「MASK pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

Next, the system is exposed to light with a reticle 22 as a mask to form a resist pattern 21a having a desired dimension (c).例文帳に追加

次に、レチクル２２をマスクとして露光し、所望の寸法のレジストパターン２１ａが形成される(c)。 - 特許庁

A mask plate 3 for display in which a light transmission pattern 3a is formed is installed on the backlight 6.例文帳に追加

バックライト６の上には光透過パターン３ａが形成された表示用マスク板３が設けられている。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR REPETITIVELY PROJECTING MASK PATTERN ON SUBSTRATE, USING TIME-SAVING HEIGHT MEASUREMENT例文帳に追加

時間を節約する高さ測定を用いた、基板にマスク・パターンを繰り返し投影する方法および装置 - 特許庁

To provide a stencil mask capable of arranging a complementary division pattern while maintaining a mechanical strength.例文帳に追加

機械的強度を維持したまま、相補分割パターンを配置することが出来るステンシルマスクを提供する。 - 特許庁

To utilize a stage for a general exposure device, as it is, as a stage for pattern drawing of a mask-drawing device.例文帳に追加

マスク描画装置のパターン描画用のステージに、一般の露光装置用のステージをそのまま利用する。 - 特許庁

Preferably, the stage moves continuously at variable speed according to the density of a pattern drawn on the mask M.例文帳に追加

ステージは、マスクＭに描画するパターンの密度に応じて可変速で連続移動することが好ましい。 - 特許庁

First, a mask 12 with a refractive index distribution pattern transferred is tightly adhered on the DLC thin film 11.例文帳に追加

まず、ＤＬＣ薄膜１１の上に屈折率分布のパターンを転写したマスク１２を密着させる。 - 特許庁

To provide a density distribution mask which has a pattern with higher resolution, and accurately control light exposure of low exposure.例文帳に追加

濃度分布マスクのパターンの解像度を高くし、かつ、低露光の露光量を精密に制御する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask that can contribute to a finer circuit pattern and higher accuracy.例文帳に追加

回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the halftone phase shift mask, an auxiliary pattern for light shielding is formed of a photosensitive organic film such as a resist.例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクにおいて遮光用補助パターンをレジストなどの感光性有機膜で形成する。 - 特許庁

To prevent wrong alignment of a mask and a substrate, using an alignment mark for a different coloring pattern.例文帳に追加

異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うのを防止する。 - 特許庁

A patterned region on the mask is divided into a multitude of areas and a pattern area ratio in each area is calculated.例文帳に追加

マスク上のパターン領域を多数の区域に区分けし、各区域でのパターン面積率を算出する。 - 特許庁

Then the plating pattern is used as a mask to remove the remaining photosensitive resin film by the wet blast method again.例文帳に追加

次いで、そのめっきパターンをマスクに再度ウエットブラスト法で残りの感光性樹脂膜を除去する。 - 特許庁

To accurately inspect pattern defects by utilizing a mask size checking mark formed in a photomask.例文帳に追加

フォトマスクに描画されたマスク寸法検査マークを利用して、パターン欠陥検査を精度良く実行する。 - 特許庁

At least the metal layer and the lower side dielectric layer are etched according to the inverted mask pattern.例文帳に追加

反転されたマスク・パターンに従って少なくとも金属層および下側誘電体層がエッチングされる。 - 特許庁

Ions are implanted into the main surface of the semiconductor substrate SUB using the resist pattern PR1 as a mask.例文帳に追加

そのレジストパターンＰＲ１をマスクとして半導体基板ＳＵＢの主表面にイオンが注入される。 - 特許庁

With a photoresist pattern 201 as a mask, anisotropic etching to silicon is performed (figure 1(f): groove forming step).例文帳に追加

フォトレジストパターン２０１をマスクとして、シリコンに対する異方性エッチングを行う（図１（ｆ）：溝形成工程）。 - 特許庁

A planar photomask 1 formed with the mask pattern 2 is installed on a groundsill 4 of a three-dimensional dispenser.例文帳に追加

３次元ディスペンサの土台４の上にマスクパターン２が形成された板状のフォトマスク１が設置される。 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING MASK PATTERN DATA, INFORMATION PROCESSING DEVICE, PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND IMAGING ELEMENT例文帳に追加

マスクパターンデータの生成方法、情報処理装置、フォトマスク及びその作製システム並びに撮像素子 - 特許庁

A spacer layer 460 is formed on the mold mask pattern 450 in the first region and in the second region.例文帳に追加

第１領域及び第２領域で、モールドマスクパターン４５０上にスペーサ層４６０を形成する。 - 特許庁

MASK FOR X-RAY LITHOGRAPHY WITH HIGHLY PRECISION INTEGRATED CIRCUIT PATTERN FORMED ON X-RAY ABSORBING BODY例文帳に追加

Ｘ線吸収体に形成される集積回路パターンが高精度を有するＸ線リソグラフィー用マスク - 特許庁

A mask is exposed, and a first group of a repeat pattern having a first pitch is formed on a wafer.例文帳に追加

マスクが露光され、第１ピッチを有する第１組の繰り返しパターンがウエハ上に形成される。 - 特許庁

The precision reticle mask (Fig.4) containing a dot pattern provides another set of information required for the calibration.例文帳に追加

ドット・パターンを含む精密焦点板マスク（図４）は、校正に必要なもう一組の情報を提供する。 - 特許庁

The polysilicon 9 is etched to a specified pattern configuration, by using the resist 4 formed in this way as a mask.例文帳に追加

