「Exposure Field」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

A film surface 64 is curved in the longitudinal direction of the exposure screen in order to correct the field curvature of the photographic lens 60.例文帳に追加

フイルム面６４は、撮影レンズ６０の像面湾曲を補正するために露光画面の長手方向に湾曲されている。 - 特許庁

In this case, the exposure of the background subject positioned at a distance where flash light does not substantially contribute the increase of the image face exposure is lowered as the field luminance is lowered, but, the exposure capable of depicting the background is obtained.例文帳に追加

このとき、閃光光が実質的に像面露光量の増加に寄与しないような距離に位置する背景の被写体に対する露光量は、被写界輝度が低下するにつれて低下するが、背景の描写が可能な程度の露光量が得られる。 - 特許庁

The photometric means includes a 1st photometic means that conducts exposure under plural exposure conditions during plural vertical synchronizing period and selects one luminance among a plurality of sets of the field luminance on the basis of the picture obtained by exposure and provides an output and conducts exposure control on the basis of the output result of the 1st photometric means.例文帳に追加

測光手段は、複数の垂直同期期間に複数の露出条件で露光を行うと共に、露光によって得られた画像に基づく複数の被写界輝度の中から１つの輝度を選択して出力する第１の測光手段を含み、第１の測光手段の出力結果に基づいて露出制御を行う。 - 特許庁

To obtain a lighting optical device which can avoid adverse effect of field stop on the image formation and aggravation of light exposure distribution when the lighting optical device is applied to exposure equipment employing a reflective original, for example.例文帳に追加

例えば反射型原板を用いる露光装置に適用されたときに、視野絞りによる結像の悪影響および露光量分布の悪化を回避することのできる照明光学装置。 - 特許庁

By using the corrected reticle for exposure, variance in the pattern dimension in the exposure field can be suppressed to the minimum, which improves the yield of semiconductor chips.例文帳に追加

補正が加えられたレチクルを用いて、露光することにより、露光フィールド内のパターン寸法のばらつきを最小限に抑えることができ、半導体チップの歩留まりを向上することができるようになる。 - 特許庁

To obtain proper exposure even in a state where a high-luminance area is dispersed to the entire field such as when photographing sunbeams shining through branches of trees.例文帳に追加

木漏れ日を撮影するときのように、高輝度領域が被写界全体に分散した状態でも適正露光量を得る。 - 特許庁

To provide an electronic camera that can reduce the power consumption and perform a proper exposure operation even when the luminance of field is low.例文帳に追加

消費電力を低く押さえることができ、且つ被写界輝度が低い場合も適正な露光を行える電子カメラを提供する。 - 特許庁

While the reticle is being shifted, a charged particle beam is scanned at almost the right angles with respect to the shifting direction of the reticle, and split projection exposure is carried out for each sub-field 2.例文帳に追加

その際、荷電粒子線のスキャン方向を、実線の矢印で示すように、サブフィールドの各列について同一方向とする。 - 特許庁

This optical device is specially an optical device in a microlithography projection exposure system and has a slit-shaped image field or a rotation asymmetrical illumination.例文帳に追加

特にマイクロリソグラフィの投影露光システムでの光学装置であり、スリット状の影像フィールドまたは回転非対称な照明を持つ。 - 特許庁

An illumination system of a microlithographic exposure apparatus comprises a condenser 601 for transforming a pupil plane 54 into a field plane 62.例文帳に追加

マイクロリソグラフィ露光装置の照明システムは瞳平面５４を視野平面６２に変換するための集光装置６０１を有する。 - 特許庁

To solve a problem that a conventional projection objective appliance for use in microlithography includes a stray light component varying over an exposure visual field.例文帳に追加

マイクロリソグラフィにおける使用のための現在の設計の投影対物器械は、露光視野にわたって変化する迷光成分を有する。 - 特許庁

In this charged particle beam exposure system, a search coil 8 which detects an external magnetic field and a correction coil 9 are provided under an illumination lens 5 as shown in the figure.例文帳に追加

