INDUCTIVELYを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 331件
Ina first region, the gradient of capacitive power to the inductively coupled source [dPCAP/dPRF] is greater than 0.例文帳に追加
第1領域では、誘導性結合した源にかけられる電力に対する容量性電力のグラディエント[∂P_cap/∂P_RF]は0より大きい。 - 特許庁
To provide a high-frequency inductively coupled plasma emission spectrometric analysis method of high analytical accuracy and high reliability for arsenic-containing solutions.例文帳に追加
砒素を含む溶液の高分析精度、高信頼性の高周波誘導結合プラズマ発光分光分析方法を提供する。 - 特許庁
A plasma treatment apparatus, which has an inductively coupled type of plasma generator 30, is equipped with temperature keeping means 21 and 22, which keep the temperature of the section facing a treatment chamber of the inductively coupled type of plasma generator part 30 at a prescribed temperature or higher.例文帳に追加
誘導結合型プラズマ発生装置30を有するプラズマ処理装置において、プラズマ発生休止時に、誘導結合型プラズマ発生装置部分30の処理室へ面する部分の温度を所定温度以上に維持する温度維持手段21,22を備える。 - 特許庁
In the preferable fluid treatment system, the ballast circuit 103 is inductively coupled to the electromagnetic radiation emitting assembly 14.例文帳に追加
好ましい流体処理システム10においては、安定器回路103は電磁放射線放出アセンブリ14と誘導結合されている。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma reactor having etching rate uniformity improved through strengthening of RF control of an ICP source.例文帳に追加
ICPソースのRF制御の強化を通して、改善されたエッチング速度均一性を有する誘導結合プラズマリアクタを提供する。 - 特許庁
The inductive power outlet 6 includes a primary inductor configured to couple inductively with a secondary inductor wired to an electric load.例文帳に追加
誘導電力コンセント6は、電気負荷に結線された二次誘導子と誘導結合するように構成される一次誘導子を含む。 - 特許庁
In the preferred fluid treatment system 10, the ballast circuit 103 is inductively coupled with the electromagnetic radiation emitting assembly 14.例文帳に追加
好ましい流体処理システム10においては、安定器回路103は電磁放射線放出アセンブリ14と誘導結合されている。 - 特許庁
A secondary magnetic field, based on this induced current couples with inductively one or more receiver windings 124, 126 on the lead head 120.例文帳に追加
この誘導電流に基づく二次磁界は、リードヘッド120上の1以上の受信器巻線124,126に誘導的に結合する。 - 特許庁
In a preferred fluid treatment system 10, the stabilizer circuit 103 is inductively coupled with the electromagnetic radiation emission assembly 14.例文帳に追加
好ましい流体処理システム10においては、安定器回路103は電磁放射線放出アセンブリ14と誘導結合されている。 - 特許庁
To provide a DNA structure usable for the production of a transgenic animal whose osteocyte can be deleted inductively.例文帳に追加
誘導的に骨細胞を欠失させることのできるトランスジェニック動物の製造に用いることのできるDNA構築物の提供。 - 特許庁
To provide an inductively heated fixing device capable of obtaining uniform fixing temperature over the entire fixing roller in the longitudinal direction.例文帳に追加
定着ローラの長手方向全体に渡り、均一な定着温度にすることができる誘導加熱方式の定着装置を提供する。 - 特許庁
This inductively-coupled plasma etching apparatus includes a main body vessel 1 partitioned into an antenna chamber 4 and a treatment chamber 5 by a partition structure 2.例文帳に追加
誘導結合プラズマエッチング装置は、仕切り構造2により、アンテナ室4と処理室5とに区画された本体容器1を含む。 - 特許庁
The cleaning efficiency of chamber (1) is improved, by cleaning the chamber using the inductively-coupled plasma of the cleaning gas.例文帳に追加
フッ素を含むクリーニングガスの誘導結合プラズマを用いてチャンバーをクリーニングすることにより、チャンバー(1)のクリーニング効率が向上する。 - 特許庁
The SiNxOyCz film is formed by using a CVD method in which a raw material gas including organic metals is decomposed using an inductively-coupled plasma (ICP) by applying RF bias to a base material 2 to be film-deposited and applying ICP output to a one-turn coil 6 to generate the inductively-coupled plasma.例文帳に追加
