「MASKS」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

An n type layer 19 and an n type layer are formed by implanting ions using gate electrodes 6, 14 as masks.例文帳に追加

ゲート電極６、１４をマスクとしてイオン注入を行い、ｎ^-型層１９及びｎ^-型層を形成する。 - 特許庁

There are displays of dolls, masks and paintings on folding screens used in performing arts both nationally and internationally. 例文帳に追加

全国あるいは世界中の伝統芸能やそこで用いられる面、人形あるいは屏風画などを展示。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

SYSTEM, EQUIPMENT, AND METHOD FOR MASKLESS LITHOGRAPHY EMULATING BINARY, ATTENUATION PHASE SHIFT, AND ALTERNATING PHASE SHIFT MASKS例文帳に追加

バイナリ、減衰フェーズシフトおよび交番フェーズシフトマスクをエミュレートするマスクレスリソグラフィ用のシステムおよび装置および方法 - 特許庁

The face masks and pads 2, 3 and 4 are obtained by impregnating a silicone rubber sheet having flexibility with an aroma oil.例文帳に追加

美顔用マスク及びパッド２、３、４は、柔軟性を有するシリコーンゴム製のシートに、アロマオイルを含浸させている。 - 特許庁

To form a parallax barrier without requiring knowledge about diffraction profiles of masks and control of light sources.例文帳に追加

マスクの回折プロファイルについての知識および光源の制御を必要とせずに、視差障壁を形成すること。 - 特許庁

The second inorganic film HD is etched using the second photoresist mask R2 and the first inorganic film HU as masks.例文帳に追加

第２フォトレジストマスクＲ２および第１無機膜ＨＵをマスクとして用いて第２無機膜ＨＤがエッチングされる。 - 特許庁

Next, ion implantation with the films 21 and 24 as masks is performed to form an n^+ type source region 4.例文帳に追加

次に、シリコン酸化膜２１、２４をマスクとしたイオン注入を行ってｎ^+型ソース領域４を形成する。 - 特許庁

I don't know anything about hoods and masks... or human weapons or any of this... but I know you.例文帳に追加

私には何もわからない、 フードやマスクのこと、人間兵器のこと、 このどれだって でも、あなたを知っているわ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

However, reminiscences of gigaku can be found in other performances of 'shishimai' (Lion dance) and 'Onerikuyo' (the Buddhist ceremonial parade, wearing the masks and costumes of various Bodhisattva) performed in temples around the country. 例文帳に追加

しかし現在でも「獅子舞」や、各地の寺院で行われる「お練供養」にその痕跡をとどめている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Also, province names, such as 'Sanuki' and 'Hitachi,' can be seen on the back of the masks, which suggests they were came from rural areas. 例文帳に追加

また面の裏面に「讃岐」「常陸」などの国名がみられ、地方から献納されたものであることがわかる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display which can protect gate pads, using four masks.例文帳に追加

ゲートパッドを保護することができる液晶表示装置を四枚のマスクを用いて製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a touch screen panel in which the number of masks is reduced and the process is simplified, and the method for manufacturing the same.例文帳に追加

マスクの数を低減し、工程を単純化したタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, patterning of a predetermined shape is carried out on the upper electrode 23 and the piezo-electric diaphragm 22 using a masks or a resist.例文帳に追加

次いで、上電極２３および圧電膜２２をマスクまたはレジストを用いて所定の形状にパターニングする。 - 特許庁

A member 20 to be processed is provided with: a substrate 1; metallic masks 5A, 5B located on the substrate 1 and formed with a first opening 6; and a photo resist film 7A for coating the metallic masks 5A, 5B and the first opening 6.例文帳に追加

被処理部材２０は、基板１、基板１上に設けられており、第一の開口部６を形成している金属マスク５Ａ、５Ｂ、および金属マスク５Ａ、５Ｂと第一の開口部６とを被覆するフォトレジスト膜７Ａを備えている。 - 特許庁

The quantity δ of shifting between the masks is so set that 0<δ<2y, where (y) is the Z'-axial size of a burr formed on a side surface of an oscillation portion when wet etching is carried out with the upper and lower masks disposed at identical upper and lower positions.例文帳に追加

マスクのずらし量δは、上側及び下側マスクを同じ上下位置に配置してウエットエッチングしたときに振動部の側面に形成されるばりのＺ´軸方向の大きさをｙとして、０＜δ＜２ｙとなるように設定する。 - 特許庁

The vapor deposition mask return passage 75 is provided with a plasma processing apparatus, and the plasma irradiation to the vapor deposition masks 40 in the vapor deposition mask return passage 75 removes organic matters deposited on the vapor deposition masks 40.例文帳に追加