照明レンズ５の下には、外部磁界を検出するサーチコイル８と補正コイル９が図のような位置に設けられている。 - 特許庁

PROBE FOR NEAR FIELD LIGHT, GENERATING METHOD FOR NEAR FIELD LIGHT USING THE PROBE, PROBE HAVING THE PROBE, STORAGE UNIT HAVING THE PROBE, SURFACE OBSERVING UNIT, EXPOSURE UNIT, MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR THE PROBE HAVING THE PROBE FOR THE NEAR FIELD LIGHT例文帳に追加

近接場光用の探針、該探針を用いた近接場光発生方法、該探針を有するプローブ、該プローブを有するストレージ装置、表面観察装置、露光装置、デバイス製造方法、近接場光用の探針を有するプローブの製造方法 - 特許庁

When a shutter is actuated, the exposure of the recording field is started and storing of electric charges (P1) is performed for a prescribed time by the displaying field to display the image P1 as a displayed image G1.例文帳に追加

シャッタ操作が行われると、記録用フィールドの露光を開始するとともに、表示用フィールドで所定時間電荷蓄積（Ｐ１）を行い、その画像Ｐ１を表示画像Ｇ１として表示させる。 - 特許庁

To provide a system for controlling an implantable drug delivery device susceptible to malfunctioning during exposure to at least one of the magnetic field and the radio frequency field, and a method for operating the same.例文帳に追加

磁界又は高周波場のうち少なくとも一方に対する暴露中に誤動作を生じやすい植込み可能な薬剤投与器具を制御するシステム及びその作動方法を提供する。 - 特許庁

The electric charge is generated on the photo-conductive layer 1b by the exposure of the selective exposure means 9, this electric charge is moved by the electric field generated by the electric field applying means 3, the polarization direction of the ferroelectric layer 1c on the exposing section is inverted, and the polarization inverted latent image is formed.例文帳に追加

選択露光手段９の露光により光導電層１ｂに電荷が発生し、この電荷が電界印加手段３の発生する電界により移動することにより、露光部分の強誘電体層１ｃの分極方向が反転して分極反転潜像が形成される。 - 特許庁

The electrostatic charge is generated on the photoreceptor 3 by the exposure of the select exposure means 9, and as a result of the electric field generated by the electric field applying means 10, the electrostatic charge is shifted, the polarizing orienting direction of the ferroelectric substance layer 1b is partially inverted and the polarize inverted latent image is formed.例文帳に追加

選択露光手段９の露光により感光体３に電荷が発生し、この電荷が電界印加手段１０の発生する電界により移動することにより、強誘電体層１ｂの分極方向が部分的に反転して分極反転潜像が形成される。 - 特許庁

A multiple addition + memory portion 23 consists of a multiple addition portion 101 and a field memory 102, an inputted short-time exposure signal and a signal already stored in the field memory 102 are added in the multiple addition portion 101, and it is output as a false middle-time exposure signal.例文帳に追加

多重加算＋メモリ部２３は、多重加算部１０１とフィールドメモリ１０２とで構成され、入力された短時間露光信号と既にフィールドメモリ１０２に貯えられていた信号とを多重加算部１０１で加算し、疑似的な中時間露光信号として出力する。 - 特許庁

A method for deciding exposure setting for a target field on a substrate in a lithography exposure process includes to provide calibration data by deciding a location of a calibration field in a first direction in a plurality of calibration locations in a second direction and a third direction in relation to the calibration field.例文帳に追加

発明は、リソグラフィ露光プロセスにおける基板上のターゲットフィールドのための露光設定を決定するための方法であって、キャリブレーションフィールドの位置に対する第２および第３の方向の複数のキャリブレーション位置における第１の方向のキャリブレーションフィールドの位置を決定することによってキャリブレーションデータを提供することを含む方法に関する。 - 特許庁

To provide an illumination optical system, an illumination system, and a projection exposure system for projection lithography that arrange a body visual field of an imaging optical system.例文帳に追加

結像光学系の物体視野を配置することができる投影リソグラフィ用の照明光学系、照明系、投影露光系、を提供する。 - 特許庁

In other words, carrying operation is stopped only at an undesirable generation timing of mechanical vibration/disturbance magnetic field of an aligner in pattern exposure, for example.例文帳に追加

