「MASKS」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

This can be a useful technique for filtering events, if the duplicate file descriptors are registered with different events masks. 例文帳に追加

複製したファイルディスクリプタを異なるeventsマスクで登録すれば、イベントをフィルタリングするのにこの機能は有用な手法である。 - JM

During the celebratory feast under cherry blossoms in full bloom, two guys wearing masks of Buaku (demons) appeared with a female mago (packhorse driver). 例文帳に追加

桜が満開の中での祝宴の最中、武悪の面をかぶった二人の奴が女馬子とともに現れる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Okame later became worshipped by carpenters and even today gohei with Otafuku (Okame) masks are used as decoration at ridgepole-raising ceremonies. 例文帳に追加

その後、大工の信仰を得るようになり今日でも上棟式にはお多福の面を着けた御幣が飾られている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Boron ions 13 for a source/drain region formation are injected by using the sidewall 12 and the gate electrode 6a as masks.例文帳に追加

サイドウォール１２及びゲート電極６ａをマスクとしてソース／ドレイン領域形成用のボロンイオン１３を注入する。 - 特許庁

To provide a conveying structure for moving substrates and/or masks mutually and relatively within a lithograph apparatus.例文帳に追加

リトグラフ装置内で互いに相対的に基材および／またはマスクを移動するための搬送構造体が提示されている。 - 特許庁

When a scan test mode signal designating the scan test mode is input, the selection circuit 15 masks the HW fixed key.例文帳に追加

スキャンテストモードを指定するスキャンモード信号が入力すると、モード選択回路１５は、ＨＷ固定鍵をマスクする。 - 特許庁

The mask pattern is divided into a plurality of exposure masks (S3 to S6) until the phase shifter is arranged without phase contradictions.例文帳に追加

また、位相シフタが位相矛盾なく配置されるまでマスクパターンを複数枚の露光マスク（Ｓ３〜Ｓ６）に分割する。 - 特許庁

By performing superposition exposure using the two sheets of gray scale masks, the gradation can be made into twelve gradations.例文帳に追加

この２枚のクレースケールマスクを使用して重ね合わせ露光することにより、階調を１２階調とすることができる。 - 特許庁

The photoresist pattern can decrease the number of masks necessary for manufacturing the thin film transistor.例文帳に追加

本発明の提供するフォトレジストパターンは、薄膜トランジスタを製作する時に必要なマスクの数を減少することができる。 - 特許庁

Then the fluorine-containing quartz film 12 is worked with plasma by using chromium masks 21 to 23 and formed into a step-like shape.例文帳に追加

その後に、クロムマスク２１〜２３を用いて弗ッ素含有石英膜１２をプラズマ加工して階段形状を形成する。 - 特許庁

A mask circuit 40 masks switching noise component of the motor included in the output from the comparator 34 by utilizing the pulse.例文帳に追加

マスク回路４０は、コンパレータ３４の出力に含まれるモータのスイッチングノイズ成分を上記パルスを利用してマスクする。 - 特許庁

Thereafter, a gate electrode layer is obtained by patterning the layer 14 by dry etching by using the resist layers 18a and 18b as masks.例文帳に追加

この後、レジスト層１８ａ，１８ｂをマスクとするドライエッチングにより層１４をパターニングしてゲート電極層を得る。 - 特許庁

Thereafter, a thermal oxidation is so performed by using the oxidation preventing films 4a, 4b as oxidation preventing masks as to form a protective oxide film 7.例文帳に追加

その後、酸化防止膜４ａ、４ｂを酸化防止マスクにして熱酸化を行い、保護酸化膜７を形成する。 - 特許庁

Then with the gate electrode 4 and the sidewall 12 as masks, ion implantation is performed to form an impurity region 13.例文帳に追加

次に、ゲート電極４及びサイドウォール１２をマスクとしてイオン注入を行い、不純物領域１３を形成する。 - 特許庁

For Noh, performers are mustered only once for "mutual agreement and arrangement" before the actual performance as a rule and moreover, masks and costumes are not used. 例文帳に追加

能では事前に出演者が勢揃いする「申し合わせ」は原則一回であり、しかも面や装束は使用しない。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Just how well can masks block the, even smaller than pollen, yellow sand dust? I think it much more of a nuisance than pollen. 例文帳に追加

花粉よりも小さな黄砂をマスクでどれだけ防ぐことが出来るのか？花粉よりもずっと厄介者のように思います。 - Tanaka Corpus

Just how well can masks block the, even smaller than pollen, yellow sand dust? I think it much more of a nuisance than pollen.例文帳に追加

花粉よりも小さな黄砂をマスクでどれだけ防ぐことが出来るのか？花粉よりもずっと厄介者のように思います。 - Tatoeba例文

A DHCP relay agent terminating a public data switched network may have thousands of such configured circuits and masks. 例文帳に追加

