「INDUCTIVELY」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To axially rotate equivalently the inductively coupled status regarding the deposition of byproducts on the inner wall in order to prevent the deposition of the byproducts on the inner wall, while keeping the coil antenna 23 and the cylindrical guiding body 22 in a fixed state.例文帳に追加

コイルアンテナ２３も筒状誘導体２２も固定したままで、副生成物の内壁付着を防止するために、副生成物の内壁付着に関する誘導結合状態を等価的に軸回転させる。 - 特許庁

The combination of the magnetic field generators 1 and 2 and the antenna 7 generates inductively coupled plasma 13 on the outer area in an area inside the antenna and generates wave-excited plasma 12 in the inner area.例文帳に追加

磁場発生器１，２とアンテナ７との組合せは、アンテナの内側の領域のうちの外側領域に誘導結合プラズマ１３を生成し、且つ、その領域のうちの内側領域に波動励起プラズマ１２を生成する。 - 特許庁

An apparatus includes: a first winding wire for coupling data via a conductor of a power transmission cable; and a second winding wire, inductively coupled to the first winding wire, for the purpose of coupling a data signal to a data port.例文帳に追加

装置は電力伝送ケーブルの導体によりデータを結合する第１の巻線と、データ信号をデータポートへ結合するため第１の巻線に誘導的に結合されている第２の巻線とを具備している。 - 特許庁

The system includes: an AIPS and a tank circuit capable of inductively providing power to a remote device at different frequencies; and a sensor for sensing a reflected impedance of the remote device at the tank circuit.例文帳に追加

本システムは，種々の周波数の電力を遠隔デバイスに誘導で供給することができるＡＩＰＳ及びタンク回路と，タンク回路において遠隔デバイスの反射インピーダンスを検出する検出器と，を含む。 - 特許庁

In this plasma cone for the inductively coupled plasma mass spectrometer, the material of the plasma cone is an alloy of platinum and rhodium and/or iridium.例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析装置用プラズマコーンであって、前記プラズマコーンの材質が白金とロジウムおよび／またはイリジウムとの合金からなることを特徴とする誘導結合プラズマ質量分析装置用プラズマコーン。 - 特許庁

In an alternative embodiment, the multi-axis inductive coil assembly can function as a primary side to inductively transmit power or communication or both over a plurality of magnetic fields at distinct orientations.例文帳に追加

代替的な実施形態において、本発明の多軸誘導コイル組立体は、異なる配向の複数の磁場の上で、電力又は通信或いはその両方を誘導伝達する一次側部として働くことができる。 - 特許庁

A plurality of portions, in the upper surface of the upper cladding layer which portions are arranged along the optical axis of the active layer, are exposed to inductively coupled plasma, and gain of the active layer is periodically modulated along the optical axis of the active layer.例文帳に追加

上部クラッド層の上面のうち活性層の光軸に沿って配置された複数の部分を誘導結合プラズマに曝露して、活性層の利得を活性層の光軸に沿って周期的に変調する。 - 特許庁

The spatial distribution of RF energy inductively coupled from the inductive element to the plasma may be adjusted by varying the pores of the porous deposition shields, the structure of the inductive element or the shape or thickness of the slot bath.例文帳に追加

プラズマに誘導素子から誘導的に結合されるＲＦエネルギーの空間的分布は、有孔のデポジション・シールドの孔、誘導素子の構成、若しくは溝槽の形状又は厚さの変更により調整されてよい。 - 特許庁

To provide an analysis start time determination method capable of clearly obtaining a stable time in sample replacement and accurately obtaining the analysis start time of a sample, and an ICP (Inductively Coupled Plasma) light emission analyzer using the method.例文帳に追加

試料交換時の安定時間を明確に把握でき、また試料の分析開始時期を正確に把握することができる分析開始時期判断方法及び該方法に使用するＩＣＰ発光分析装置を提供する。 - 特許庁

Etching gas G_E including hydrocarbon is supplied, and a high-frequency power P1 and a high-frequency power P2 are supplied to a bias-side electrode 13 and an inductively coupled coil 14 of the etching device 10, respectively, to generate plasma.例文帳に追加

