrading the exposing accuracy when the deflection by a main deflector is transferred to a region in which exposure is possible by a sub-deflector at a high speed by using a feedback deflector.例文帳に追加
電子ビーム露光及びその操作方法に関し、フィードバック偏向器を用いて主偏向器による偏向を副偏向器の露光可能範囲に高速に持っていく場合に、露光精度を劣化させることなく偏向及び露光に必要とする時間を短くしてスループットを向上させる。 - 特許庁
The control means 21 controls the scanning of the deflection means 2 by superposing a scan signal on a deflection signal, when electron beam profiles such as an emission pattern are displayed on a displaying means based on x-ray detection data obtained by the x-ray detection means 20.例文帳に追加
制御手段21は偏向信号にスキャン信号を重畳して各偏向手段2を走査制御し、そのとき表示手段には前記X線検出手段20で得られたX線検出データに基づいて電子ビームプロファイル、例えばエミッションパターンが表示される。 - 特許庁
A deflection yoke is configured so that a horizontal deflecting coil 13 to deflect an electron beam in the horizontal direction and a vertical deflecting coil to make deflection in the vertical direction are supported on a mold 12 approx. in a funnel shape, wherein at least four electromagnetic coils 31 to correct the raster distortion are arranged on that side of the mold with opening having a greater diameter.例文帳に追加
ほぼ漏斗状のモールドに電子ビームを水平方向に偏向する水平偏向コイルおよび垂直方向に偏向する垂直偏向コイルが支持されてなる偏向ヨークにおいて、モールドの径大な開口部側にラスター歪を補正する少なくとも4個の電磁コイルを配置した。 - 特許庁
To prevent a significant deterioration of resolution at left and right ends of the screen due to large difference in magnetic field intensity of self- convergence which each electron beam of R, G, B receives in passing deflection magnetic field in the case of color cathode-ray tube for a flat screen image display of high resolution and wide angle deflection.例文帳に追加
高解像度化、広角度偏向化、フラット画面のディスプレイ用カラーブラウン管においては、R,G,Bの電子ビームが偏向磁界中を通過する際にそれぞれの電子ビームが受けるセルフコンバーゼンス磁界強度の差が大きいため、画面左右端部において解像度が顕著に劣化する。 - 特許庁
To provide an electron beam lithography method in which drawing of a fine pattern can be made in high precision as prescribed on all surface of a substrate, and in a deflection control by a triangular wave deflection signal, drawing operation by electron beams is corrected and a photosensitized drawing of a prescribed element shape can be made rapidly and precisely with a constant dose.例文帳に追加
微細パターンの描画が基板の全面で所定通りに高精度に行え、三角波偏向信号による偏向制御において、電子ビームによる描画動作を修正し、所定のエレメント形状の感光描画が一定のドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。 - 特許庁
As a result, even if the strength of the excitation of the objective lens is changed, the electron beam scans around the center position of the main surface of the objective lens as a deflection support point without generating the deflection of a scanned image, and the generation of astigmatism is prevented, and a scanned image having high resolution is obtained.例文帳に追加
この結果、対物レンズの励磁強度を変えても電子ビームは対物レンズの主面の中心位置を偏向支点として走査が行われることになり、走査像の歪みは発生せず、また、非点の発生も防止されることになり、高い分解能の走査像を得ることができる。 - 特許庁
An electron beam E generated and accelerated by an electron gun 1 connected to a high voltage power source is focused by a focusing lens 3 formed of condenser lenses, tilted by two stages of deflection coils of a deflection part 4, and applied to a sample 5a on a sample setting table in a sample room 5.例文帳に追加
高電圧電源に接続した電子銃1から発生し加速された電子線Eは、コンデンサレンズからなる収束レンズ3で収束されてから、偏向部4の2段の偏向コイルにより傾斜されて試料室5内の試料載置台上の試料5に照射される。 - 特許庁
