「MASKS」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

For biological information data, users are classified by individual masks and they are filtered to the subsets of user gene arrays.例文帳に追加

生体情報データは、個人マスクでユーザを分類し、ユーザ遺伝子配列のサブセットにフィルタリングする。 - 特許庁

The CPU 16 processes the image data captured and masks picture elements of the part not requiring printing.例文帳に追加

そして、ＣＰＵ１６は取り込んだ画像データに画像加工処理して、印刷不要部分の画素をマスクする。 - 特許庁

To provide halftone phase shifting masks having high dimensional accuracy in a high yield.例文帳に追加

寸法精度の高いハーフトーン位相シフトマスクを高い歩留まりで提供することが本発明の課題である。 - 特許庁

Moreover, the agent may be also used by performing treatment to products which may be used for allergy prevention (for example masks).例文帳に追加

また、アレルギー予防に用いられ得る製品（例えば、マスク）に処理を施すことによっても用いられ得る。 - 特許庁

The tantalum film 15 is dry-etched to a specified film thickness while using the silicon oxide films 16 as masks.例文帳に追加

次に、この酸化シリコン膜１６をマスクにして、タンタル膜１５が所定の膜厚になるまでドライエッチングする。 - 特許庁

A plurality of first light shielding masks 85 are formed on a first transparent substrate 78 of a liquid crystal shutter 62.例文帳に追加

液晶シャッタ６２の第１透明基板７８上に複数の第１遮光マスク８５を形成する。 - 特許庁

However, the calling process and child processes still have distinct signal masks and sets of pending signals. 例文帳に追加

但し、呼び出し元のプロセスと子プロセスは、プロセス毎に、シグナル・マスク (signal mask) と処理待ちシグナルの集合を持っている。 - JM

By this combination of ion implantation masks, a plurality of annular ion implantation regions are formed.例文帳に追加

この複数のイオン注入用マスクの組み合わせで複数の環状のイオン注入領域を形成する。 - 特許庁

A masking circuit 19 masks this area to obtain satisfactory color reproducibility up to the screen end part.例文帳に追加

マスキング回路１９は、この領域をマスクすることで、画面端部まで良好な色の再現性を得る。 - 特許庁

Two men broke in wearing masks, forced her to drive to the car park and decked her out in enough explosives to take down a house.例文帳に追加

マスク姿の2人組の男が 無理矢理駐車場へ 家を解体できるほどの 爆薬を付けてだ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

They're real life superheroes, and in the two years since the first ordinary citizens donned capes and masks, the movement has started to spread.例文帳に追加

この2年間でまず最初に一般市民が ケープとマスクを着用 動きは広がり始めています - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

Principally, dancers wear heavy white makeup but no masks, insteading having a natural face or light makeup. 例文帳に追加

仮面を付けずに白塗りの厚化粧をするのが原則であるが、素顔のままや薄化粧の場合もある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

From the Muromachi period on, the position of the tenjo-mayu became still higher, and the eyebrow style came to be incorporated into Noh masks. 例文帳に追加

室町時代以降は殿上眉の位置はさらに高くなり、能面にも写されるようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

An exclude mask is one or multiple file masks that must not be matched by the files matching the mask.例文帳に追加

除外マスクは、マスクにマッチするファイルによってマッチすべきでない一つもしくは複数のファイルマスクです。 - PEAR

With such a configuration, the number of photo masks used in the photolithography technique can be made five.例文帳に追加

このような構成とすることで、フォトリソグラフィー技術で使用するフォトマスクの数を５枚とすることができる。 - 特許庁

An ID are masking circuit 72 masks the traverse signal of the ID area based on a PEP(phase-encoded part of a control track) data.例文帳に追加

ＩＤ領域マスク回路７２は、PEPデータに基づいて、ＩＤ領域のトラバース信号をマスキングする。 - 特許庁

and that finally, being drawn into ambush at Carthage, he was thrown into prison, and assassinated by a band of men disguised in masks. 例文帳に追加

最後にカーセジにおびき出されて投獄され、覆面集団によって暗殺されたことを知った。 - JULES VERNE『80日間世界一周』

In the piezoelectric substrate where masks with openings are arranged on both principal planes of the piezoelectric substrate at a prescribed interval between the principal planes and the masks and piezoelectric films are epitaxially grown under atmospheric pressure, the piezoelectric films formed at the openings of the masks and their vicinities are formed in trapezoidal shapes nearly in almost middles of both the principal planes of the piezoelectric substrate.例文帳に追加