すなわち、パターン露光等の、露光装置の機械振動・外乱磁場の発生が好ましくないタイミングのみにおいて、搬送動作を停止させる。 - 特許庁

To provide the photometric device of a camera capable of obtaining more proper exposure by taking lightness of a field and the level of a high-luminance part into consideration.例文帳に追加

被写界の明るさや高輝度部分の大きさを考慮してより適正な露出を得ることのできるカメラの測光装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY NEAR-FIELD EXPOSURE, A METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE USING METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

近接場露光によるレジストパターンの形成方法、及び該レジストパターンの形成方法を用いた基板の加工方法、デバイスの作製方法 - 特許庁

Thus, the multi-element magnetic field generator 52 is effectively protected from the deterioration often associated with prolonged exposure to high order magnetic fields.例文帳に追加

従って、多素子磁場発生器（５２）は、高位の磁場に長期間曝されることに関連する場合が多い劣化に対して効果的に保護される。 - 特許庁

This method for manufacturing an integrated circuit is provided with an image system 100, mask 130, and energy source 110 for generating an exposure field.例文帳に追加

本発明の集積回路の製造方法は、画像システム１００とマスク１３０と露光フィールドを生成するエネルギソース１１０とを有する。 - 特許庁

To rapidly and easily specify a fuel assembly directly leaking at a field and to reduce exposure to a worker.例文帳に追加

現場で直接漏洩している燃料集合体を迅速、かつ容易に特定することができ、しかも作業者の被曝を低減することにある。 - 特許庁

The view field range of a finder optical system for a film unit with lens is set so as to be approximately 12% (area ratio) of a exposure range 44 in a photographic film 23.例文帳に追加

レンズ付きフイルムユニットのファインダ光学系の視野範囲を写真フイルム２３の露光範囲４４のほぼ１２％（面積比）に設定する。 - 特許庁

The focal depth is changed according to sine waveform, and the cycle is made equal to a time required for allowing a certain point of the substrate to pass through the exposure field.例文帳に追加

焦点深さはサイン波形により変化させ、その周期は基板のある点が露光フィールドを通過するのに要する時間に等しい。 - 特許庁

An AE control unit 108 automatically sets the ISO sensitivity based on a photometry result, and controls an exposure by determining the exposure value based on both a center within a field and photometric area of other than the center.例文帳に追加

AE制御部108が、ISO感度を測光結果に基づいて自動的に設定し、被写界内の中央部および中央部以外の測光領域の両方に基づいて、露出値を決定して露出を制御する。 - 特許庁

The distribution of variance in a pattern dimension in an exposure field of an exposure device is preliminarily measured, and a pattern dimension is corrected so as to compensate the variance in the pattern dimension upon manufacturing a reticle.例文帳に追加

露光装置の露光フィールド内におけるパターン寸法のばらつきの分布を予め計測しておき、レチクルを製造するときに、そのパターン寸法のばらつきを相殺するようにパターン寸法に補正を加える。 - 特許庁

To provide a deflector used in a charged particle beam exposure apparatus hard to be electrified and capable of shielding a leaked electric field caused by electrification to minimize an influence, the charged particle beam exposure apparatus, and a device manufacturing method using the exposure apparatus.例文帳に追加

帯電が起こりにくく、且つ、帯電による漏れ電界を遮蔽し、影響を最小限にとどめることができる荷電粒子線露光装置に使用される偏向器及びその荷電粒子線露光装置及びその荷電粒子線露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

The exposure field is changed when the overlapped exposure areas are scanned and exposed, so that the distribution of the exposed amount can be virtually uniform over the overlapped exposed area where a plurality of unit exposure area is partly overlapped and over the non-overlapped area other than the overlapped area.例文帳に追加

また、複数の単位露光領域が一部重複した重複露光領域と該重複露光領域以外の非重複露光領域とに亘って露光量分布がほぼ均一となるように、重複露光領域を走査露光するときに露光視野を変化させる。 - 特許庁