公衆データ交換ネットワークの末端をなすDHCPリレー・エージェントは, そのように構成された回路やマスクを何千と持つだろう. - コンピューター用語辞典

Most of them wear masks to prevent hay fever. Around this time of year, people suffer from itchy eyes and a runny nose.例文帳に追加

ほとんどの人は花粉症を予防するためにマスクをしています。毎年この時期に目のかゆみや鼻水に苦しみます。 - Weblio英語基本例文集

Applicationstranslate event keycodes and modifier masks into keysyms using a keysymtable which contains one row for each keycode and one column for various modifier states.例文帳に追加

キーシンボルテーブルは、キーシンボルのそれぞれに対して 1 行、モディファイアの各種状態に対して 1 列を持っている表である。 - XFree86

Besides these, there are Juniten masks (latter part of the Heian period, important cultural properties) in the Kyoto National Museum, which were in the possession of To-ji Temple. 例文帳に追加

このほか、京都国立博物館には東寺旧蔵の十二天面（平安後期、重要文化財）がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method for manufacturing mask blanks suppressing the deterioration of flatness, and a method for manufacturing transfer masks.例文帳に追加

平坦度が悪化することを抑制したマスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing device by which dustproof masks or glasses become unnecessary, and operation is continued while maintaining a good field of vision.例文帳に追加

防塵用のマスクやめがねを不要にし、良好な視界を維持しつつ作業を継続できる処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a CMOS image sensor in which the number of masks is decreased when a pad and a fuse are exposed.例文帳に追加

パッド及びヒューズの露出時のマスク数を減少させたＣＭＯＳイメージセンサの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Such masks may be secured by one or more knitted headbands 216a, 218b to the head of a wearer.例文帳に追加

このようなマスクは、一つ以上の編成ヘッドバンド２１６ａ、２１８ｂにより、装用者の頭に固着することができる。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure mask of a constitution, wherein the exposure mask is provided with a plurality of split masks and even though a defect is caused in the split masks, a required pattern can be exposed by an electron beam exposure, an exposure method using this mask and an aligner.例文帳に追加

複数の分割マスクを配設した露光用マスクにおいて、分割マスクに欠陥が生じていても所要のパターンを電子線露光により露光することが可能な電子線露光用マスクと露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of lifting off the first and second protective films formed on the first and second resist masks, by using the first and second resist masks, exposing the surface of the substrate, in which the first and second protective films are formed, and forming electrodes over the entire surface.例文帳に追加

第１および第２のレジストマスクを用いて、それらの上に形成される第１および第２の保護膜のリフトオフを行い、第１および第２の保護膜が形成された半導体基板の表面を露出させ、全面に電極を形成する。 - 特許庁

When the anneal processing is carried out with piling up the shadow masks, the anneal processing is carried out after making the circumference edge of the skirt part of the shadow mask 21 have waves so that reduction gas may fully flow in between the skirt parts 23 of the piled shadow masks.例文帳に追加

シャドウマスク２１を積み重ねてアニール処理する際に、積み重ねたシャドウマスクのスカート部２３間に還元ガスが十分に流入するように、スカート部の周縁部を波打ちさせてからシャドウマスクを積み重ねアニール処理をすること。 - 特許庁

The upper layer portion (3) is selectively and anisotropically dry-etched using the masks 41 until the upper surface of the intermediate portion 2 is exposed, and then, the intermediate portion 2 is selectively etched until the upper surface of the lower layer portion 1 is exposed, and finally, the masks 41 are selectively etched.例文帳に追加

そして、マスク４１を用いて中層部２の上面が出るまで上層部３を選択的かつ異方的にドライエッチングし、次に、下層部１の上面が出るまで中層部２を選択的にエッチングし、最後に、マスク４１を選択的にエッチングする。 - 特許庁

Attachment of different masks on the two printers 10 enables a parallel solder printing on both front and back sides of circuit board of the same type, or attachment of the same masks enables a parallel solder printing on front surfaces of the circuit boards.例文帳に追加

２台の印刷機１０に異なるマスクを取り付け、同一型番の回路基板の表面と裏面とへのはんだの印刷を並行して行い、あるいは同一のマスクを取り付け、回路基板の表面へのはんだの印刷を並行して行うことができる。 - 特許庁

Grooves (trenches 2a) are formed on the surface of the substrate 2 by etching the portions of the mask layer 6 under the sidewalls 10, by using the sidewalls 10 as masks and etching the substrate 2 by using the mask layer 6 and sidewalls 10 as masks.例文帳に追加