炭化水素を含むエッチングガスＧ_Ｅを供給して、エッチング装置１０のバイアス側電極１３及び誘導結合コイル１４にそれぞれ高周波電力Ｐ１、Ｐ２を供給してプラズマを生成する。 - 特許庁

In this inductively coupled plasma processing device, a coiled high frequency antenna 21 is installed in a housing constituting a processing chamber, and reaction gas is introduced into the processing chamber to generate a plasma to form or etch a film on a substrate in the processing chamber.例文帳に追加

従って、処理装置の大型化に伴って高周波アンテナの長さが長くなっても、アンテナ電位を均等かつ低下させることができる誘電結合プラズマ処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a magnetooptic disk which can form a magnetooptic recording film of small particle size enough for good magnetic field sensitivity and high-density recording by using an inductively coupled RF plasma supported magnetron sputtering device.例文帳に追加

誘導結合ＲＦプラズマ支援マグネトロンスパッタ装置を用いて、磁界感度が良く、高密度記録に適した十分に粒径の小さな光磁気記録膜を成膜できる光磁気ディスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A power supply circuit includes a circuit for adjusting power supplied to the primary coil, and optimizes an operation based on the position and cumulative characteristics of the inductively powered devices disposed in the receptacle.例文帳に追加

電源回路は、一次コイルに供給される電力を調整する回路を含み、レセプタクル内に配列される誘導的に動力を備えた装置の位置及び累積的な特性に基づいて動作を最適化する。 - 特許庁

By connecting the metal electrodes and a coil part to various power sources through cables, inductively-coupled plasma by dielectric barrier discharge, in particular, microplasma having a size not larger than 1 mm which becomes difficult to stably maintain by miniaturization is generated.例文帳に追加

金属電極、コイル部分と各種の電源をケーブルでつなぎ、誘電体バリア放電により誘導結合型プラズマ、特に、微細化により安定維持が困難になる１ｍｍ以下の大きさのマイクロプラズを発生させる。 - 特許庁

The inductive power supply system includes a mechanism for varying the physical distance or the respective directions between a primary coil and a secondary coil to control the amount of power supplied to an inductively powered device.例文帳に追加

誘導電力供給システムは、誘導的に動力を備えた装置に与えられる電力量を制御するために物理的な距離又は一次コイルと二次コイルの間のそれぞれの方向を変化させる機構を含む。 - 特許庁

Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) is a highly sensitive and efficient analyzer of inorganic element in solutions which comprises ICP to ionize metal plasma and mass spectrometer to separate and quantitate the ions.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ質量分析装置(ＩＣＰ－ＭＳ)は、高感度、高性能の溶液中無機元素分析装置であり、プラズマにより金属をイオン化するICP部とそのイオンを分離、定量する質量分析部から構成される。 - 厚生労働省

In this quantitative determination method for the micro amount of boron, a hydrochloric acid-added solution provided by adding hydrochloric acid into the sample solution is measured in the quantitative determination method for the micro amount of boron using the inductively coupled plasma mass spectrograph (IPC-MS).例文帳に追加

誘導結合プラズマ質量分析装置を用いた微量ホウ素の定量分析方法において、試料溶液に塩酸を添加して得られた塩酸添加溶液を測定する微量ホウ素の定量分析方法。 - 特許庁

To prevent a film from being formed on an inner surface of a sidewall part 14 of a dielectric wall vessel 11 by a scattering substance associated with sputter etching to hinder supply of high-frequency power, in an inductively-coupled plasma processing device.例文帳に追加

誘導結合形プラズマ処理装置において、スパッタエッチングに伴う飛散物によって誘電体壁容器１１の側壁部１４内面へ膜が形成され、高周波電力の供給が阻害されることを防止する。 - 特許庁

An HDPO process generally generates plasma using an inductively and/or capacitively coupled RF energy transmitting device, controls the plasma generated on a substrate, and injects a gas containing an oxidizing source to grow an interface layer.例文帳に追加

ＨＤＰＯ処理は、一般的に、誘導及び／又は容量結合ＲＦ伝達デバイスを用いてプラズマを発生し、基板上で発生したプラズマを制御し、また酸化源を含有するガスを注入して界面層を成長させる。 - 特許庁

