「MASKS」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

A pair of box masks for measuring the relative positions of a lower layer pattern with upper layer pattern of a semiconductor device are provided in a box mark formation region.例文帳に追加

半導体装置の下層パターンと上層パターンとの相対位置を測定するための１対のボックスマークをボックスマーク形成領域に設ける。 - 特許庁

To provide an imaging device, etc., which can prevent the whole output image from being influenced by an image signal of an area to be masks.例文帳に追加

出力画像全体が，マスク対象領域の画像信号の影響を受けないようにすることが可能な撮像装置等を提供すること。 - 特許庁

To provide a fabrication method of a thin film transistor for use in a flat panel display device the processes of which can be simplified by decreasing number of masks.例文帳に追加

本発明は、マスク数を減らして工程を単純化し得るフラットパネルディスプレイに使用される薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

When the patterns of the master masks are individually drawn, the patterns are simultaneously drawn in parallel by using a plurality of pattern projection apparatuses 10a, 10b, 10c.例文帳に追加

各マスターマスクを描画する際にそれぞれ、複数のパターン投影装置１０ａ、１０ｂ、および１０ｃを用いて同時並列描画を行う。 - 特許庁

Then, the respective patterns A, B are disposed respectively in such independent masks of each other as to constitute the mask 10 for exposure.例文帳に追加

そして、前記分割後パターンＡ，Ｂを露光転写するための各パターン形状をそれぞれ別個に配設して前記露光用マスク１０を構成する。 - 特許庁

To avoid a generation of poor exposure region even if relative displacement arises when switching one of mutually complementary masks to the other.例文帳に追加

互いにコンプリメンタリーなマスクの一方から他方に切り替えたときに相対的な位置ずれが生じても、露光不足領域が生ずるのを避ける。 - 特許庁

To easily determine multilevel gradation in a narrow region, to improve the surface roughness and to reduce the manufacture cost of reticules and masks.例文帳に追加

狭い領域内に多数の階調を設定するのを容易にし、表面粗さの改善するとともに、レチクルやマスクの製作コストを低下する。 - 特許庁

An electron beam radiated from a radiating means 1 irradiates a sample through a deflecting means 4 and the first and second masks.例文帳に追加

照射手段１から照射された電子ビームは、偏向手段４並びに第１及び第２のマスクを介して、試料上に照射される。 - 特許庁

A predetermined organic thin film is formed in a predetermined region on the substrate 2 by appropriately changing positional relation between the first and second shadow masks 6, 7.例文帳に追加

第１，第２のシャドーマスク６，７の位置関係を適宜変化させ、基板２上の所定の領域に所定の有機薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide mask equipment for printing cream solder and a cream solder printer which can reduce the number of manufacturing masks and the frequency of mask exchange.例文帳に追加

マスクの製作枚数およびマスクの交換回数を減らすことができるクリームハンダ印刷用マスク装置およびクリームハンダ印刷機を提供する。 - 特許庁

Furthermore, when the existence of the treatment tool is shown by a color discrimination signal in the peak photometry area, a mask circuit 31 masks such a part.例文帳に追加

更に、マスク回路３１は、ピーク測光領域において色判別信号により処置具の存在が示された場合には、この部分をマスクする。 - 特許庁

To supply an exposure method for reducing the number of alignment marks on a substrate irrespective of the number of hologram masks.例文帳に追加

本発明は、ホログラムマスクの数に関わらず、基板上のアライメントマークの数を低減し得る露光方法等を提供することを目的としている。 - 特許庁

The equipment is so constituted as to move the prescribed masks 30 between the mask mounting section 60a and the mask housing section 62 by using a mask exchange robot.例文帳に追加

マスク交換ロボットを用い、マスク装着部６０ａとマスク収容部６２との間で所定のマスク３０を移動するように構成されている。 - 特許庁

To provide a method with which formation of notches and residues can be suppressed when plasma-etching Al films by using hard masks.例文帳に追加

ハードマスクを用いてＡｌ膜をプラズマエッチングする場合において、ノッチ形成や残渣の発生を抑制することのできる方法を提供すること。 - 特許庁

Further, the transparent protective disc can be used for eye safety glass and gas masks; in this case, the glass sheet 1 is arranged so as to be disposed outside.例文帳に追加

また、前記透明保護板を保護めがねや防毒マスクに使用することができ、この場合、外側にガラス板１が配置するように設ける。 - 特許庁

Then, the N-MOS region of the low-breakdown voltage transistor formation region and the P-MOS region of the high-breakdown voltage transistor formation region are respectively covered with resist masks 11, and the phosphorus ions are implanted rotatingly.例文帳に追加

次に、低耐圧のＮＭＯＳ領域と高耐圧のＰＭＯＳ領域をレジストマスク１１で覆い、リンを回転注入する。 - 特許庁

The manufacturing process is very easy, the need to increase the number of masks is eliminated, and none of the etching of ITO, a process for a bump, and a rubbing process is needed.例文帳に追加

製造工程上、極めて簡易で、マスク数増加不要で、ＩＴＯのエッチング不要で、バンプの工程が不要、ラビング工程が不要である。 - 特許庁

A first hard mask 60 is formed on a silicon nitride film 50, and a plurality of second hard masks 70 extending straight in an X-axis direction are arranged in parallel.例文帳に追加

シリコン窒化膜５０上に第１ハードマスク６０、Ｘ軸方向に直線状に延びる第２ハードマスク７０を複数並列して形成する。 - 特許庁

To improve a pixel numerical aperture in a display device of a reflection type or a transmission type without increasing the number of masks or using a black mask.例文帳に追加