The optical multi-beam scanning device of the present invention has: a single optical deflector; a pre-deflection optical system that allows the light beams from a plurality of light sources incident to the optical deflector; and a post-deflection optical system that focuses the respective reflected light beams from the optical deflector to respective faces to be scanned for respective light beams.例文帳に追加
本発明のマルチビーム光走査装置は、単一の光偏向装置と、複数の光源からの光線を上記光偏向装置に入射させる偏向前光学系と、光偏向装置からの各反射光線を光線毎の被走査面に結像させる偏向後光学系とを有する。 - 特許庁
Deflection electrodes 315 are periodically arranged, an electron beam trajectory 921 is deflected by arranging an electron emission area of the electron emission elements 55 so as not to include a center line G-H between adjacent deflection electrodes, and the positive ions generated are prevented from irradiating on the electron emission area.例文帳に追加
偏向電極315を周期的に配置し、隣接する偏向電極間の中心線G−Hを含まないように電子放出素子55の電子放出領域を配置することで電子ビーム軌道921を偏向させ、発生した正イオンの電子放出領域への照射を阻止する。 - 特許庁
The cathode-ray tube 1 is equipped with a deflecting yoke 9 including a horizontal deflection coil 7, where a cut face of a mounting portion of this deflecting yoke 9 is formed like a field track that is long in an horizontal direction and an inside face 11 of the mounting portion is formed along a tracking of an electron beam in an vertical deflection.例文帳に追加
水平偏向コイル7を有する偏向ヨーク9が装着され、この偏向ヨーク9の装着部の断面が水平方向に長いフィールドトラック形状とされ、装着部の内装面11が電子ビームの垂直偏向の軌跡に沿って形成された陰極線管1を構成する。 - 特許庁
Based on the detection result of the light detection element 32, the quantity of light propagated toward the beam deflection element 31/polygon mirror 33 can be adjusted to a predefined quantity.例文帳に追加
光検出素子32の検出結果に基づくことで、ビーム偏向素子31ポリゴンミラー33に向かって進む光の光量を予め定める光量に調整することができる。 - 特許庁
To obtain an image forming apparatus in which deviation in the irradiation position of a light beam is reduced by reducing the deflection of a mounting plate in the image forming apparatus provided with several optical scanners.例文帳に追加
複数の光走査装置を備えた画像形成装置において、取り付け板の撓みを少なくして、光ビームの照射位置のずれを少なくすることの可能な画像形成装置を得る。 - 特許庁
To provide an optical beam scanner or the like with which an incident angle of optical beams to a rotary polygon mirror is made larger without reducing the number of deflection surfaces of the rotary polygon mirror.例文帳に追加
回転多面鏡の偏向面数を減らすことなく、その回転多面鏡への光ビームの入射角度を大きくすることが可能な光ビーム走査装置等を提供する。 - 特許庁
The deflection mirrors for beam paths associated with lateral image areas are tilted so that an image distortion caused by central projection may be compensated for in the lateral image areas.例文帳に追加
側方画像領域と関連付けられるビーム経路における偏向ミラーは、中心射影によって引き起こされる画像歪みが側方画像領域で補償されるように傾けられる。 - 特許庁
When a zoom ratio is large, the device recaptures an image once in the range of a beam deflection resolution, and performs a pixel by pixel linear interpolation on it being regarded as an original image, thereby an image with a high-zoom ratio can be obtained.例文帳に追加
ズーム率が大きい場合には、ビーム偏向分解能の範囲内で一度画像の再取得を実施し、それを原画像として画素補間を行い、高いズーム率の画像を得る。 - 特許庁
To provide a deflection unit of an electrically-charged particle beam which can also reduce an external noise without lowering the amplification factor of an operational amplifier and which can, thereby, attain further low noise reduction by this.例文帳に追加
演算増幅器の増幅率を下げることなく外来ノイズをも低減でき、これによりさらなる低ノイズ化を図ることができる荷電粒子ビームの偏向ユニットを提供する。 - 特許庁
To provide a radiographic apparatus, enabling an operator to obtain a desired radiographic fluoroscopic image by making the operator sense relative deflection between a detector and a radial beam.例文帳に追加
検出器と放射線ビームの相対的なズレを術者に感知させることで、術者が所望の放射線透視像を取得することができる放射線撮影装置を提供する。 - 特許庁
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