被成膜基材2にRFバイアスを印加し、1ターンのコイル6にICP出力を印加して誘導結合プラズマを発生させ、誘導結合プラズマによって有機金属を含む原料ガスを分解するCVD法を用いることによりSiNxOyCz膜を形成する。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of preventing occurrence of notch as much as possible, when etching a micropattern on a processed substrate.例文帳に追加
処理基板に微細パターンをエッチングする際にノッチの発生を極力防止することができる誘導結合プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
The antenna inductively couples energy from the RF energy source with a treatment gas through the dielectric member to form a plasma state and to treat a substrate.例文帳に追加
アンテナはRF源からのエネルギを、前記誘電体部材を通して処理ガスに誘導結合させ、プラズマ状態にして基板を処理する。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma emission spectrochemical analyzer having a photometric height adjusting means that has a simple structure, is low cost, and is superior in operability.例文帳に追加
構造が簡単で、安価で、操作性に優れた測光高さ調整機構を有する誘導結合プラズマ分光分析装置を提供する。 - 特許庁
POWER SUPPLY BY WIRELESS CONTROL APPARATUS, AND INDUCTIVELY COUPLED BATTERY CHARGER, AND METHOD FOR WIRELESS CONTROL OF THEM例文帳に追加
無線制御装置による電源装置および誘導結合バッテリ・チャージャならびに電源装置および誘導結合バッテリ・チャージャを無線制御する方法 - 特許庁
To provide a method for performing milling and imaging in a focused ion beam (FIB) system employing an inductively coupled plasma ion source.例文帳に追加
誘導結合プラズマ・イオン源を使用した集束イオン・ビーム(FIB)システムにおいてミリングおよび画像化を実行する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma (ICP) mass spectrometer and a mass spectrometry method which can perform mass spectrometry with a high degree of precision by preventing the atmosphere from flowing into a plasma.例文帳に追加
プラズマへの大気の流入を抑止し、高精度で分析できるICP質量分析装置及び質量分析方法を提供する。 - 特許庁
The booster coil 3 is constituted of a plurality of coils 3a and 3d of mutually different resonance frequencies, electromagnetically inductively coupled with each other.例文帳に追加
ブースタコイル3を、相互に共振周波数が異なり、かつ相互に電磁誘導結合する複数個のコイル3a,3dをもって構成する。 - 特許庁
To efficiently and optionally control a plasma density profile in doughnut-shaped plasma formed in a chamber in inductively coupled plasma processing.例文帳に追加
誘導結合型のプラズマ処理においてチャンバ内に形成されるドーナツ状プラズマ内のプラズマ密度分布を効率よく任意に制御すること。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma production device uniformalizing a film-forming or an etching speed in a wide area, through control of space distribution of plasma.例文帳に追加
プラズマの空間分布を制御して、広い面積で成膜またはエッチング速度を均一にする誘導結合型プラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁
To provide the subject laser ICP(inductively coupled plasma) analyzing method for sampling a fine particle sample from a high temperature sample such as a hot piece or the like to analyze the same.例文帳に追加
熱片等の高温の試料から微粒子試料を採取して分析を行う、高温試料のレーザーICP分析方法を提供する。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma torch in which a capillary tube is stably retained concentrically with an injector tube, and in which a makeup gas can be flowed smoothly.例文帳に追加
キャピラリーチューブをインジェクターチューブと同心に安定に保持するとともにメイクアップガスをスムーズに流すことができる誘導結合プラズマトーチを提供する。 - 特許庁
An inductively coupled high frequency plasma reactor 10 is provided with a plasma source 16 having multiple channels 38, 44, to each of which a raw gas is independently supplied.例文帳に追加
誘導結合高周波プラズマ・リアクタ10は、処理ガスが各チャネルに独立して供給される複数のチャネル38,44を有するプラズマ源16を備える。 - 特許庁
