「MASKS」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The masks 53 are made of material with resistance to the DRIE, for example, photoresist, alumina, etc.例文帳に追加

マスク５３はＤＲＩＥに抵抗性のある材料であり、たとえばフォトレジストとかアルミナなどである。 - 特許庁

The trenches 7, 8 are formed by using insulating films 2-4 formed on a silicon substrate 1 as masks.例文帳に追加

シリコン基板１の上に形成した絶縁膜２〜４をマスクとしてトレンチ７、８を形成する。 - 特許庁

To provide an underarm deodorant composition which is based on 3-hydroxy-3-methyhexanoic acid and effectively masks or deodorizes underarm odor.例文帳に追加

３−ヒドロキシ−３−メチルヘキサン酸を効果的にマスキング又は消臭する組成物の提供。 - 特許庁

The gate pattern and L-shaped spacers are used as masks for forming the source/drain regions.例文帳に追加

ゲートパターンとＬ型スペーサーは、ソース／ドレーン領域を形成するためのマスクとして利用される。 - 特許庁

He was devoted to the creation of Noh masks and owned one set of the required instruments. 例文帳に追加

能楽方面では能面作りに没頭し、能面作りに必要な道具を一式揃えていた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

1. Masks and reticles used to manufacture integrated circuits that fall under any of item (i) through item (viii) 例文帳に追加

（一）　第一号から第八号までのいずれかに該当する集積回路の製造用のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

The statue is housed within the main hall and numerous Okame dolls and masks donated by believers are also displayed. 例文帳に追加

像は本堂内にもあり、信者から寄進されたおかめ人形や面も多数展示されている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Paste is printed by using metal masks 1A, 1B, having transparent trench type printing patterns 2.例文帳に追加

透溝状の印刷パターン２を有するメタルマスク１Ａ、１Ｂを用いてペーストの印刷を行う。 - 特許庁

To improve various problems by allowing boundaries of drawing areas of a plurality of masks to coincide with one another.例文帳に追加

複数のマスクの描画領域の境界が一致していることが種々の問題を改善する。 - 特許庁

To measure the precision in superposition of masks in a photolithography process accurately regeneratively with high reproducibility.例文帳に追加

フォトリソグラフィー工程でのマスクの重ね合わせ精度を正確にかつ再現性よく測定する。 - 特許庁

From what I understand, both suspects, the shooters, were a male and female in ski masks.例文帳に追加

分かっているのは 両方の容疑者は銃撃犯 スキーマスクを 着けた男性と女性でした - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

He used it to rehang one of the masks in the living room before the police arrived.例文帳に追加

警察が到着する前に その釘を リビングルームにあった仮面の一つを かけ直すのに使った - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

If you say anything other than a couple of white guys came in with masks and returned the money, were gonna have problems.例文帳に追加

マスクを被った白人二人組みが 金を返しに来た。 それ以外喋ると 俺らはヤバイ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

Cities of Kyoto and Osaka were the central cites of stories such as; "Kakubei Jishi" (traveling entertainers who wear lion masks and perform tumbling acts) and "Tengu Kaijo" (a circular on Tengu). 例文帳に追加

『角兵衛獅子』『天狗廻状』のように京都・大阪市が中心的な舞台となる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Noh masks are made by carving wood (mainly Japanese cypress) and coloring it, a process called "omote wo utsu" (lit. to strike a mask). 例文帳に追加

能面は木（桧が多い）を彫り、彩色して製作するが、この工程を「面を打つ」という。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The performers wear masks during the performance and have no spoken parts, and are accompanied by a small instrumental ensemble including a gong, a drum, and a Japanese flute (the ensemble is called a "hayashi"). 例文帳に追加

仮面をつけた演者が、鉦、太鼓、笛の囃子に合わせ、無言で演じる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Players wear Bugaku (court dance and music) masks representing deep blue-colored dragon heads and carry silver drumsticks. 例文帳に追加

紺青色の龍頭を模した舞楽面を着け、銀色の桴（ばち/細い棒のこと）を携える。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

It is composed of gyodo (moving pageant in which the participants wore masks covering their heads and led by a figure called Chido who cleans the road) and a series of comical pantomime performances. 例文帳に追加

