「Etching-and-Stripping」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide improved techniques for metallic etching and stripping remaining photoresist and residual sidewall passivation.例文帳に追加

金属エッチングと、残存フォトレジスト及び残留側壁パッシベーションの剥離のための改良された技術を提供する。 - 特許庁

To enhance productivity and flexural strength of a device by eliminating the need for stripping a resist film in dicing by etching.例文帳に追加

エッチングによるダイシングにおいて、レジスト膜の剥離を不要とし、生産性を向上させると共に、デバイスの抗折強度を向上させる。 - 特許庁

To provide a recycling method that is capable of continuously and efficiently stripping nickel from a nickel-plated copper or copper alloy scrap without using any expensive, short-life stripping solution and without conducting etching after stripping, so as to use the nickel-stripped copper or copper alloy scrap as a material for producing copper or copper alloy, and capable of solving the problem of a waste treatment of the stripping solution.例文帳に追加

高価で寿命の短い剥離液を使用せず、剥離後のエッチングもすることなく、連続して効率良く、ニッケルめっきが施された銅又は銅合金屑からニッケルを剥離して、ニッケルめっきが剥離された銅又は銅合金屑を銅又は銅合金の製造用原料として使用し、しかも剥離液の廃液処理の問題も解消したリサイクル方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist stripping liquid that can effectively remove a residue of a photoresist film and an etching residue on a substrate having a metal layer containing tantalum as at least a conductive metal film formed thereon, and to provide a substrate treatment method using the photoresist stripping liquid.例文帳に追加

少なくとも導電性金属膜としてタンタルを含む金属層が形成された基板上のフォトレジスト膜の残留物及びエッチング残渣物を効果的に除去することが可能なフォトレジスト用剥離液、及びこれを用いた基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

The thin-film forming zones 11 are composed of a cleaning process 4 and a thin-film forming process 5, the exposure zone 12 is composed of a resist coating process 6, an exposure process 7, and a development process 8, and the etching zones 13 are composed of an etching process 9 and a resist stripping process 10 respectively.例文帳に追加

薄膜形成ゾーン11は洗浄工程４及び薄膜形成工程５で、露光ゾーン12はレジスト塗布工程６、露光工程７及び現像工程８で、エッチングゾーン13はエッチング工程９及びレジスト剥離工程10でそれぞれ構成されている。 - 特許庁

This prevents stripping between the stiffener sheet 9 and the elongate substrate 1, and in turn, prevents etching solution and developing solution from entraining in a gap therebetween.例文帳に追加

これによって、補強シート９と長尺基材１との間で剥離することを防止して、それらの間にエッチング液や現像液などが浸入することを防止する。 - 特許庁

To provide a board-connection tape by which, when etching is performed while connecting a plurality of printed boards and transferring them, separation of the boards can be prevented until a resist-stripping step is reached and to remove the phenomenon of etching nonuniformity in a transfer direction.例文帳に追加

複数のプリント基板を連結して搬送しながらエッチングする際に、レジスト除去工程に入るまで基板の分離が起きない基板接続用テープを提供し、搬送方向のエッチング不均一現象を解消することを課題とする。 - 特許庁

To provide a mask blank and a photomask suitable for a wet process in a large mask for an FPD (such as a resist stripping method, an etching method and a cleaning method).例文帳に追加

ＦＰＤ用大型マスクにおけるウエットプロセス（レジスト剥離方法やエッチング方法、洗浄方法等）に適したマスクブランク及びフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition having particularly excellent high resolution, high adhesion and plating solution resistance as a resist material of an etching resist, a plating resist or the like and excellent also in resist stripping property.例文帳に追加

エッチングレジスト又はめっきレジスト等のレジスト材料として特に優れた高解像性と高密着性及びめっき液耐性を有し、更にレジスト剥離性にも優れた光重合性樹脂組成物を提供する事。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition having high resolution, high adhesion, and resist stripping property as a resist material of an etching resist or a plating resist and excellent also in dispersion stability in a developer.例文帳に追加

エッチングレジスト又はめっきレジスト等のレジスト材料として特に高解像性と高密着性及びレジスト剥離性を有し、更に現像液中での分散安定性にも優れた光重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

By using the above composition, not only a photoresist and a fine etching residue can be effectively removed but damages on a metal wire exposed upon stripping the photoresist can be minimized.例文帳に追加

フォトレジスト及び微細エッチング残留物を効果的に除去しうるだけでなく、フォトレジストの除去時に露出された金属配線の損傷を最小化することができる。 - 特許庁

Then, a 1st patterned thin film 105 is formed by selectively etching the stripping film 103 and the 1st film to be patterned using the mask 104.例文帳に追加