圧電基板の両主面と所定の間隔を隔して開口部を有するマスクを配置し、大気圧下で圧電膜をエピタキシャル成長させた圧電基板であって、前記マスクの開口部とその近傍に形成される前記圧電膜が前記圧電基板両主面のほぼ中央部に台形状に形成される。 - 特許庁

Masks 16A and 16B are driven in the ±X direction in the diagram, and when there is a part in an area subject to peripheral exposure that requires no irradiation, the masks 16A and 16B cover the glass board G partly to shield the light.例文帳に追加

マスク１６Ａ、１６Ｂは、図の±Ｘ方向に駆動され、周辺露光の対象エリア中で光を照射したくない部分があるときにはこのマスク１６Ａ、１６Ｂがガラス基板Ｇを部分的に覆い、遮光する。 - 特許庁

The screen printing equipment has at least two masks and a means for forming the mask for screen printing of which the opening pierces in the direction of the thickness of the masks laid on each other.例文帳に追加

少なくとも二枚のマスクと、前記各マスクを重ねることによりその厚み方向に開口が貫通するスクリーン印刷用のマスクを構成するマスク構成手段と、を備えることを特徴とするスクリーン印刷装置。 - 特許庁

To provide a proper apparatus and method for setting up lithographic processing, and/or to provide a proper method and a system for designing masks for use in such lithographic processing, and to manufacture lithographic masks.例文帳に追加

リソグラフプロセスを設定するための良好な装置や方法を提供すること、及び／又は、こうしたリソグラフプロセスで使用するマスクを設計し、そしてリソグラフマスクを製造するための良好な方法およびシステムを提供する。 - 特許庁

A laminated film to be etched 2 is etched by using the silicon oxide film and the silicon nitride film as the head etching masks 3a, and the hard etching masks 3a are removed by using a decompressed hydrofluoric acid vapor under a heated state.例文帳に追加

ハードエッチングマスク３ａとしてシリコン酸化膜やシリコン窒化膜を用いて、被エッチング積層膜２のエッチングを行った後、減圧かつ加熱状態のフッ酸蒸気を用いてハードエッチングマスク３ａを除去する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a color filter which enables a cost for revising masks to be reduced when the masks to be used for forming respective layers of the color filter are revised.例文帳に追加

本発明は、カラーフィルタの各層の形成に用いるマスクを改版した場合に、その改版に際してのコストを削減することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

Thus, since the mask does not need to provide high spatial frequencies, the masks are configured to create only low frequency components, thereby allowing fabrication of simpler masks having larger structures.例文帳に追加

従って、マスクが高い空間周波数を提供する必要がないので、マスクは低い周波数成分のみを生成するように構成され、これにより、より大きな構造を有するより単純なマスクの製造が可能になる。 - 特許庁

A position deviation and an image of a risk control pattern predicted after multiple exposure of masks used for the multiple exposure are obtained, and an image after overlay exposure by the masks is predicted based on the above image and position deviation information.例文帳に追加

多重露光に用いられる各マスクの多重露光後に予測される危険管理パターンの像、並びに位置偏差を取得し、前記像と位置偏差情報を元に各マスクによる重ね露光後の像を予測する。 - 特許庁

A resist master disk RD is exposed using enlarging masks MK along a rugged pattern by an electron beam(EB) plotting method in which lump-sum exposure is performed for each predetermined area while reducing the pattern of the enlarging masks.例文帳に追加

凹凸形状のパターンに沿った拡大マスクＭＫを用いて、当該拡大マスクのパターンを縮小しながら所定領域毎に一括露光する電子線（ＥＢ）描画法により、レジスト原盤ＲＤを露光する。 - 特許庁

In this image processor, small area masks 19C, 19M, 19Y for u*v pixels are set in masks 18C, 18M, 18Y with m*n pixels including a target pixel 10, and a total sum calculation circuit 11 calculates the total sum of pixel densities.例文帳に追加

注目画素１０を含むｍ＊ｎ画素のマスク１８Ｃ，１８Ｍ，１８Ｙ内にｕ＊ｖ画素の小領域マスク１９Ｃ，１９Ｍ，１９Ｙを設定し、総和算出回路１１で画素濃度の総和を算出する。 - 特許庁