The power providing system for the electrical device includes a secondary inductor wired to the electrical device for inductively coupling with a primary inductor hardwired to a power supply.例文帳に追加
電気装置の電力提供システムは、電気装置に結線され、電源に結線された一次誘導子と誘導結合する二次誘導子を備える。 - 特許庁
To freely and minutely control a plasma density distribution by using a coil put into an electrically floating state in an inductively coupled plasma process.例文帳に追加
誘導結合型のプラズマプロセスにおいて電気的にフローティング状態に置かれるコイルを用いてプラズマ密度分布を自在かつ精細に制御すること。 - 特許庁
To provide a method for igniting plasma in a focused ion beam system in which the inductively coupled plasma ion source is biased to a high dc voltage.例文帳に追加
誘導結合プラズマイオン源が高dc電圧にバイアスされた集束イオンビームシステムにおいて、イオン源内のプラズマに点火する方法を提供する。 - 特許庁
The inductive charger may further include a charging circuit for connecting the inductive coil to the power pack when the inductive coil is inductively coupled to a primary coil.例文帳に追加
誘導充電装置は、誘導コイルが一次コイルに誘導結合されている場合、誘導コイルをパワーパックに接続する充電回路をさらに含み得る。 - 特許庁
To provide a plasma processing apparatus that improves the in-plane uniformity of a workpiece in an inductively coupled plasma processing.例文帳に追加
誘導結合プラズマを用いるプラズマ処理において、被処理体の面内均一性を向上させることが可能なプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁
The inductively coupled high frequency plasma reactor 10 includes a plasma source 16 having a plurality of channels 38, 44 in which processing gases are independently supplied to each channel.例文帳に追加
誘導結合高周波プラズマ・リアクタ10は、処理ガスが各チャネルに独立して供給される複数のチャネル38,44を有するプラズマ源16を備える。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma torch for realizing GC analysis, etc. and solution analysis by means of the same torch without detaching a capillary tube, etc. therefrom.例文帳に追加
キャピラリーチューブなどを取り外すことなく、GC分析等と溶液分析を同一のトーチで実現することが可能な誘導結合プラズマトーチの提供。 - 特許庁
To reduce cost while ensuring sensitivity in an inductively coupled plasma mass spectrometer for identifying and determining trace impurity elements in a sample solution.例文帳に追加
試料溶液中の微量不純物元素の同定・定量を行う誘導結合プラズマ質量分析装置において、感度を確保しつつ低価格化する。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma processor in which by- products can be prevented from adhering to a quartz window or by-products adhered to the quartz window can easily be removed.例文帳に追加
副生成物が石英窓に付着しないように、あるいは付着した副生成物を簡便にクリーニングできる誘導型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
The ring-shaped plates 311 are inductively heated by an induction heating device 206, and the wafers 200 are heated from the entire outer peripheral edge by the radiant heat.例文帳に追加
前記リング状プレート311を誘導加熱装置206で誘導加熱し、その輻射熱により前記ウエハ200を外周縁全体から加熱する。 - 特許庁
To provide an inductively coupled plasma chemical vapor deposition apparatus where a uniform thin film can be formed on a rectangular substrate used for a flat panel display device.例文帳に追加
平板ディスプレー装置に使用される四角形状の基板に均一な薄膜を形成できる誘導結合プラズマ化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁
To freely and finely control plasma density distribution while sufficiently restraining a wavelength effect in an RF antenna of an inductively-coupled plasma processing device.例文帳に追加
誘導結合型のプラズマ処理装置におてRFアンテナ内の波長効果を十全に抑制しつつ、プラズマ密度分布を自在かつ精細に制御すること。 - 特許庁
To further simplify attachment and detachment work of a plurality of inductively coupled electrodes 47 to and from a ceiling wall 15 of a vacuum chamber 3.例文帳に追加