In several aspects of the method, a thin-film oxide layer is superposed on the second silicon layer oxidized and formed by a high-density plasma excitation chemical vapor deposition treatment and the inductively coupled plasma source at a temperature lower than 400°C.例文帳に追加

この方法のいくつかの局面において、薄膜酸化物層は、酸化された第２のシリコン層の上に重なり、４００℃未満の温度で、高密度プラズマ励起化学蒸着処理および誘導結合プラズマソースによって形成される。 - 特許庁

Providing a high-frequency power from a high-frequency power source 5 to a coil 7 provided in the vicinity of an dielectric window 8 facing to a sample electrode 6 generates an inductively-coupled plasma in the vacuum vessel 1.例文帳に追加

高周波電源５によりの高周波電力を試料電極６に対向した誘電体窓８の近傍に設けられたコイル７に供給することにより、真空容器１内に誘導結合型プラズマを発生させる。 - 特許庁

A heating coil 1a for heating a floor plate 7 inductively is provided with an inverter 2 for supplying high frequency electric power and installed with the side face of the floor plate 7 inserted under the bottom of a base rail 9.例文帳に追加

床板７を誘導加熱するための加熱コイル１ａに高周波電力を供給するためのインバータ装置２を備え、前記加熱コイル１ａを前記床板７の側面を基本レール９の底から差込んで設置する。 - 特許庁

Accordingly, it is possible to keep the electrons of inductively coupled plasma formed by the high-frequency antenna 106 to be confined inside the plasma-generating space, thereby increasing the plasma electron concentration, while suppressing the rise in the plasma electron temperature.例文帳に追加

これにより，高周波アンテナ１０６により形成された誘導結合プラズマの電子をプラズマ生成空間内に閉じ込めることができるので，プラズマの電子温度の上昇を抑えながら，プラズマ電子密度を高めることができる。 - 特許庁

To provide a shield system usable with an inductively coupled plasma sputtering reactor, which protects a chamber wall from sputter deposition and is replaced after a fixed number of deposition cycles such that accumulated deposition material does not flake off and form particles.例文帳に追加

チャンバー壁をスパッタ堆積から保護するもので、蓄積した堆積材料が剥げ落ちて粒子を形成しないように固定数の堆積サイクル後に交換される、誘導結合プラズマスパッタリアクタと共に使用可能なシールドシステム提供する。 - 特許庁

In addition, the monitoring system transmits measured data by means of electric power line communication between PLC modems 8-10 in slave units connected to the measuring devices 5-7 and a PLC modem 15 in a master unit inductively coupled to an electrical path at the side of the electric power conversion device 11.例文帳に追加

また、計測装置５〜７に接続された子機のＰＬＣモデム８〜１０と、電力変換装置１１側の電路に誘導結合した親機のＰＬＣモデム１５との間の電力線通信によって、計測データを送信する。 - 特許庁

The reactor further includes a controller, responsive to the optical sensors for adjusting the relative amounts of power simultaneously coupled to plasma in the chamber by the inductively coupled plasma source power applicator 1114 and the capacitively coupled plasma source power applicator 1116.例文帳に追加

リアクタは、誘導結合プラズマソース電力アプリケータ及び容量結合プラズマソース電力アプリケータによってチャンバ内のプラズマに同時に結合される電力の相対量を調整する光学センサに応答するコントローラを更に備えている。 - 特許庁

To charge a battery 12 with a 200V commercial power source, a a charger 40 is inductively coupled to a port 38, and the current is rectified by a rectifier module 32 connected in parallel to an inverter 14.例文帳に追加

２００Ｖ商用電源から充電する場合は、地上側充電器４０とポート３８によりインダクティブ接続し、インバータ１４と並列接続された整流モジュール３２により整流を行って、バッテリ１２に充電を行う。 - 特許庁

Furthermore, higher accuracy and reliability analysis becomes possible, by making a liquid with a pH of 6-8 pass through the measuring sample inlet part, through which the measuring sample is passed, of the high-frequency inductively coupled plasma emission spectrometric analyzer.例文帳に追加

さらに高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置の測定試料を通液する測定試料導入部内をpHが6以上、8以下の液体を通液させることで、より高精度、高信頼性の分析が可能となる。 - 特許庁