次に、マスク１０４を用いて剥離膜１０３および第１の被パターニング膜を選択的にエッチングして第１のパターン化薄膜１０５を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method, in which a semiconductor wafer after etching by using a halogen-containing etchant is subjected to treatment of passivation and stripping in a short time.例文帳に追加

ハロゲン含有エッチャントを用いたエッチング後の半導体ウェハに短時間でパシベーション及びストリッピングの処理を行なうことが出来る基板処理方法を提供する。 - 特許庁

After post treatment, the object is carried in a resist stripping-off section 33 and the resist pattern in stripped off by performing wet-etching by using a resist stripper containing amine.例文帳に追加

次に、対象物をレジスト剥離部３３内に搬入し、アミンを含有するレジスト剥離液を用いてウェットエッチングすることにより、レジストパターンを剥離する。 - 特許庁

To provide an etching-durable photosensitive resin composition which can be exposed for patterning with a small quantity of exposure light, which prevents misalignment of the pattern, which has excellent stripping property without leaving an unnecessary resin, and which can prevents a metal plate from rust.例文帳に追加

少ない露光量でパターン露光ができ、パターンの位置ズレを防止でき、剥離性に優れていて、不安な樹脂残りがなく、金属板のサビを防止することができる耐エッチング性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a remover for multistage processing which safely and efficiently removes an etching residue in a short time that is formed in the forming process of a semiconductor multi-layer wiring structure and a display panel such as a liquid crystal panel, and to provide a stripping method using the remover.例文帳に追加

半導体多層配線構造や液晶パネルなどの表示パネルの配線構造形成工程において形成されるエッチング残渣物を安全に、かつ短時間に効率的に除去することのできる多段階処理用剥離液およびこれを用いた剥離方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus which utilizes plasma and is adaptable to plasma etching, physical or chemical vapor deposition, photoresist stripping and the like to be used for semiconductor wafers, flat-panel displays, printed circuit boards, and a variety of thin-film work processes.例文帳に追加

半導体ウェーハ、平板画面、印刷回路基板及び多様な薄膜加工工程で使用されるプラズマエッチングと物理的または化学的蒸気蒸着法、フォトレジストストリッピング等に適用されるプラズマを利用した半導体製造装置を提供する 。 - 特許庁

To provide a washing method of a coverslip with a spacer which prevents the stripping of a spacer and the formation of adhesive residue and which is capable of removing the residue at the time of dry etching and the environmental foreign matter.例文帳に追加

固体撮像装置に組み込まれるスペーサ付カバーガラスを洗浄するにあたり、スペーサの剥がれ、接着剤残りの形成を防ぎ、ドライエッチング時の残渣、環境異物を除去することのできるスペーサ付カバーガラスの洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed wiring board by the electrophotographic process includes the steps of using a liquid developer made of resin particles by positive type photosensitive polymer, and performing overall surface light emitting substantially immediately before an etching process or/and a resist stripping process.例文帳に追加

ポジ型の感光性高分子による樹脂粒子から成る液体現像剤を使用し、エッチング処理または／及びレジスト剥離処理の略直前に全面光照射を行う電子写真法によるプリント配線板の製造方法によって達成される。 - 特許庁

The circumferential edge part 1A has a numerical aperture smaller than that at the central region 1B and since pattern etching is carried out to increase the metal surface, high conduction stability is ensured when an electrode is led out and stripping of the metal thin film is reduced because of high adhesive properties.例文帳に追加

この周縁部１Ａは、中央領域１Ｂよりも開口率が小さく、金属面が多くなるようにパターンエッチングされているため、電極引き出しのための導通安定性が高く、また、接着性も良好で金属薄膜の剥離の問題も低減される。 - 特許庁

Further, in this patterning method for the insulating layer, by simplifying a conventional usual lithographic process, an etching process and a stripping process, the processes are simplified, process cost is reduced and process time is shortened.例文帳に追加

また、本発明による絶縁層のパターニング方法は、従来の通常的なリソグラフィ工程、エッチング工程及びストリッピング工程を単純化することによって、工程の単純化、工程コストの低減及び時間短縮の効果をもたらす。 - 特許庁

To provide an insulating material for printed wiring board having satisficing small surface roughness wherein the surface is obtained by oxidative etching of the resin layer, even when the resin contains much filler, and free from reduction of adhesiveness (stripping strength) between electroless plating membrane and the surface.例文帳に追加

フィラーの含有量が多くても、触刻酸化されて得られる樹脂層上の粗化面の表面粗度が十分小さく、さらに、無電解メッキ膜との密着性（剥離強度）の低下のないプリント配線基板用の絶縁材料を提供すること - 特許庁

