「MASKS」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To decrease the number of masks of a 3D laminate memory device, in which the required number of masks increases because a separate mask is used for each connection level, by devising the pattern.例文帳に追加

３Ｄ積層メモリ装置は、各接続レベル毎に別個のマスクが使用されるので必要なマスク数は多くなるが、パターンを工夫して必要マスク数を減らす。 - 特許庁

The impurities are introduced with the mask layer 52 and the resist film 53 serving as masks.例文帳に追加

そして、マスク層５２およびレジスト膜５３をマスクとして、不純物を導入する。 - 特許庁

To dispense with two masks out of three masks usually necessary for modifying layout data as to both two wiring layers and a via layer when the circuit of an integrated circuit is modified.例文帳に追加

集積回路の回路の修正を行なう場合に、２つの配線層と１つのビア層のレイアウトデータを修正するため必要であった３枚のマスクを１枚に削減する。 - 特許庁

Masks 8A, 8B each having an opening 8a are placed on the principal faces 1a, 1b.例文帳に追加

開口８ａを有するマスク８Ａ、８Ｂを主面１ａ、１ｂ上に設置する。 - 特許庁

On the other hand, in Kyogen, performers other than those playing some exceptional roles conduct performances without using masks. 例文帳に追加

これに対し狂言は、一部の例外的役柄を除いて面を使用しない。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To reduce the number of times of replacement of masks for electron beam exposure and shorten an exposure time.例文帳に追加

電子線露光用マスクの交換回数を減らして露光時間を短縮する。 - 特許庁

When the block heater is present, the ECU masks any engine malfunction detections.例文帳に追加

ブロックヒーターが存在する時には、ＥＣＵはエンジン機能不良の検出をマスキングする。 - 特許庁

The crosspieces 2b are arranged in positions where deposited materials from the deposition masks 7 are not passed through.例文帳に追加

桟２ｂは、各蒸着マスク７からの蒸着物が通過しない位置に設けられている。 - 特許庁

To provide a mask holder which allows conveyance of a plurality of masks positioned to each other.例文帳に追加

互いに位置決めされた複数枚のマスクの搬送を可能にするマスクホルダーを提供する。 - 特許庁

To reduce photo masks used in manufacturing a light-emitting panel, and to improve an aperture ratio.例文帳に追加

発光パネルの製造時に使用するフォトマスクを減らし、開口率の向上を図る。 - 特許庁

Both of the light shielding masks 78, 79 three-dimensionally intersect to form a plurality of pixels 75.例文帳に追加

両遮光マスク７８，７９が立体交差して複数の画素７５が形成される。 - 特許庁

Smiling masks, as well as toys and balloons, are sold at stands along the street. 例文帳に追加

おもちゃや風船だけでなく，笑顔のお面が通り沿いの売店で売られています。 - 浜島書店 Catch a Wave

The etched film is then etched with the developer soluble film and the etching resistant film as masks.例文帳に追加

その後、現像液溶解性膜と耐エッチング膜とをマスクとして、被エッチング膜をエッチングする。 - 特許庁

A low-concentration impurity layer 14 is formed by using the offset spacer 13 and the gate electrode 12 as masks.例文帳に追加

オフセットスペーサ13及びゲート電極12をマスクに低濃度不純物層14を形成する。 - 特許庁

Then the film to be processed is etched through the first and second masks to form the pattern.例文帳に追加

その後、第１、第２のマスクをマスクとして、被加工膜をエッチングして、パターンを形成する。 - 特許庁

The photo masks A, B are aligned to superpose the patterns one above the other to make them apparent.例文帳に追加

フォトマスクＡ，Ｂそれぞれを位置合わせしてパターンを重ね合わせ顕在化させる。 - 特許庁

The mask production process D can produce a plurality of masks with different expressions.例文帳に追加

お面製作工程Ｄは、違った表情を有する複数のお面を製作可能にする。 - 特許庁

The masking part 204 masks the character string selected by the character string selection part 203.例文帳に追加

マスキング部２０４は、文字列選択部２０３によって選択された文字列をマスキングする。 - 特許庁

Two masks 2 and 3 are provided with through holes 2a and 3a at the same positions.例文帳に追加