蒸着マスク返却路７５にはプラズマ処理装置が設けられており、蒸着マスク返却路７５において蒸着マスク４０にプラズマを照射することにより、蒸着マスク４０に付着した有機物を除去する。 - 特許庁

To realize a method of manufacturing photomasks which is capable of decreasing the variations of the line widths within the masks and decreasing the variations in the line widths among the respective masks by correcting the influence of a proximity effect and is capable of shortening the time required for mask manufacture.例文帳に追加

近接効果の影響を補正して、マスク内での線幅ばらつきおよび各マスク間の線幅ばらつきを低減させ、マスク製造に要する時間の短縮が可能なフォトマスクの製造方法の実現を課題とする。 - 特許庁

This overhanging part 162 receiving and supporting parts pressed by the first and second squeegees 31 and 32 moving over the aggregate substrate 21 among the metal masks for printing 40 to prevent the metal masks 40 from being uselessly bent.例文帳に追加

この張り出し部１６２は、印刷用メタルマスク４０のうち、集合基板２１を越えて移動する第１、第２のスキージ３１、３２が押し付ける部分を受けて支持し、印刷用メタルマスク４０が無用に撓まされることを防止する。 - 特許庁

To provide a shadow mask capable of substituting into a reducing gas an oxidizing gas in a gap between shadow masks causing discoloration of the shadow mask generated when tens of the shadow masks in piles are put under an annealing treatment.例文帳に追加

シャドウマスクを数十枚重ねてアニール処理した時に発生するシャドウマスク変色の原因となるシャドウマスクどうしの隙間の酸化性ガスを、還元性ガスに置換する事が可能なシャドウマスクを提供する事を目的とする。 - 特許庁

A given number of half-finished shadow masks 20 are laminated on each other which are mounted on a pedestal 12 of a fixing platform 11, where, effective parts 21 of the half-finished shadow masks 20 are pressed with a pressure plate 14 to fix them on the pedestal 12.例文帳に追加

半製品シャドウマスク２０を所定枚数積層して固定台１１の台座１２上に載置し、半製品シャドウマスク２０の有効部２１を押板１４にて押圧し、半製品シャドウマスク２０を台座１２上に固定する。 - 特許庁

When the camera is used, picture size switching masks 5 and 6 and finder field switching masks 23 and 24 are optionally set to specified size by the operation of a picture size switching knob 17c by the action of cams 20 and 26 provided on a shaft 17.例文帳に追加

カメラの使用時は画面サイズ切換ツマミ１７ｃの操作により画面サイズ切換マスク５，６及びファインダ視野切換マスク２３，２４は軸１７に設けられているカム２０，２６の作用により所定のサイズに任意に設定できる。 - 特許庁

(4) At times to use dust masks, make sure the fitting to wearer’s face with a fit-checker and select proper dust masks with a good fit.Also it is an effective approach to do the face fittings every time to wear a dust mask.例文帳に追加

(4)防じんマスクを使用するに際しては、フィットチェッカー等を用いて面体と顔面の密着性の確認を行うことにより、適切な面体を選ぶとともに、装着の都度、当該確認を行うことが有効である。 - 厚生労働省

In the case of numbers without masks, or numbers with masks assigned and played by a woman, or a boy or girl, they may be performed with a natural, unmasked face or with makeup (the same stage makeup as for Kabuki Buyo dance, depending on the group). 例文帳に追加

仮面を付けない曲の場合や、仮面が指定された曲を女性や少年少女が舞う場合は仮面を付けずに素顔のままか、化粧（団体によっては歌舞伎舞踊と同様の舞台化粧）をする場合がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

METHOD USING THREE MASKS FOR FORMING FINAL HARD MASK USED TO ETCH SILICON FIN OF FINFET例文帳に追加

ＦｉｎＦＥＴのシリコンフィンをエッチングするために用いられる最終ハードマスクを構築するための３つのマスクによる方法 - 特許庁

If the insulating film is a light-shielding resin film to be formed of a pillar-shaped spacer, increase in the number of masks can be suppressed.例文帳に追加

絶縁膜は遮光性樹脂膜、柱状スペーサーで形成すると、マスク枚数の増加を抑えることができる。 - 特許庁

After removing the film structure by etching, the remaining first and second masks are removed.例文帳に追加

第１のマスク及び第２のマスクを用いて、膜構造をエッチングした後、残留した第１のマスク及び第２のマスクを除去する。 - 特許庁

To provide a method and a CPAP (Continuous Positive Airway Pressure) apparatus for characterizing a plurality of different mask systems, e.g., masks and hoses.例文帳に追加

複数の異なるマスクシステム、例えばマスクおよびホースを特徴付ける方法およびＣＰＡＰ装置を提供する。 - 特許庁

Divisions 4 each composed of a plurality of masks 5 arranged at an equal pitch are formed on at least the conductor layer 2.例文帳に追加

