「Exposure Field」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

As a result, when exposure is made by exposure light having a wavelength of 436nm, the intensity distribution of near-field light in each slit (s) can be made equal.例文帳に追加

これにより、波長４３６ｎｍの露光光で露光を行ったときに、各スリットｓによる近接場光の強度分布を同等にすることができる。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure apparatus which can suppress a change in exposure characteristic as much as possible by eliminating or reducing a magnetic field generated by a deflector.例文帳に追加

偏向器が発生する磁場を無くしたり小さくしたりして、露光特性の変動を小さく抑えることができる電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, reference writing exposure time (writing exposure) based on film sensitivity is derived, and the amount of correction is obtained from the BV value according to correction characteristics previously decided from the relation between the luminance of the field to be photographed and the exposure value so as to correct the reference writing exposure time (wiring exposure).例文帳に追加

さらにフィルム感度に基づいた基ものね準書込み露光時間（書込み露光量）を求め、被写界輝度と露出値の関係から予め定められた補正特性に従ってＢＶ値から補正量を求め、基準書込み露光時間（書込み露光量）を補正する。 - 特許庁

To reduce the asymmetric aberration caused by the mutual interference of magnetic-field lenses present in a charged-particle-beam exposure apparatus.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置における磁界レンズの相互干渉による非対称収差を低減する。 - 特許庁

To manufacture a field emission cold-cathode device entirely in self-alignment without the use of an exposure mask.例文帳に追加

露光マスクを使用することなく，すべてセルフアラインで，電界放出型冷陰極装置を製造する。 - 特許庁

The method for regulating the gene expression includes carrying out exposure of the hematopoietic stem cell to a steady magnetic field.例文帳に追加

造血幹細胞に定常磁場曝露を行うことを特徴とする遺伝子発現の制御方法。 - 特許庁

A mask AF measuring instrument 6 has points of measurement matched to the one-shot exposure field 11 as shown in th figure.例文帳に追加

マスクＡＦ測定装置６は、図に示すような一括露光フィールド１１に合わせた測定点を持つ。 - 特許庁

In the imaging apparatus, the images are picked up under the same exposure condition separately twice for the first half part and the second half part within a field.例文帳に追加

１フィールド内の前半部と後半部の２回に分けて同一露光条件で撮像する。 - 特許庁

To materialize dramatic high-density recording by combining near-field exposure and an inorganic resist process together.例文帳に追加

ニアフィールド露光と無機レジストプロセスを組み合わせて飛躍的な高密度記録を実現できるようにする。 - 特許庁

PHOTOMASK FOR NEAR FIELD EXPOSURE, METHOD OF FORMING PATTERN BY USING THE PHOTOMASK, AND DEVICE FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

近接場光露光用のフォトマスク、該フォトマスクを用いたパターン作製方法およびパターン作製装置 - 特許庁

SHUTTER CALIBRATION METHOD AND APPARATUS FOR DIGITAL IMAGE PICKUP DEVICE USING MULTIPLE TIMES OF EXPOSURE TO ONE FIELD例文帳に追加

１つのフィールドの複数回の露光を用いるデジタル撮像装置のシャッター較正方法及び装置 - 特許庁

METHOD FOR BORING MICRO APERTURE, AND PROCESS FOR MAKING PROXIMITY FIELD EXPOSURE MASK EMPLOYING THAT METHOD例文帳に追加

微小開口の加工方法、該微小開口の加工方法を用いた近接場露光マスクの製造方法 - 特許庁

In positive electric field driving, VopB is applied to the individual electrodes, and -VbiasR, -VbiasG, and 0V are applied to the common electrode in R exposure, G exposure, and B exposure respectively.例文帳に追加

正電界駆動時において、個別電極にはＶｏｐＢが印加され、共通電極には、Ｒ露光時には−ＶｂｉａｓＲ、Ｇ露光時には−ＶｂｉａｓＧ、Ｂ露光時には０Ｖが印加される。 - 特許庁

During approach run of a substrate W for synchronous movement between a mask and the substrate W, the emission of exposure light from a light source 1 is started, before the start of exposure at one exposure field on the substrate W.例文帳に追加

マスクと基板（Ｗ）とを同期して移動するための基板（Ｗ）の助走中であって、基板（Ｗ）上の一つの露光フィールドの露光開始前に、光源（１）から露光光の発光を開始する。 - 特許庁

To provide an exposure method and equipment, an exposure mask, a manufacturing method of devices or the like, wherein exposure is available with higher resolution with no overlaying of near-field light escaped from the adjacent apertures of a mask in exposing with the near-field mask.例文帳に追加

近接場マスクによる露光に際して、マスクの隣接する開口から滲み出る近接場光同士が重なり合うことなく、高い分解能で露光することが可能となる露光方法及び装置、露光用マスク、デバイスの製造方法、等を提供する。 - 特許庁