同一位置に貫通孔２ａ、３ａを設けた二枚のマスク２、３をもって構成する。 - 特許庁

A secret information mask part 103 masks the morpheme analytic result according to the mask rule.例文帳に追加

秘匿情報マスク部１０３は、マスクルールに従って、形態素解析結果をマスクする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device having the small number of masks required and a simplified process.例文帳に追加

マスク数が少なく、工程が簡略な半導体装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

The masks and costumes inherited in the head family were also divided and given to the branch family, which later developed into the family of Tetsunojo KANZE. 例文帳に追加

宗家伝来の面や装束も分与し、これがのちに観世銕之亟家となる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Gigaku (an ancient pantomime in which performers wear masks) and Gagaku (ancient Japanese court dance and music) are performed, and after the sunset, Manto Kuyo-e (an event of offering many votive lights to Buddha) is held. 例文帳に追加

伎楽、雅楽が演じられ、日没後は万灯供養会が行なわれる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

An arrangement processing part 32 arranges a plurality of masks MAks for collation image data A.例文帳に追加

配置処理部３２は、照合画像データＡに対して複数のマスクＭＡｋを配置する。 - 特許庁

Thereafter, the contact holes are formed inside the grooves 7 by using the photoresist films 8 as masks.例文帳に追加

この後、ホトレジスト膜８をマスクに用いて配線溝７の内部にコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

PRINTING SYSTEM USING PLURAL PRINT MASKS HAVING RESOLUTION OF NON-INTEGRAL MULTIPLE例文帳に追加

互いの非整数倍である解像度を有する複数のプリントマスクを使用する印刷システム - 特許庁

A masking processing unit 16 masks the time-frequency component X1 (f, t) using the mask pattern m1 (f, t).例文帳に追加

マスキング処理部16は、マスクパターンm1(f,t)を用いて時間周波数成分X1(f,t)をマスキングする。 - 特許庁

As if in a dream, I think it may have been Kawakatsu's contrivance that made the masks have life.' 例文帳に追加

「かく生けるがごとくなるは、川勝のたくめる仮面にやあらんと、夢心におもひぬ。」 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The performance is presented as dances and pantmime without any dialogue, played by the actors all wearing masks. 例文帳に追加

この演技はすべて仮面をつけておこなわれ、無言のパントマイムと舞で構成される。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Gigaku-men masks excel in their fine shape and some are said to have been made by sculptors of Buddha statues. 例文帳に追加

伎楽面は造形的にもすぐれ、仏師の手になるものもあるといわれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To use a small number of photo masks to manufacture a liquid crystal display device having a high numerical aperture.例文帳に追加

高開口率の液晶表示装置を、少ないフォトマスクを使用して製造する。 - 特許庁

To reduce influences of external forces applied to masks shielding slots formed at a housing.例文帳に追加

筐体に設けられたスロットを遮蔽するマスクの受ける外力の影響を低減する。 - 特許庁

For directories 11 and 13, security properties 11A and 13A, security statuses 11S and 13S, inheritance masks 11IM and 13IM, and open masks 11RM and 13RM are prepared.例文帳に追加

各ディレクトリ１１、１３に、セキュリティ属性１１Ａ、１３Ａと、セキュリティステータス１１Ｓ、１３Ｓと、継承マスク１１ＩＭ、１３ＩＭと、公開マスク１１ＲＭ、１３ＲＭとが用意されている。 - 特許庁

The substrate W being transferred in the prescribed direction is irradiated with exposure light EL through the plurality of masks M, and the patterns P of the masks M are transferred by exposure onto the substrate W.例文帳に追加

そして、所定方向に搬送される基板Ｗに対して複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板Ｗに複数のマスクＭのパターンＰを露光する。 - 特許庁

The data management device 3 classifies and manages a plurality of masks M based on not an identifier given to each mask M but an identifier id2 given to each layout pattern of the masks M.例文帳に追加

