「MASK pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a mask having an isolated line pattern in a desired shape.例文帳に追加

所望とする形状の孤立ラインパターンを有するマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a stencil mask with high pattern accuracy and yield.例文帳に追加

パターン精度ならびに歩留まりの高いステンシルマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The present invention relates to an exposure apparatus which exposures a substrate through a pattern formed on a mask.例文帳に追加

本発明は、マスクに形成されたパターンを介して基板を露光する露光装置である。 - 特許庁

An MPEG encoder 13 compression-encodes the motion image on which the mask pattern is superimposed.例文帳に追加

ＭＰＥＧエンコーダ１３は、マスクパターンが重畳された動画像を圧縮符号化する。 - 特許庁

METHOD FOR DIVIDING PATTERN FOR EXPOSING ELECTRON BEAM, COMPLEMENTARY DIVISION MASK AND METHOD FOR EXPOSING ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子線露光用のパターン分割方法、相補分割マスクおよび電子線露光方法 - 特許庁

To attach a pellicle to a reticle while reducing the influence of an adhesive on a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンに及ぼす接着剤の影響を軽減しつつ、ペリクルをレチクルに取り付ける。 - 特許庁

To control a dimension of a transferred pattern with higher accuracy transferred by using a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いて転写する転写パターンの寸法をより高精度に制御する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法と位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a phase shift mask easy to produce and capable of forming a high-precision pattern.例文帳に追加

製造が容易でかつ高精度のパターン形成が可能な位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

EXPOSURE METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK PATTERN, AND METHOD FOR MEASURING POSITIONAL DISPLACEMENT例文帳に追加

露光方法、半導体装置の製造方法、マスクパターンおよび位置ずれ測定方法 - 特許庁

PATTERN OR MASK FOR EXPOSURE, INSPECTION METHOD THEREOF AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

露光用パターン又はマスクの検査方法、その製造方法、及び露光用パターン又はマスク - 特許庁

METHOD OF TRANSCRIBING CONDUCTOR PATTERN TO FILM CARRIER, AND MASK AND FILM CARRIER USED THEREBY例文帳に追加

フィルムキャリアへの導体パターンの転写方法及びそれに用いるマスク並びにフィルムキャリア - 特許庁

A resin layer 3 is disposed on at least one face of a glass substrate 2 having a mask pattern 1.例文帳に追加

マスクパターン１を有するガラス基板２の少なくとも片面に樹脂層３を設ける。 - 特許庁

An exposure device 10 exposes a pattern of a predetermined mask 18a on a target work 23.例文帳に追加

対象ワーク２３上に所定のマスク１８ａパターンを露光する露光装置１０である。 - 特許庁

The decompression device 10 performs a predetermined etching processing on a wafer using a resist pattern as a mask.例文帳に追加

減圧処理装置１０は、レジストパターンをマスクとしてウェハにエッチング処理を施す。 - 特許庁

Treatment is performed to the substrate 30 to be treated by using the resin pattern 33 as a mask.例文帳に追加

その後、樹脂パターン３３をマスクとして被処理基板３０に対して処理を施す。 - 特許庁

OPTIMIZATION METHOD OF LIGHTING SHAPE, OPTIMIZATION METHOD OF MASK SHAPE, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

照明形状の最適化方法、マスク形状の最適化方法及びパターン形成方法 - 特許庁

To accurately detect the dimensional deviations of a mask pattern over a large area, using a simple method.例文帳に追加

マスクパターンの寸法のずれを、広範囲に渡り、正確に、容易な方法で検出する。 - 特許庁

To reduce a period of time required for an optical proximity correction (OPC) processing when designing a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターン設計時の光近接補正（ＯＰＣ）処理に要する時間を削減する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン作成方法、マスクの製造方法、半導体装置の製造方法及びプログラム - 特許庁

Ink ejection operation of individual nozzles in each nozzle group is controlled according to that mask pattern.例文帳に追加

このマスクパターンに従って各ノズル群の個々のノズルからのインク吐出動作を制御する。 - 特許庁

To suppress variation of shape formed on a processed film to a photo mask pattern.例文帳に追加

フォトマスクのパターンに対して、被加工膜に形成される形状が変動するのを抑制する。 - 特許庁

To transfer a line pattern to a positive photoresist by an exposure method using a phase shifting mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いた露光法によりポジ型のフォトレジストにラインパターンを転写する。 - 特許庁

To perform automatically and accurately the mask processing of an expectation pattern for an LSI operation test.例文帳に追加