To overcome a problem that alignment between layers is likely to become defective since a plurality of complementary split masks are used in manufacturing a semiconductor device having a multi-layer pattern using complementary split masks having alignment marks.例文帳に追加

アライメントマークを有する相補分割マスクを使用して複数レイヤのパターンを有する半導体デバイスを形成する際に、相補分割マスクが複数枚存在するため、各レイヤ間のアライメントが不良になりやすい。 - 特許庁

To provide a method and a CPAP apparatus for characterizing a plurality of different mask systems, e.g., masks and hoses.例文帳に追加

複数の異なるマスクシステム、例えばマスクおよびホースを特徴付ける方法およびＣＰＡＰ装置を提供する。 - 特許庁

A tungsten film 3 is etched anisotropically by an RIE method, while using the patterns 10 of the SiN films as protective masks.例文帳に追加

このＳｉＮ膜のパターン１０を保護マスクとしてＲＩＥ法によってタングステン膜３を異方性エッチングする。 - 特許庁

To obtain a production process of a silicon carbide semiconductor device capable of reducing the number of processing steps and the number of masks to be used.例文帳に追加

処理工程数、使用マスク数の削減を図った炭化珪素半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁

A contact junction 38 is formed by using, as masks, the gate electrode and the insulating member, after removing the hardmask.例文帳に追加

ゲートハードマスクを除去した後、ゲート電極と絶縁部材をマスクにしてコンタクトジャンクション３８を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated device capable of coping with many kinds of LCDs without changing masks.例文帳に追加

マスクを変更せずに多品種のＬＣＤに対応することができる半導体集積装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon carbide semiconductor device, by which the number of processing steps, and the number of masks to be used are reduced.例文帳に追加

処理工程数、使用マスク数の削減を図った炭化珪素半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁

The mask circuit masks, for a predetermined period of time, the setting data received by the antenna switch via the common data signal line.例文帳に追加

マスク回路は、アンテナスイッチが共通のデータ信号線を通じて受け取る設定データを、所定期間、マスクする。 - 特許庁

To provide alternating phase shift masks for multiple phase shift mask resolution levels for multiple feature classes.例文帳に追加

多重造形クラスに対する多重位相偏移マスク解像度レベル用の交番位相偏移マスクを製作する。 - 特許庁

To execute circuit change for a semiconductor integrated circuit while reducing the number of masks to be changed.例文帳に追加

変更が必要なマスクの数の削減を図りつつ、半導体集積回路の回路変更を行えるようにする。 - 特許庁

The P mode or the C is displayed by punching and forming the P mark and the C mark at the masks 21 and 26.例文帳に追加

また、ＰマークおよびＣマークをマスク２１，２６に打抜き形成してＰモードまたはＣモードを表示する。 - 特許庁

Then, ion implantation is performed using the silicon oxide films 21, 24 as masks to form n+ type source regions 4.例文帳に追加

次に、シリコン酸化膜２１、２４をマスクとしたイオン注入を行ってｎ+型ソース領域４を形成する。 - 特許庁

When the insulation film is formed using a light-blocking resin film and a columnar spacer, the increase in number of masks can be suppressed.例文帳に追加

絶縁膜は遮光性樹脂膜、柱状スペーサーで形成すると、マスク枚数の増加を抑えることができる。 - 特許庁

The silicon nitride film 50 is removed, by etching by use of the side wall film 80 and the first hard mask 60 as masks.例文帳に追加

そして、側壁膜８０及び第１ハードマスク６０をマスクとしてシリコン窒化膜５０をエッチング除去する。 - 特許庁

The shapes of the masks are applied by deformation examples used for decreasing the energy concentration.例文帳に追加

上記マスクの形状は、上記エネルギ集中の減少に用いられるであろう変形例によって与えられる。 - 特許庁

The mask device 7 comprises first and second masks 75 and 76 corresponding to a prescribed substrate 10.例文帳に追加

本発明のマスク装置７は、所定の基板１０に対応する第１及び第２のマスク７５、７６を有する。 - 特許庁

A method of generating masks for printing a pattern including a plurality of features having varying critical dimensions is provided.例文帳に追加

臨界寸法が変わる複数のフィーチャを含むパターンをプリントするためのマスクを生成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide rapid release granules or their preparation, which masks the discomfort functional property of a medicinally active ingredient.例文帳に追加

薬効成分の不快な官能的性質を隠蔽された速放性粒状物又はその製剤を提供する。 - 特許庁