According to the present invention, by abundantly generating radicals and ions required for etching reaction by using the inductively coupled plasma source and the remote plasma source, etching reaction can be made active and etching efficiency can be improved.例文帳に追加

本発明によると、誘導結合プラズマ源とリモートプラズマ源とを使用してエッチング反応に必要なラジカルとイオンとを豊富に生成させることによって、エッチング反応が活発になってエッチング効率を向上させることができる。 - 特許庁

The inductive decoupling assembly is so inductively coupled as to form the equal and opposite inductive coupling to the proper inductive coupling between the first and second loop coil so as to make the net inductive coupling between the loop coils to 0.例文帳に追加

誘導性デカップリングアセンブリは、第１及び第２のループコイル間の固有の誘導結合に等しく且つ反対の誘導結合を発生するように互いに誘導結合され、それによってループコイル間の正味の誘導結合を０にする。 - 特許庁

This microcapsule composition comprises a plurality of microcapsules, each containing one to five particles in a single liquid droplet and a shell, inductively generated by a composite coacervation, which contains the liquid droplet and one to five particles in the microcapsule.例文帳に追加

本発明にかかる組成物は、各々が一液滴中に１から５の粒子を含む複数のマイクロカプセルと、前記液滴と前記１から５の粒子をカプセル内に含む複合コアセルベーションにより誘起された殻と、を含む。 - 特許庁

To provide a method and device for manufacturing a semiconductor devices, including a plasma treatment process using an inductively coupled plasma treatment device, in which electronic shading damages can be made difficult to generate, and working accuracy can be increased, and reliability can be increased.例文帳に追加

電子シェーディングダメージが発生しにくく、加工精度が高く、かつ信頼性の高い、誘導結合型プラズマ処理装置を用いたプラズマ処理工程を含む半導体装置の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

This cooker is constituted so that a high frequency current generated at an inverter circuit (3) is supplied to a serial resonance circuit (4) formed by a heating coil (27) and capacitors (28, 29) for inductively heating a heated object (31), and the heated object is heated.例文帳に追加

被加熱物（３１）を誘導加熱するための加熱コイル（２７）とコンデンサ（２８、２９）との直列共振回路（４）にインバータ回路（３）にて生成した高周波電流を供給して被加熱物を加熱するように構成する。 - 特許庁

The resist film removal method attached on a processing surface of a workpiece includes: dry processing the resist film attached on the processing surface of the workpiece by supplying active hydrogen atom generated by an inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa; and dry processing by supplying active oxygen atom generated by the inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa and/or wet processing by medical liquid.例文帳に追加

被処理物の処理表面に付着したレジスト膜を除去する方法であって、被処理物の処理表面に付着したレジスト膜に対し、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性水素原子を供給することによるドライ処理と、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性酸素原子を供給することによるドライ処理及び／又は薬液によるウェット処理とを行う。 - 特許庁

To prevent a semiconductor device from deteriorating in reliability by a method, wherein a transistor capable of recovering its characteristics is in a state where a gate insulating film suffers no damage, even if wirings are formed through an inductively coupled plasma etching method.例文帳に追加

誘導結合型プラズマを用いて等価回路で表した場合に保護ダイオードに接続されるような配線加工を行うと、電気遮蔽効果によりトランジスタのゲート酸化膜が破壊され、トランジスタ性能が低下するという問題の解決を図る。 - 特許庁

Additionally, the model animal, obtained by inductively causing the leptin signal transduction failure having the expression of NOR-1 of a fat cell decreased than a KK mouse obtained by three-week group raising of the KK mouse, is obtained by individually raising the KK mouse for three weeks.例文帳に追加

また、ＫＫマウスを３週間個別飼育によって得られる、３週間グループ飼育によるＫＫマウスに比べて、脂肪細胞のＮＯＲ−１の発現が低下したレプチンシグナル伝達障害を後天的に引き起こしたモデル動物を作製する。 - 特許庁

This chamber cleaning method comprises the steps of supplying the cleaning gas, which contains fluorine to a chamber (1) and cleaning the chamber (1) by generating a inductively-coupled plasma to the chamber (1) under the condition where the cleaning gas is introduced into the chamber (1).例文帳に追加