METHOD OF ALLOCATING PUPIL FACET OF PUPIL FACET MIRROR OF ILLUMINATION OPTICAL UNIT OF PROJECTION EXPOSURE DEVICE TO FIELD FACET OF FIELD FACET MIRROR OF ILLUMINATION OPTICAL UNIT例文帳に追加

投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーの瞳ファセットを照明光学ユニットの視野ファセットミラーの視野ファセットに割り当てる方法 - 特許庁

The photometric circuit 132 in the optical view finder measures the brightness of a field including the photographing object and obtains an amount of normal exposure for taking a picture of that field.例文帳に追加

光学ファインダ内の測光回路１３２は、被写体を含む被写界を測光して、当該被写界の撮影においての通常露光量を取得する。 - 特許庁

NEAR-FIELD LIGHT SOURCE DEVICE, OPTICAL HEAD HAVING THE SAME, OPTICAL DEVICE, EXPOSURE APPARATUS, AND MICROSCOPE APPARATUS例文帳に追加

近接場光源装置、該近接場光源装置を有する光ヘッド、光学装置、露光装置、顕微鏡装置 - 特許庁

CORROSION ENVIRONMENT ASSESSMENT METHOD AND CORROSION MITIGATION METHOD IN RADIATION EXPOSURE FIELD例文帳に追加

放射線照射場における腐食環境評価方法及び放射線照射場における腐食緩和方法 - 特許庁

To correct curvature of the field without providing an fθ correction optical system in a scanning exposure apparatus.例文帳に追加

走査露光装置において、ｆθ補正光学系を備えることなく、像面湾曲を補正できるようにする。 - 特許庁

To appropriately determine a high-luminance part in an object field, and to appropriately calculate the exposure of a main object.例文帳に追加

被写界内の高輝度部分を適切に判断して、主要被写体に対して適正な露出演算を行なう。 - 特許庁

As a result, until the exposure of the recording field is finished, the digital camera continues to display images.例文帳に追加

この結果、記録用フィールドの露光が終了するまで、デジタルカメラにおいては画像表示が行われることになる。 - 特許庁

To provide a reticle for measuring effective σ which accurately and easily measures variation in σ within an exposure field.例文帳に追加

露光フィールド内のσバラツキを正確かつ簡便に測定する実効σ計測用レチクルを提供する。 - 特許庁

In this exposure method, a reticle 13 having a larger pattern area than the object side visual field of the projection optical system 16 is used.例文帳に追加

投影光学系（１６）の物体側視野よりも大きいパターン領域を有するレチクル（１３）を用いる。 - 特許庁

To perform reliable exposure of a photoresist layer with near-field light without thermally damaging the photoresist layer.例文帳に追加

フォトレジスト層に対して熱的ダメージを与えることがなく、近接場光を用いて確実な露光処理を行う。 - 特許庁

The electron microscope and the electron beam exposure apparatus are provided with this field-emission electron gun.例文帳に追加

一実施の形態の電子顕微鏡、及び電子ビーム露光機は、この電界放出型電子銃を備えている。 - 特許庁

The phase of exposure light L3 transmitting the halftone film 4 and a mesa portion 3B is inverted with respect to the phase of the exposure light L2 transmitting the adjacent field portion 2.例文帳に追加

このハーフトーン膜４およびメサ部３Ｂを透過した露光光Ｌ３の位相は、それに隣接するフィールド部２を透過した露光光Ｌ２の位相に対して反転する。 - 特許庁

To provide a near-field exposure mask, a resist pattern formation method, and a device manufacturing method capable of securing close contact between a mask and an exposure target over a large area.例文帳に追加

大面積にわたってマスクと被露光物との密着を確保することのできる近接場露光用マスク、レジストパターン形成方法、デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

A scheduled value of X-ray exposure per component is calculated from mounting position data of surface mounted component data and the X-ray exposure value of each field to be irradiated with the X-ray.例文帳に追加

実装部品データの実装位置データとＸ線照射野ごとのＸ線照射線量値から、部品単位のＸ線照射予定線量値を算出する。 - 特許庁

When the field-of-view of the PTZ camera 40 is changed based on information SEb, the exposure correction information generation part of the wide field camera 30 extracts the video with the field-of-view changed based on the information SEb, and generates exposure correction information RE with the extracted video defined as proper exposure, and supplies it to the PTZ camera 40.例文帳に追加

情報ＳＥbに基づいてＰＴＺカメラ４０の視野変更が行われるとき、広視野カメラ３０の露出補正情報生成部は、情報ＳＥbに基づき視野変更後の視野の映像を抽出して、抽出した映像を適正露出とする露出補正情報ＲＥを生成してＰＴＺカメラ４０に供給する。 - 特許庁

To provide an optical device which can realize excellent energy transmission characteristics such as a reflectance characteristic and a transmissivity characteristic in the field of view or a whole illumination field against a light of a wide wavelength region, an exposure device provided with this optical device, and an exposure method.例文帳に追加

広い波長域の光に対して視野または照野全体において良好なエネルギー伝達特性（反射率特性、透過率特性）を実現できる光学装置、これを備えた露光装置、および露光方法を提供すること。 - 特許庁