The microscope device is equipped with a microscope for transmission type bright-field observation, an image pickup means which picks up and obtains an image formed through the microscope, and an image pickup control means which makes the image pickup means pick up images with two kinds of exposure, i.e., proper exposure for a sample and specific exposure higher than the proper exposure.例文帳に追加

透過型明視野観察用の顕微鏡と、前記顕微鏡が形成した像を撮像して画像を取得する撮像手段と、前記検体に対する適正露出、及びその適正露出よりも高い所定露出の２種類の露出の下で前記撮像手段に対し前記撮像を行わせる撮像制御手段とを備える。 - 特許庁

Or, the potential of the conductive mask for near field exposure is controlled to avoid local concentration of static electricity in the mask for near field due to static electricity.例文帳に追加

また、露光装置の構成としては、導電近接場露光用マスクの電位を制御することにより近接場露光用マスクへの部分的な静電気の集中を回避し、マスクの静電気による破壊を防止する。 - 特許庁

To provide a beam adjusting mask for a charged-particle beam exposure apparatus wherein a mark for adjusting a lighting position arranged within the range of the sub-field of an ordinary mask.例文帳に追加

照明位置調整用マークが、通常のマスクのサブフィールドの範囲内に納まる荷電粒子線露光装置用ビーム調整用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner, an exposure method, and a semiconductor device manufacturing method for solving the problem of wring disconnection, and an electric field concentration at a place where the exposed pattern generates misalignment by accurately exposing a pattern to a wafer.例文帳に追加

ウェハにパターンを精度よく露光することができる電子ビーム露光装置、露光方法、及び半導体素子製造方法を提供する。 - 特許庁

To save labor required for changing a visual field size into an appropriate one and avoid excessive exposure to a subject (a patient) and an operator.例文帳に追加

適切な視野サイズへの変更に要する手間を短縮できるようにするとともに被検体（患者）や術者に対する余分な被曝を回避する。 - 特許庁

To achieve a group III-V nitride-based field effect transistor which has a T shaped gate electrode eliminating the need of electron beam exposure.例文帳に追加

製造工程において電子ビーム露光を必要としないＴ字型ゲート電極を有するIII−Ｖ族窒化物系電界効果トランジスタを実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a much more improved image enhancement processing method that can correct an enhancement processing parameter of each exposure field in an entire image.例文帳に追加

全体画像内の各露光フィールドの強調処理パラメータを修正できる、より改良された、画像の強調処理方法を提供することである。 - 特許庁

The time of exposure through the CCD 3 is controlled so as to be a prescribed term shorter than a one-field term and the diaphragm 2 is controlled so that average luminance can become a target value.例文帳に追加

ＣＣＤ３での露光時間を１フィールド期間以下の所定期間となるように制御し、平均輝度が目標値となるように絞り２を制御する。 - 特許庁

To provide a mask for exposing proximate field to bring exposure excellent in resolution, throughput and economicity, its manufacturing method, an aligner and an exposing method.例文帳に追加

解像度、スループット及び経済性に優れた露光をもたらす近接場露光用マスク及びその製造方法、露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing method and apparatus, and radiation image photographing/processing method and apparatus that perform a blackening process on radiation image data obtained using a radiation exposure field aperture so that a whited out area does not remain.例文帳に追加

放射線の照射野絞りを使用して取得した放射線画像データに、白抜け領域を残すことなく黒化処理を施す。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure device which is free from fluctuation of magnetic field on an optical axis even when a magnet track movement type linear motor is used.例文帳に追加

マグネットトラック移動型のリニアモータを使用する場合においても、光軸上の磁場の変動が無い荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner, capable of exposing a mask pattern with light by using proximity field light while preventing the mask pattern from thickening by mixing various shapes.例文帳に追加

近接場光を利用し、様々な形状が混在したマスクパターンのパターン太りを防止して露光する露光方法及び露光装置の提供。 - 特許庁

When a still picture fetch instruction exists at a point t11, an operation such as aperture is controlled based on the information X and exposure is corrected in a field F12.例文帳に追加

時点ｔ11で静止画取り込み指示があるとき、補正情報Ｘに基づき、絞り等の動作を制御し、フィールドＦ12では露出が補正された状態とする。 - 特許庁