ＬＳＩの動作テスト用の期待値パターンのマスク処理を自動且つ正確に行う。 - 特許庁

MASK AND PATTERN FORMING METHOD, APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND DEVICE例文帳に追加

マスクおよびパターン形成方法、デバイスの製造装置およびデバイスの製造方法並びにデバイス - 特許庁

A resist pattern is formed by performing exposure and development using a mask for the resist.例文帳に追加

レジストにマスクを用いて露光および現像を行うことにより、レジストパターンを生成する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF MASK, MANUFACTURING METHOD OF WIRING PATTERN, AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY例文帳に追加

マスクの製造方法、配線パターンの製造方法、及びプラズマディスプレイの製造方法 - 特許庁

With the resist pattern as a mask, impurities are subjected to ion implantation to the surface layer of the active region.例文帳に追加

レジストパターンをマスクとして活性領域の表層部に不純物をイオン注入する。 - 特許庁

PATTERN ARRAIGNMENT METHOD FOR STENCIL MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT USING THE SAME例文帳に追加

ステンシルマスクのパターン配置方法およびそれを用いた半導体集積回路製造方法 - 特許庁

FORMATION METHOD OF MULTILAYER THIN FILM PATTERN REQUIRING NO MASK ALIGNMENT NOR PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

マスク位置あわせ及びフォトリソグラフ工程を必要としない多層薄膜パターンの形成方法 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DESIGN PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン設計方法および半導体製造方法ならびに半導体設計プログラム - 特許庁

LITHOGRAPHY SIMULATION METHOD, MASK PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

リソグラフィシミュレーション方法、マスクパターン作成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To accurately read-out a bar code pattern formed on a mask without being restricted by a mechanism.例文帳に追加

機構上の制約を受けることなくマスクに形成したバーコードパターンを正確に読み取る。 - 特許庁

An image of a mask pattern in transferred on a wafer W1 through a projection optical system PL.例文帳に追加

投影光学系ＰＬを介してマスクパターンの像がウエハＷ１上に転写される。 - 特許庁

A plurality of correction values of the mask pattern for each material are memorized in a correction table 24.例文帳に追加

補正テーブル２４には、材料別にマスクパターンの補正値が複数記憶されている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a reflective mask for EUVL which is excellent in size controllability of a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンの寸法制御性に優れたＥＵＶＬ用マスクの製造方法の提供。 - 特許庁

The mask pattern is divided into sub-areas (STEP 2), in a model base OPC for correcting a mask properly in every mask pattern, using an optical image intensity simulator, and a model of the optical image intensity simulator is changed in response to the pattern in each sub-area.例文帳に追加

光学像強度シミュレータを用いて、マスクパターン毎に適切なマスク補正を行うモデルベースＯＰＣにおいて、マスクパターンをサブ領域に分割し（ＳＴＥＰ２）、各サブ領域内のパターンの内容に応じて、光学像強度シミュレーションのモデルを変更する。 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN DATA FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT AND METHOD FOR VERIFYING THE SAME例文帳に追加

半導体集積回路製造用マスクパターンデータ生成方法およびその検証方法 - 特許庁

MASK AND METHOD FOR THIN FILM PATTERN FORMATION, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

薄膜パターン形成用マスク、薄膜パターンの形成方法、電気光学装置及び電子機器 - 特許庁

The surface of an insulating film formed of silicon-containing insulating material is covered with a mask pattern.例文帳に追加

シリコンを含有する絶縁材料からなる絶縁膜の表面を、マスクパターンで覆う。 - 特許庁

To control the temperature of a mask during the scanning exposure for transcription of a pattern to a material.例文帳に追加

物体に対するパターンの転写のための走査露光中にマスクを温度調整する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK BY USING IT例文帳に追加

レジスト組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

The low resistant layer B is etched by the RIE and patterned using a photoresist pattern as a mask.例文帳に追加

フォトレジストのパターンをマスクにし、低抵抗層Bをパターニングするため、エッチングをRIEで行う。 - 特許庁

Then, the positive photosensitive resin layer 21 is exposed by using the black pattern 31 as a mask.例文帳に追加

さらに、ブラックパターン３１をマスクにしてポジ型感光性樹脂層２１を露光する。 - 特許庁

The first mask pattern also has a shape which is line-symmetrical with respect to the reference line L.例文帳に追加

また第１マスクパターンも、基準線Ｌを介して線対称な形状を有している。 - 特許庁