Additionally, the depth of field becomes the deepest by making an F-number large in an area with the long exposure time, and the depth of field becomes shallow gradually by making the F-number small as the exposure time becomes short.例文帳に追加

また、露光時間の長い領域においてＦ値を大きくすることにより被写界深度が最も深くなり、露光時間が短くなるに従ってＦ値を徐々に小さくすることにより、被写界深度が徐々に浅くなる。 - 特許庁

An LED light source emits light over an exposure period TL including the end part of an odd number field and the starting part of an even number field, and the light is used as the illuminating light of the electronic endoscope.例文帳に追加

ＬＥＤ光源を奇数フィールドの終了部と、偶数フィールドの開始部とを含む露光期間Ｔ_Lに渡り発光し、電子内視鏡の照明光として用いる。 - 特許庁

Distortion of the irradiation pattern is matched with the distortion of the irradiation object pattern, to perform overlay exposure with higher accuracy by respectively controlling the magnetic field of coil 20 or electric field of electrode.例文帳に追加

コイル２０の磁界又は電極の電界を各々制御することにより照射パターンの歪みを被照射パターンの歪みに合わせ、高い精度で重ね合わせ露光する。 - 特許庁

To provide a method and a device for charged beam exposure together with a secondary electron emitting mask which are hard to be affected by the fluctuation in magnetic field or electric field within a device or external disturbance.例文帳に追加

装置内の磁場変動や電場変動や外乱の影響を受けにくい荷電ビーム露光装置、荷電ビーム露光方法及び２次電子放出型マスクを提供する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic field sensor, capable of measuring the intensity of an electromagnetic field generated in an electronic apparatus or an electronic circuit, due to externally irradiated electromagnetic wave exposure, without being affected by the electromagnetic field irradiated.例文帳に追加

外部から照射される電磁波暴露により電子機器または電子回路に発生する電磁界の強度を照射される電磁界の影響を受けることなく測定できる電磁界センサを提供する - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ENHANCED EVANESCENT FIELD EXPOSURE IN OPTICAL FIBER RESONATOR FOR SPECTROSCOPIC MEASUREMENT OF TRACE SPECIES例文帳に追加

微量種の分光測定のための光ファイバ共振器における拡張されたエバネッセントフィールド露出の方法と装置 - 特許庁

To provide a radiation detector for microwave to receive unintended field exposure in an insufflated abdomen.例文帳に追加

気体で膨らませた腹部内の意図しない場の曝露を受信するためにマイクロ波用放射線検出器を提供する。 - 特許庁

A substrate 200 is moved across the exposure field, while the focal depth of the image system 100 to the substrate is changed.例文帳に追加

基板２１０が画像システム１００の基板に対する焦点深さを変化させながら露光フィールドに亘って移動する。 - 特許庁

The position of the first alignment mark 53 is measured previously outside the exposure system, and the distortion data are obtained for each sub-field.例文帳に追加

予め露光装置外で上記第１のアライメントマーク５３の位置を測定し、サブフィールド毎の歪データを得ておく。 - 特許庁

To appropriately set exposure in autobracketing photographing based on the luminance circumstances of field and film latitude.例文帳に追加

被写界の輝度状況およびフィルムラチチュードに基づいて、オートブラケティング撮影における露出量を適切に設定する。 - 特許庁

To provide an aligner and an exposure method capable of performing alignment with no visual field obstructed by a photomask.例文帳に追加

フォトマスクに視野を妨げられることなくアライメントを行なうことができる露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

In an exposure means, an over field scanner method where exposure is carried out by a rotating polygonal mirror reflecting with a narrower surface than width of incident light is adapted and an electrostatic latent image is formed by back area exposure to a light part of the image.例文帳に追加

露光手段は、入射光束幅に対して狭い面で反射する回転多面鏡により露光するオーバーフィルドスキャナ方式によるものであり、かつ、画像明部に露光するバックエリア露光により静電潜像を形成する。 - 特許庁

To provide a mask for near field exposure that is hardly fractured upon handling for transportation, conveyance, installation or the like of the mask for near field exposure, that facilitates adhesion and peeling between a light shielding film pattern of the mask and a resist in a large area, and that results in a simple device configuration.例文帳に追加

近接場露光用マスクの運搬、搬送、設置等のハンドリング時において壊れにくく、大面積にわたってマスクの遮光膜パターンとレジストとの密着剥離が容易で、装置構成が簡便となる近接場露光用マスクを提供する。 - 特許庁

Enhancement processing by a spatial processing 105A and a color tone processing 106A or the like is conducted independently of the processing above, an exposure field combination processing 107 displays an entire image after enhancement processing from the exposure field after the processing above on a display monitor 108.例文帳に追加

これらに独立に、空間処理１０５Ａ等、色調処理１０６Ａ等の強調処理を行い、処理後の露光フィールドから、露光フィールド組合せ処理１０７により、強調処理後の全体画像をディスプレイモニタ１０８に表示する。 - 特許庁