To provide a resist stripping solution composition capable of thoroughly removing resist residue which remains after dry etching or ashing in a step for wiring a semiconductor device such as IC or LSI or a liquid crystal panel element at a low temperature in a short period of time and less liable to affect a low dielectric constant film.例文帳に追加

ＩＣやＬＳＩ等の半導体素子や液晶パネル素子の配線工程におけるドライエッチング、アッシング後に残存するレジスト残渣を低温、短時間で完全に除去でき、低誘電率膜への影響の少ないレジスト用剥離液組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition and a photosensitive resin laminate which yields no residue by development, exhibits high sensitivity and high resolution, has high adhesiveness to a substrate and excellent etching resistance, is developable with a diluted alkali aqueous solution, and produces fine chips of stripped material in a stripping process with the alkali aqueous solution.例文帳に追加

現像残りがなく高感度、高解像度を有し、基板に対する密着性が良好で、かつ耐エッチング性に優れ、さらに希アルカリ水溶液を用いて現像可能で、アルカリ水溶液による剥離において剥離片形状が細片となる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is thoroughly developed, has high sensitivity, high resolution, good adhesion to a substrate and excellent etching resistance, can be developed with a dilute aqueous alkali solution and makes stripped pieces small in stripping with an aqueous alkali solution and to provide a photosensitive resin laminate and a method for producing the same.例文帳に追加

現像残りがなく高感度、高解像度を有し、基板に対する密着性が良好で、かつ耐エッチング性に優れ、さらに希アルカリ水溶液を用いて現像可能で、アルカリ水溶液による剥離において剥離片形状が細片となる感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic device cleaning method and electronic device cleaning system wherein, in a process for stripping and removing residues by etching, the residues floating on performing a foreign matter removing liquid discharge step is prevented from being stuck on the inner wall surface of a treating tank to have no effect on a material to be cleaned and treated in the next batch.例文帳に追加

本発明は、エッチングにより残渣物を剥離除去する工程で異物除去液排出ステップの実行時に浮遊している残渣物の処理槽の内壁面への付着を回避し、次バッチで処理する被洗浄物に影響を及ぼさないようにできる電子装置洗浄方法および電子装置洗浄システムを得る。 - 特許庁

The method of manufacturing an optical fiber probe includes steps of: providing an optical fiber having a coaxial core part and a protective layer; exposing the core part by stripping the protective layer of the optical fiber end; forming a probing end part by etching after immersing the exposed core part in an acid solution; and the stage of forming a metallic layer on the surface of the probing end.例文帳に追加

本発明に係る光ファイバー探針の製造方法は、同軸の芯部及び保護層を有する光ファイバーを提供する段階と、前記光ファイバーの一端の前記保護層を除去して、前記芯部を露出させる段階と、前記露出の芯部を酸性溶液に浸漬させてエッチングして、探測端部を形成する段階と、前記探測端部の表面に金属層を形成する段階と、を含む。 - 特許庁

To provide a photoresist stripper capable of easily removing a photoresist layer formed on an inorganic substrate, photoresist residue and dust generated in etching in a process for manufacturing various liquid crystal displays or semiconductor devices without corroding various semiconductor layer materials, electrically conductive materials or insulating film materials and to provide a method for stripping a photoresist.例文帳に追加

各種液晶表示素子や半導体素子の製造工程において、無機質基体上に形成されたフォトレジスト層、フォトレジスト残渣物およびエッチング時に発生するダスト等を容易に剥離することができ、しかもその際に、使用される各種半導体層材料、導電性材料あるいは絶縁膜材料等を腐食する恐れのないフォトレジスト剥離剤およびフォトレジスト剥離方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist stripping liquid composition with which a resist residue remaining after dry etching or ashing in a wiring step of a semiconductor device such as an IC and an LSI or a liquid crystal panel device can be completely removed at a low temperature in a short time and influences with time are less such as increase in corrosion in an oxide film or a metal wiring material.例文帳に追加

ＩＣやＬＳＩ等の半導体素子や液晶パネル素子の配線工程におけるドライエッチング、アッシング後に残存するレジスト残渣を低温、短時間で完全に除去でき、酸化膜や金属配線材料への腐食増大などの経時変化による影響の少ないレジスト剥離組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board by an electrophotographic process which not only has easy resist stripping characteristics by including the inner wall of a through hole and/or a non-through hole even if the wiring board is manufactured by the electrophotographic process, but also can realize a high resolution in an etching step as compared with a conventional photoresist material.例文帳に追加

電子写真法によるプリント配線板の製造を行うに際しても、貫通孔または／及び非貫通孔の内壁を含めた容易なレジスト剥離特性を有するだけでなく、従来のフォトレジスト材料よりもエッチング工程における高解像力をも実現することが可能な、電子写真法によるプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