行道という一種のパレードと、滑稽味をおびた無言劇で構成される。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

File masks are used to select single files and folders or groups of them.例文帳に追加

ファイルマスクは単一のファイルやフォルダ、もしくはそれらのグループを選択するために使用されます。 - PEAR

You probably want the mask file to be all black until you get used to the way masks work.例文帳に追加

マスクのされ方が理解できるまでは、全面が黒色のマスクファイルを用いておくとよいだろう。 - XFree86

To facilitate mask identification in photomasks (resist masks) of which the light shielding body patterns consist of a resist material, by which mask management can be efficiently carried out in manufacturing LSIs by using the resist masks.例文帳に追加

遮光体パターンがレジスト材からなるフォトマスク(レジストマスク)におけるマスクの識別を容易にし、もってレジストマスクを用いてのＬＳＩ製造に際してのマスク管理を効率的に行ない得るようにすること。 - 特許庁

Masks 31 for vapor deposition are superimposed on an element substrate 2, and, in the element substrate 2, thin films are deposited on regions corresponding to the mask opening parts 32 formed at the masks 31 for vapor deposition.例文帳に追加

素子基板２に蒸着用マスク３１を重ねて蒸着を行い、素子基板２において、蒸着用マスク３１に形成されているマスク開口部３２に対応する領域に薄膜を形成する。 - 特許庁

Two masks 23 and 24 are laminated and an object 33 to be machined is irradiated with the laser beam 34 through an opening pattern 32 for machining formed with the overlap of openings 30 and 31 of both masks 23 and 24.例文帳に追加

２枚のマスク２３、２４を重ね、両マスク２３、２４の開口３０、３１の重なりによって形成された加工用開口パターン３２を通して加工対象物３３にレーザー光３４を照射する。 - 特許庁

In the Fe-Ni alloy strip for shadow masks or the Fe-Ni-Co alloy strip for shadow masks, wetting tension is made to (34.0 to 64.00) mN/m.例文帳に追加

シャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ系合金条又はシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金において、ぬれ張力が３４．０ｍＮ／ｍ以上６４．００ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

For verification of connections of two or more masks, mask position is decided through pattern matching between the mask pattern data of masks and image data, and respective mask images are combined on the basis of these position information pieces.例文帳に追加

２以上のマスクの接続を確認する場合に、マスクのマスクパターンデータと画像データとをパターンマッチングすることによりマスク位置を決め、この位置情報を基にそれぞれのマスク画像を合成する。 - 特許庁

To provide a composition imparting excellent antivirus and antibacterial property to commercial gauze masks, nonwoven masks and the like, which are not treated with antibacterial treatment and the like, and to provide a highly safe antivirus sanitary goods and the like.例文帳に追加

抗菌処理などの施されていない市販のマスク等や不織布マスク等に優れた抗ウイルス抗菌性を付与でき、かつ安全性の高い抗菌抗ウイルス衛生用品等を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method, wherein even in such a case that two or more masks are formed in layers on the surface of a substrate to be treated, an etching operating corresponding to the respective membranes of the masks is completed in a single manner.例文帳に追加

被処理部材の表面に２種以上のマスクが多層に形成されている場合であっても各マスクの膜質に対応したエッチングを一度で行うことが可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for checking a positional relation between each of a plurality of exposure masks in a mask holder and a substrate as an exposure object and for easily adjusting the initial position and posture of each of the plurality of exposure masks.例文帳に追加

マスクホルダー内の複数の露光用マスクの夫々と、露光対象基板との位置関係をチェックし、容易に複数の露光用マスクの夫々の初期位置及び姿勢をセットする方法を提供する。 - 特許庁

The dithering processing part 42 controls a plurality of masks made by arranging a plurality of gradations two-dimensionally with mutually different patterns so that all the masks are sequentially switched during the open period of the shutter glasses 6.例文帳に追加

ディザリング処理部４２は、複数の階調を互いに異なるパターンで２次元配列させてなる複数のマスクを、その全マスクがシャッター眼鏡６の開期間において順次切り替わるように制御する。 - 特許庁

Two substrate supporting tables 11 and 11' coming and going between screen masks 5 and 9 are disposed below the screen masks 5 and 9 in the flux printing device 4 and the solder ball loading device 8.例文帳に追加