サイドウォール１０をマスクとして当該サイドウォールより下のマスク層部分をエッチングし、当該マスク層６およびサイドウォール１０をマスクとして半導体基板２をエッチングすることにより、半導体基板２の表面に溝（トレンチ２ａ）を形成する。 - 特許庁

The inkjet recording apparatus comprises an edge detection unit for detecting an edge portion and a non-edge portion of image data, a plurality of edge portion thinning masks for thinning image data on the edge portion, and a memory for storing a plurality of non-edge portion thinning masks for thinning image data on the non-edge portion.例文帳に追加

画像データのエッジ部および非エッジ部を検出するエッジ検出部と、エッジ部の画像データを間引くための複数のエッジ部間引きマスクと、非エッジ部の画像データを間引くための複数の非エッジ部間引きマスクとを格納するメモリとを備える。 - 特許庁

The device includes a plurality of bit masks representing a status concerning the queue state variable of different queues and the individual masks are combined by the AND operation of each bit to decide which queue is selectable for releasing data to the output.例文帳に追加

前記装置は、異なるキューのキュー状態変数に関するステータスを表す複数のビットマスクを含み、それぞれのマスクがビットごとの論理積演算で組み合わされて、どのキューが出力にデータを解放するために選択可能かどうかが決定される。 - 特許庁

The coarse surface making method of the semiconductor substrate for the solar cell has the steps of: preparing a tape 10 for masks in which predetermined hole patterns are formed; sticking the tape 10 for masks to a front surface of a semiconductor substrate W; and removing the tape 10 for masks, while immersing the semiconductor substrate W in etchant and selectively etching the front surface of the semiconductor substrate W.例文帳に追加

本発明の太陽電池用半導体基板の粗面化方法は、所定の孔パターンが形成されたマスク用テープ１０を準備する工程と、マスク用テープ１０を半導体基板Ｗの表面に貼合する工程と、半導体基板Ｗをエッチング液に浸漬し、半導体基板Ｗ表面を選択的にエッチングするとともに、マスク用テープＷを除去する工程とを有する。 - 特許庁

Or a value obtained by AND operation which masks the most significant bit of a set register value is set as a new duty.例文帳に追加

あるいはレジスタ設定値の最上位ビットをマスクするＡＮＤ演算によって得られる値を新規デューテイとして設定する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device, which decreases the number of masks when a column spacer is formed and does not cause problems of positioning precision in sticking, and its manufacturing method.例文帳に追加

柱スペーサを形成するに際して、マスク枚数削減を図り、貼り合わせ時の位置合わせ精度の問題が生じない。 - 特許庁

To provide a thin film transistor array substrate for forming a thin film transistor array at a reduced number of masks and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

マスク数を減少させて薄膜トランジスタアレイを形成する薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, by which a capacitor having an MIM structure can be formed using a small number of masks.例文帳に追加

ＭＩＭ構造のキャパシタを、少ないマスク枚数で形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Each of the masks 26 consists of porous conductor and electrically insulated from other conductor and is in floating potential state.例文帳に追加

各マスク２６は、多孔状の導体から成り、かつ電気的には、他の導体から絶縁されていて浮遊電位状態にある。 - 特許庁

To provide a self-alignment technique capable of forming a fine pattern regardless of the overlay error between first and second exposure masks.例文帳に追加

第１の露光マスクと第２の露光マスクのオーバーレイ誤差によらず、微細なパターンを形成できる自己整合技術を提供する。 - 特許庁

The self-alignment contact is formed by etching the interlayer insulating film 530 and a dielectric layer 310 using the caps as masks.例文帳に追加

前記キャップをマスクとして、前記層間絶縁膜５３０と誘電体層３１０をエッチングして自己整合コンタクトを形成する。 - 特許庁

The process is to form a stack which comprises an insulating layer and stop layer, and on the upper part of which two masks are formed.例文帳に追加

この工程は、スタックの上方に２個のマスクが形成される絶縁体層とストップ層を含むスタックを形成するものである。 - 特許庁

A mask part 1 masks one part of a parallel signal 3 at a signal level designated by a level designating part 4 and outputs a mask signal 5.例文帳に追加

マスク部１は、レベル指定部４が指定する信号レベルで並列信号３の一部をマスクし、マスク信号５を出力する。 - 特許庁

The mask processing unit 34 masks the system clock SCK when the floating state is detected by the detection circuit 32.例文帳に追加

そして、マスク処理部３４は、検出回路３２によりフローティング状態が検出された場合に、システムクロックＳＣＫをマスクする。 - 特許庁

While asserting the REQ2_LOW signal, an AND circuit 13 masks the client 2(22) from the REQ2.例文帳に追加

そして、ＡＮＤ回路１３は、ＲＥＱ２＿ＬＯＷ信号がアサートされている期間、クライアント２（２２）からのＲＥＱ２をマスクする。 - 特許庁