こうして形成されたレジスト4をマスクにして、ポリシリコン9は、所定のパターン形状にエッチングされる。 - 特許庁

SILICON SUBSTRATE INCLUDING MASK PATTERN USED FOR MANUFACTURE OF SILICON STRUCTURE BODY AND MANUFACTURING METHOD OF SILICON STRUCTURE BODY例文帳に追加

シリコン構造体の製造に用いるマスクパターンを有するシリコン基板及びシリコン構造体の製造方法 - 特許庁

With the pattern as a mask, reactive ion etching is conducted with a mixed gas of CF4/O2 for etching the SiO2.例文帳に追加

このパターンをマスクにＣＦ_4／Ｏ_2の混合ガスで反応性イオンエッチングを行いＳｉＯ_2をエッチングする。 - 特許庁

Next, a diffraction effect layer 4 of metal reflectivity is formed and a heat-resistant mask layer 5 is subjected to pattern printing.例文帳に追加

次に、金属反射性の回折効果層４を形成し、さらに、耐熱マスク層５をパターン印刷した。 - 特許庁

A shading film 24a having a predetermined pattern and an etching mask 26a are formed on the IrO2 film respectively.例文帳に追加

ＩｒＯ_2 膜の上に所定パタンの遮光膜２４ａとエッチングマスク２６ａとをそれぞれ形成する。 - 特許庁

To prevent the affection of Coulomb interaction when exposure is performed by an exposure pattern using a block mask.例文帳に追加

ブロックマスクを利用してブロック露光パターンによる露光を行う場合に、クーロンインタラクションの弊害を防止する。 - 特許庁

The photoresist 1a is used as a mask for etching, thus forming a fine pattern on the foundation substrate.例文帳に追加

フォトレジスト１ａをマスクとしてエッチングを行うことで下地基板に微細パターンを形成する（図２（ｅ））。 - 特許庁

The antireflection film 11 is patterned by dry etching with the resist pattern as a mask.例文帳に追加

反射防止膜１１に対してレジストパターンをマスクにドライエッチングを行なって、反射防止膜をパターン化する。 - 特許庁

By using the resist pattern 21 as a mask, P-type impurity (e.g., boron (B)) ions are implanted.例文帳に追加

その後、そのレジストパターン２１をマスクとして用いて、ｐ型不純物（例えば、ボロン（Ｂ））のイオン注入を行う。 - 特許庁

This can manufacture the lengthy flexible board longer than the length of the pattern hole of the exposure mask.例文帳に追加

これにより、露光マスクのパターン孔の長さより長い長尺なフレキシブル基板を製造することができる。 - 特許庁

Thereby, vaporization of the solvent is promoted in the center part of the substrate, and the pattern mask is uniformly swollen.例文帳に追加

それによって基板の中央部で溶剤の揮発を促進させて、均一にパターンマスクを膨潤させる。 - 特許庁

Then, the organic semiconductor layer 13 is formed on the substrate 1 by forming a film on the mask pattern 11.例文帳に追加

次に、マスクパターン１１上からの成膜により基板１上に有機半導体層１３を形成する。 - 特許庁

The position of the defect in the mask can be found by scanning a smaller region in the pattern.例文帳に追加

マスクの欠陥の位置は、パターンのより小さい領域を走査することによって発見することができる。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF MASK, FORMING METHOD OF PATTERN, PHOTOMASK FOR MEASURING DISTORTION AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクの製造方法、パターンの形成方法、歪計測用フォトマスクおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

Then, a groove 5 is provided to the substrate 1 by dry etching using a photoresist pattern 4 as a mask.例文帳に追加

次に、フォトレジストパターン４をエッチングマスクに用いて、ドライエッチングにより、溝５をシリコン基板１に形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of color filter which permits the removal of resist as a pattern mask for etching concurrently with dry etching of a colored layer.例文帳に追加

着色層のドライエッチング処理と共にエッチング用パターンマスクをなすレジストの除去を可能とする。 - 特許庁

Alternatively, masking by the mask pattern is stopped in transaction operation except prescribed transaction operation.例文帳に追加

或いは、さらに所定の取引操作以外では、前記マスクパターンによるマスクすることを停止するようにした。 - 特許庁

Alternatively, the mask pattern is changed in each transaction operation screen or every prescribed time.例文帳に追加

或いは、さらに前記マスクパターンを、取引操作画面ごと或いは所定の時間ごとに変化させるようにした。 - 特許庁

The mask body 2 consists of plastic sheets formed with seeable-through parts 4 and hiding parts 5 to a striped pattern form.例文帳に追加

マスク体２は、透視可能部４と隠蔽部５とが縞模様状に形成してあるプラスチックシートからなる。 - 特許庁

The contact holes with a predetermined pattern are formed by etching an interlayer insulating film 6 based on a resist mask 8.例文帳に追加

レジストマスク８に基づいて層間絶縁膜６をエッチングして所望のパターンのコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

Furthermore, the channel coding and decoding device copes with a mask pattern for a different coding through a bit shift operation of the TFCI.例文帳に追加

更に異なる符号化用のマスクパターンに対して、ＴＦＣＩのビットシフト操作により対応する。 - 特許庁

After the insulating film 5 is formed, the insulating film 5 is lifted-off to form an opening part of a mask pattern 6.例文帳に追加

絶縁膜５の形成後、該絶縁膜５をリフトオフ処理してマスクパターン６の開口部を形成する。 - 特許庁