真空チャンバー3の天井壁15側に対する複数本の誘導結合型電極47の着脱作業の容易化をより一層図ること。 - 特許庁
The conductor layer 21 for the first inductor and the conductor layer 22 for the second inductor are disposed on one end of the laminated body 20, and are inductively coupled.例文帳に追加
第1のインダクタ用導体層21および第2のインダクタ用導体層22は、積層体20の1つの端面に配置され、誘導性結合する。 - 特許庁
An inductively coupled plasma processing apparatus is configured such that inductively coupled plasma is generated so as to have a doughnut shape under a dielectric window 52 close to an RF antenna 54 and the doughnut-shaped plasma is dispersed in a large processing space so as to level the plasma density near a susceptor 12 (namely, on a semiconductor wafer W).例文帳に追加
この誘導結合型プラズマ処理装置は、RFアンテナ54に近接する誘電体窓52の下で誘導結合のプラズマをドーナツ状に生成し、このドーナツ状のプラズマを広い処理空間内で分散させて、サセプタ12近傍(つまり半導体ウエハW上)でプラズマの密度を平均化するようにしている。 - 特許庁
An injector tube for this inductively coupled plasma torch includes an outside injector tube 11 for introducing an atomized solution specimen, etc. into inductively coupled plasma, and an inside injector tube 12 integrally and concentrically housed in the outside injector tube for introducing gaseous molecules into the coupled plasma.例文帳に追加
誘導結合プラズマトーチのインジェクターチューブは、霧化された溶液試料等を誘導結合プラズマに導入するための外側インジェクターチューブ11と、外側インジェクターチューブに一体的且つ同心状に収容され、気体状分子を誘導結合プラズマに導入するための内側インジェクターチューブ12とを含む。 - 特許庁
In the analysis method, quantitative analysis on tin in the organic acid solution is performed through the use of an inductively coupled plasma emission analyzer, and the analysis is performed with the wavelength of analyzing emission rays of the inductively coupled plasma emission analyzer set at any of 235.484 nm, 242.270 nm, or 283.999 nm.例文帳に追加
有機酸溶液中のスズの定量分析を誘導結合プラズマ発光分析装置を用いて行う分析方法であって、上記誘導結合プラズマ発光分析装置の分析発光線の波長を235.484nm、242.170nm及び283.999nmのいずれかに設定して分析を行うようにした。 - 特許庁
To provide an inductively coupled ballast circuit suitable for use in a fluid treatment system including a control unit that controls the overall operation of the fluid treatment system.例文帳に追加
流体処理システムの全体的動作を制御する制御ユニットを内含する流体処理システムでの使用に適した誘導結合型安定器回路を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma generator capable of stably generating and maintaining high-density and high-energy-efficiency inductively-coupled microplasma, and of executing a process using the plasma.例文帳に追加
高密度・高エネルギー効率誘導結合型マイクロプラズマの安定発生・維持が可能で、かつ、プラズマを用いた処理を行うことが可能なプラズマ発生装置を提供すること。 - 特許庁
The band-pass filter 1 has a multilayer board 20 and three resonators provided in the multilayer board 20 while two adjacent resonators are inductively coupled.例文帳に追加
バンドパスフィルタ1は、積層基板20と、隣接する2つの共振器同士が誘導性結合するように積層基板20内に設けられた3つの共振器を備えている。 - 特許庁
To provide a method and a device in which electron temperature of plasma can be held down, in the plasma generation method and device generating inductively coupled plasma.例文帳に追加
誘導結合型プラズマを発生させるプラズマ生成方法及び装置であって、プラズマの電子温度を低く抑制することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁
Using a high frequency inductively-coupled plasma etching apparatus having two reaction chambers, the second Pt film 108 is etched with a mixture gas of chlorine and argon in one of the reaction chambers.例文帳に追加
反応室を2つ持つ高周波誘導結合型プラズマエッチング装置を用い一方の反応室で塩素とアルゴンの混合ガスで第2のPt膜108をエッチングする。 - 特許庁
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