データ管理装置３は、マスクＭ毎に付与された識別子ではなく、マスクＭのレイアウトパターン毎に付与された識別子ｉｄ２に基づいて複数枚のマスクＭを区別して管理する。 - 特許庁

A maximum correlation region detection processing part 34 detects a plurality of masks MBks corresponding to maximum correlation regions which respectively correspond to the plurality of the masks MAks from collation image data B.例文帳に追加

最大相関領域検出処理部３４は、複数のマスクＭＡｋにそれぞれ対応する最大相関領域に相当する複数のマスクＭＢｋを照合画像データＢから検出する。 - 特許庁

Masks 10 are provided in a two-dimensional array to the surface of a silicon substrate 20 by using a material having an etching rate lower than that of silicon, and reactive ion etching is carried out until the masks disappear.例文帳に追加

シリコン基板（２０）の表面に、シリコンよりもエッチング速度の遅い材料を用いて、２次元配列状にマスク（１０）を設け、マスクが消失するまで反応性イオンエッチングを行う。 - 特許庁

A spectroscope is adopted where the spectroscope comprises variable masks 24a, 24b for limiting the light path of each spectrum light in a spectrum direction and compound masks 24c, 24d for limiting in the perpendicular direction.例文帳に追加

各スペクトル光の光路を、スペクトル方向で制限する可変マスク２４ａ，２４ｂと、垂直方向で制限する複合マスク２４ｃ，２４ｄとを備える分光器を採用した。 - 特許庁

An N-type contact layer 21 is formed by a lateral selection growth anisotropic in a positive-c axis direction so as to cover the masks 65 from a region between the masks 65.例文帳に追加

Ｎ型コンタクト層２１は、マスク６０の間の領域から当該マスクを覆うように、＋ｃ軸方向への異方的な横方向選択成長によって形成されたものである。 - 特許庁

The edge of one of the masks arranged on the printed surface 42 of the wiring board 41 is relatively separated in relation to the printed surface 42, so that the masks 21 are removed.例文帳に追加

配線基板４１の被印刷面４２上に重ねて配置されたマスク２１の片方のエッジを被印刷面４２に対して相対的に離間させることにより、マスク２１を版離れさせる。 - 特許庁

A plurality of masks 2a, 2b, 2c are arranged on the surface of a work 1, and thereafter, while scanning a laser 3, it is applied to the surfaces of masks 2a, 2b, thus the masks 2a, 2b are removed by the laser 3, and surface working of the work 1 by the laser 3 is progressed from the removed parts.例文帳に追加

被加工物１の表面上に複数のマスク２ａ，２ｂ，２ｃを配置した後、レーザ３を走査しながらマスク２ａ，２ｂの表面に照射することにより、レーザ３でマスク２ａ，２ｂを除去し、除去された部分からレーザ３による被加工物１の表面加工を進行させる。 - 特許庁

The mask M is provided with small-sized masks M1 to M4, and the mask stage 1 retains a plurality of small-sized masks M1 to M4, such that the sum of effective exposure area of the plurality of small-size masks M1 to M4 becomes larger than the area of one complete pattern which is exposed and transferred to the substrate W.例文帳に追加

マスクＭは複数の小型マスクＭ１〜Ｍ４を備え、且つ、マスクステージ１は、複数の小型マスクＭ１〜Ｍ４の有効露光面積の合計が基板Ｗに露光転写される１つの完成パターンの面積よりも大きくなるように、複数の小型マスクＭ１〜Ｍ４を保持する。 - 特許庁

To generate mask drawing data in which the number of master masks to be generated can be minimized.例文帳に追加

作成すべき親マスクの枚数を最小にすることができるマスク描画データを作成する。 - 特許庁

A noise masking circuit 35 masks the output from the input clock c5b during a time when the count value is 0.例文帳に追加

ノイズマスク回路３５はカウント値が０である間入力クロックｃ５ｂの出力をマスクする。 - 特許庁

Masks 306a and 306b are respectively set in mask patterns corresponding to information to be reproduced.例文帳に追加

マスク３０６ａ、３０６ｂをそれぞれ再生対象情報に対応したマスクパターンに設定する。 - 特許庁