本発明によるチャンバークリーニング方法は、フッ素を含むクリーニングガスをチャンバー（１）に供給することと、そのクリーニングガスがチャンバー（１）に導入された状態で、誘導結合プラズマをチャンバー（１）に発生し、チャンバー（１）をクリーニングすることとを備えている。 - 特許庁

The inductively coupled plasma torch includes a guide retained in the tip part neighborhood of the injector tube, and this guide has a through hole retaining the capillary tube concentrically with the injector tube and a means to make the makeup gas pass through.例文帳に追加

本発明の誘導結合プラズマトーチは、インジェクターチューブの先端部分近傍に保持されたガイドを含み、このガイドが、キャピラリーチューブをインジェクターチューブと同心に保持する貫通孔と、メイクアップガスを通過させる手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

An oscillator 32 supplies a high frequency alternating current to the induction coil 31 of the plasma torch 23 to generate a high frequency electromagnetic field, which inductively ionizes the gas supplied to the torch body 25 to generate thermal plasma as a plasma flame.例文帳に追加

プラズマトーチ２３の誘導コイル３１に高周波交流電流を供給して高周波電磁界を発生させ、トーチ本体２５に供給したガスを誘導的にイオン化し、プラズマ炎となる熱プラズマを発生させる発振器３２を設ける。 - 特許庁

To provide an inductive coil assembly having multiple coils arranged at distinct orientations to efficiently inductively couple power, communication or both of them to a device when the device is arranged at different orientations with respect to an inductive primary coil.例文帳に追加

装置が誘導一次コイルに対して異なる配向で配置されたときに、電力又は通信或いはその両方を該装置に効率的に誘導結合するための、異なる配向で配置された多数のコイルを有する誘導コイル組立体を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching method, using a fluorine-based etching gas, especially one which uses ICP (inductively-coupled plasma) type low-pressure, high-density plasma, for effectively preventing unwanted particles without decreasing the productivity.例文帳に追加

弗素（フッ素）系エッチングガスを用いるドライエッチング方法、特にはＩＣＰ（誘導結合プラズマ）型の低圧高密度プラズマを用いるエッチング方法において、不所望なパーティクルの発生を効果的に防止でき、且つ生産性を損なうことのないものを提供する。 - 特許庁

The etching speed to be provided under the same condition without using a dummy wafer is stably maintained by carrying out a plasma etching process by O_2 gas by using this inductively coupled plasma etching device before a main process.例文帳に追加

本発明による誘導結合型プラズマエッチング装置を用いてＯ_2ガスによるプラズマエッチング処理を本処理前におこなうことで、ダミーウェハを用いなくても同一条件下において得られるエッチング速度を安定的に維持するを可能にした。 - 特許庁

In this manufacturing method of a protein chip substrate, plasma polymerized cyclohexane (PPCHex) and plasma polymerized ethylenediamine (PPEDA) having an amine functional group are deposited by using an inductively coupled plasma chemical vapor-phase deposition method.例文帳に追加

プラズマ重合されたサイクロ核酸（ＰＰＣＨｅｘ）と、アミン機能性グループを有するプラズマ重合されたエチレンダイアミン（ＰＰＥＤＡ）を誘導結合型プラズマ化学気相蒸着法を用いて蒸着するタンパク質チップ基板の製造方法を構成する。 - 特許庁

To provide a cover fixture, capable of suppressing, in an inductively-coupled plasma treatment device, breakage of a cover which covers the lower surface of a window member and generation of particles while facilitating the attachment/detachment of the cover, and further enhancing the flexibility in design of gas introduction.例文帳に追加

誘導結合プラズマ処理装置において、窓部材の下面を覆うカバーの破損とパーティクルの発生を抑制でき、且つカバーを容易に着脱できるようにするとともに、ガス導入の設計自由度を高め得るカバー固定具を提供する。 - 特許庁

In order to efficiently heat the sample, the sample as well as a conductor are sealed in a sampling tube, and inductive current is then induced in the conductor by rotating the tube in a magnetostatic field, thereby inductively heating the conductor to heat the sample.例文帳に追加

試料を効率良く加熱するために、導電体を試料とともに試料管内に封入し、静磁場中で回転させることにより誘導電流を導電体に誘起して、導電体を誘導加熱することにより試料を加熱する。 - 特許庁