少なくとも一つの導体層２に等ピッチに並んだ複数のマーク５にて構成される目盛り４を形成する。 - 特許庁

Thereby, a plurality of masks 11A having pattern shapes corresponding to the first magnetic parts are provided on the magnetic film 5.例文帳に追加

これにより、第１磁性部に対応したパターン形状を有する複数のマスク１１Ａを磁性膜５上に設ける。 - 特許庁

Further, when a variation in the input signal exceeds the predetermined value α, the device masks the switching operation for a period of constant time.例文帳に追加

さらに、入力信号の変化量が所定の値αを越えると、一定期間切り替えをマスクするようにした。 - 特許庁

To provide a mask which efficiently cleanses air and reduces stuffiness compared with the masks of a conventional filter form, etc.例文帳に追加

従来のフィルター方式等のマスクと比較して、効率的に空気を清浄化し、息苦しさを低減したマスクの提供。 - 特許庁

To change the shape of a well region without increasing the number of masks and to increase the reliability and breakdown voltage of a device.例文帳に追加

マスク枚数を増やすことなく、浅いウェル領域の形状を変更し、デバイスの信頼性と耐圧の向上をはかる。 - 特許庁

Five of the ancient masks owned by Kishu Toshogu Shrine and their replicas are on display. 例文帳に追加

紀(き)州(しゅう)東(とう)照(しょう)宮(ぐう)が所蔵する古いお面のうちの５点とそのレプリカが展示されているのだ。 - 浜島書店 Catch a Wave

Further optical masks having both light inhibition plane region and light transmission plane region are arranged on upstream optical path of each photoreceiver.例文帳に追加

光阻止面領域および光透過面領域を有する光マスクが、各受光器の上流の光路に配置される。 - 特許庁

The plurality of gradations of the respective masks are spatially and temporally averaged, and halftones of these gradations are expressed.例文帳に追加

各マスクにおける複数の階調が、空間的かつ時間的に平均化され、これらの中間調が表現される。 - 特許庁

Bags each of which stores a plurality of masks are prepared, stuck to wall faces and ornaments on the evacuation route, and kept always on hand.例文帳に追加

マスクを複数個収納するための袋を準備し、避難経路上の壁面や置物などに付着させ、常備する。 - 特許庁

The signal masks of respective threads 3-1 to 3-n and signal holding information are stored in a signal state table 8 in a user area.例文帳に追加

ユーザ領域中のシグナル状態表８には、各スレッド3-1 〜3-n のシグナルマスク及びシグナル保留情報が格納される。 - 特許庁

Black masks 23 of the counter panel 21 are formed from aluminum, silver or an alloy thereof and are used in common as reflection layers.例文帳に追加

対向パネル２１のブラックマスク２３は、アルミニウム、銀もしくはそれらの合金によって形成され、反射層を兼ねている。 - 特許庁

The sacrificial film is patterned using, as masks, the barrier layer and the polysilicon layer for a hard mask to form a storage electrode area.例文帳に追加

バリア層とハードマスク用ポリシリコン層をマスクにして犠牲酸化膜をパターニングして格納電極領域を形成する。 - 特許庁

Then, an etching process is performed using the first mask pattern 121 and the second mask pattern 123 as etching masks.例文帳に追加

そして、第１マスクパターン１２１及び第２マスクパターン１２３をエッチングマスクとして使用してエッチング工程を実施する。 - 特許庁

To simultaneously transfer patterns to both surfaces of a wafer by one-time exposure after accurately positioning masks with respect to the wafer.例文帳に追加

ウエハに対してマスクを高精度に位置合せした上で、一度の露光でウエハの両面にパターンを同時露光すること。 - 特許庁

To provide a supply control system, or the like for appropriately controlling the supply of lots and masks to a photo device.例文帳に追加

フォト装置へのロットとマスクの供給を適切に制御することが可能な供給制御システム等を提供すること。 - 特許庁

The evaporation mask 100 is provided with individual masks 101, a support substrate 102, a frame 103, and conductive regions 104.例文帳に追加

蒸着マスク１００は、個別マスク１０１、支持基板１０２、フレーム１０３、導電性領域１０４を備えている。 - 特許庁

When the compressed distortion film is eliminated, part of the compressed distortion film is left intact in the area covered by one of the masks.例文帳に追加

圧縮歪膜を除去する際に、一方のマスクにのみ覆われていた領域に、圧縮歪膜の一部を残す。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device with rectangular contact holes formed thereon without increasing the number of masks or processes.例文帳に追加

マスク数や工程を増やすことなく矩形のコンタクトホールを形成する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