これらフラックス印刷装置４とはんだボール搭載装置８におけるスクリーンマスク５、９の下方に、これらスクリーンマスク５、９の間を交互に行き来する二台の基板支持テーブル１１、１１′を配設する。 - 特許庁

Next, the second organic film 105 is etched away using the second resist masks 109 as the masks for patterning the second organic film 105 as well as removing the first and second resist patterns 107, 109.例文帳に追加

第２の有機膜１０５に対して第２のレジストマスク１０９をマスクとしてエッチングを行なって、第２の有機膜１０５をパターン化すると共に第１及び第２のレジストパターン１０７、１０９を除去する。 - 特許庁

To inspect masks for transferring patterns by using two or more masks so as to relieve a pseudo defect in a part where no problem is caused from the viewpoint of a device while keeping the inspection accuracy in a pattern region.例文帳に追加

２以上のマスクを用いてパターン転写する場合のマスクの検査を、パターン領域の検査の精度を保ちつつ、デバイス上問題が生じない箇所での擬似欠陥を救済しながら行う。 - 特許庁

The contacts containing the contacts 31 and 32 are manufactured by selecting any number of the first opening sections 61 in second masks (not shown) having the standard resolution are manufactured in addition to the first masks.例文帳に追加

第１のマスクに加えて、標準的な解像度を有する第２のマスク（図示していない）で第１の開口部６１のうちのいくつかを選択してコンタクト３１、３２を含むコンタクトを製造する。 - 特許庁

To provide a method of generating complementary masks for use in a dark field double dipole imaging process.例文帳に追加

ダークフィールド二重双極子イメージングプロセスで使用する相補マスクを作成する方法を提供する。 - 特許庁

In addition, the recesses 111 are formed by applying a plurality of etching masks in a direction vertical to the radial direction.例文帳に追加

なお、凹部１１１は、径方向に垂直な方向に複数本のエッチングマスクを施して形成される。 - 特許庁

This invention realizes the use of masks that would otherwise be difficult to flatten against a substrate.例文帳に追加

本発明は別の方法では基板に対して平坦にするのが困難なマスクの使用を可能にする。 - 特許庁

To reduce the time required for replacing masks, while preventing a significant increase in the number of components or increase in the size.例文帳に追加

部品の点数の大幅な増加や大型化等を防ぎつつ、マスクの交換時間を短くすること。 - 特許庁

Additionally, patterns on the masks are transferred onto a substrate by exposure equipment having the mask holding device.例文帳に追加

また、そのマスク保持装置を備える露光装置によって、マスク上のパターンを基板上に転写する。 - 特許庁

Therefore, the number of the formations of their resist patterns used as impurity implanting masks can be eliminated by one.例文帳に追加

したがって、不純物注入マスクとしてのレジストパターンの形成を１回省略することができる。 - 特許庁

Compound exposure is carried out using the masks in exposure of a resist formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されたレジストの露光においては、これらのマスクを使用して複合露光を行う。 - 特許庁

The support substrate 102, endowed with a function of supporting the individual masks 101, is structured of hard glass.例文帳に追加

支持基板１０２は、個別マスク１０１を支える機能を有しており、硬質ガラスにより構成されている。 - 特許庁

To provide a stock for shadow masks free from dispersion of the electron beam transmission hole diameter and having excellent properties of pierching by etching.例文帳に追加

電子線透過孔径のばらつきがないエッチング穿孔性に優れたシャドウマスク用素材の提供。 - 特許庁

The substrate for the display panel can be produced with high productivity by using a few masks.例文帳に追加

本発明によると、少ないマスクを用いて生産性良く表示パネル用基板を製造することができる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the electronic component, the masks corresponding to the patterns of internal electrodes are first formed on the surfaces of conductive supporting bodies.例文帳に追加

まず導電性の支持体の表面に内部電極のパターンに相当するマスクを形成する。 - 特許庁

Further, the Levenson masks 10 and 20 are formed in different patterns and used for a plurality of times of double exposure.例文帳に追加

また、レベンソンマスク１０，２０は、それぞれ異なるパターンが形成され、複数回の重ね露光に使われる。 - 特許庁