マスク数を増加させることなく、ブラックマスクを用いずに反射型または透過型の表示装置における画素開口率を改善する。 - 特許庁

To provide a mask with ear pads which can simultaneously prevent dust and pollen from going into ear canals, though they cannot be prevented by conventional masks.例文帳に追加

従来のマスクでは防ぐことができなかった耳に入るほこりや花粉を、同時に防ぐことができる耳あてつきマスクを提供する。 - 特許庁

The mask circuit 12 masks predetermined segment data among a plurality of pieces of the same segment data output from the MAC and outputs other piece of segment data.例文帳に追加

マスク回路１２は、ＭＡＣから出力された複数の同じセグメントデータのうち、所定のセグメントデータをマスクし、他のセグメントデータを出力する。 - 特許庁

Than, an alignment pattern growth stopping mask and one pair of growth stopping masks extending in the same direction are selectively formed on the substrate 9.例文帳に追加

次に、半導体基板９上に目合わせパターン成長阻止マスク及び１対の同方向に延びる成長阻止マスクを選択的に形成する。 - 特許庁

To eliminate the possibility of missing external terminals and wirings in the resin etching process by forming the wiring of IC package, without having to use solder masks.例文帳に追加

ＩＣパッケージの配線をソルダーマスクを使用することなく行い、樹脂のエッチング過程で外部端子や配線が欠落する可能性をなくす。 - 特許庁

Transfer regions 4C, 4D formed on a different flat surface positions of the same surface of the same masks 2 are multiple exposed by scanning exposure.例文帳に追加

同一マスク２の同一面の異なる平面位置に形成された転写領域４Ｃ，４Ｄをスキャンニング露光によって多重露光する。 - 特許庁

A liquid crystal mask unit 1, composed of liquid crystal masks 10, is arranged in the optical path of the laser light between the laser oscillator and machining lens.例文帳に追加

前記レーザ発振器と前記加工レンズとの間のレーザ光の光路に複数の液晶マスク１０から成る液晶マスクユニット１を配置する。 - 特許庁

Masks 65, each of which has a growth regulating surface 66 parallel to the c-face, are formed along negative-c axis side faces 62 of the protrusions 60.例文帳に追加

この凸条６０の−ｃ軸側側面６２に沿って、ｃ面に平行な成長規制面６６を有するマスク６０が形成されている。 - 特許庁

To satisfactorily enlarge the ratio of film thickness of a tapered optical waveguide layer and also to prevent masks from peeling off with respect to a method of manufacturing an optical semiconductor element.例文帳に追加

光半導体素子の製造方法に関し、テーパ光導波層の膜厚比を十分に大きくするとともに、マスクの剥離を防止する。 - 特許庁

Additionally, the mask processing D102 masks an alarm when the alarm has a lower priority level than the first alarm and has been taking place.例文帳に追加

また、マスク処理部D102は、上記第１のアラームよりも優先度が低く、且つ、状態が発生中のアラームが存在する場合は、そのアラームをマスクする。 - 特許庁

Furthermore, the channel-forming region and the source region are formed at ionic implantation where the planar gate electrode and the trench gate electrode are set as masks.例文帳に追加

さらに、プレーナゲート電極およびトレンチゲート電極をマスクとしたイオン注入にてチャネル形成領域およびソース領域を形成する。 - 特許庁

Masks 12, 14 are arranged on an SiO2 substrate 10, having a refractive index of 1.444, the substrate 10 is etched reactive ion etching(RIE) method (a).例文帳に追加

屈折率１．４４４のＳｉ０_２基板１０上にマスク１２，１４を配置し、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）法により基板１０をエッチングする（ａ）。 - 特許庁

To provide an internal liquid medicine that sufficiently masks bitterness of nizatidine, is stable for a long period of time and has excellent administration.例文帳に追加

本発明の課題は、ニザチジンの苦味を十分にマスキングでき、長期間安定で、服用性に優れた内用液剤を提供することにある。 - 特許庁

To avoid short circuiting of a semiconductor active layer and a gate electrode and reduce the number of masks necessary in a manufacturing process.例文帳に追加

半導体活性層とゲート電極との間でショートが発生するのを回避しつつ、製造過程における必要なマスク数の削減を図る。 - 特許庁

After forming the low dielectric films 5 and 6 on a wiring 2, hard masks 7, 8, and 9 are formed on the low dielectric films 5 and 6.例文帳に追加

配線２上に低誘電率膜５及び６を形成した後、低誘電率膜５及び６上にハードマスク７、８及び９を形成する。 - 特許庁

The substrate is subjected to anisotropic etching using the layers 14 as masks and the end part of the surface of an element formation region is exposed to form a trench 16.例文帳に追加

マスク層をマスクにしてＳｉ基板を異方性エッチングし、素子形成領域の表面端部を露出させてトレンチ１６を形成する。 - 特許庁

Exposure is performed successively by using the masks Ha1, Hb2 to perform patterning and heater patterns 11x, 12x having no line width difference in the boundary part are formed.例文帳に追加

マスクＨ_a １とＨ_b ２を用いて順次露光してパターニングし、境界部に線幅差のないヒーターパターン１１ｘ、１２ｘを形成する。 - 特許庁

The composition is applied to masks, filters, and the like, to disinfection of public places such as houses, vehicles and hospitals or to disinfection of human bodies.例文帳に追加

かかる組成物をマスク、フィルターなど、もしくは住居、車輌、病院などの公共の場の殺菌、もしくは人体の殺菌に応用する。 - 特許庁

An arbitration part 165 arbitrates the PCI bus 200, and masks a bus use request from the PCI device when the PCI bus is put in the bus degeneration state.例文帳に追加

アービトレーション部１６５はＰＣＩバス２００の調停を行い、バス縮退状態時にＰＣＩデバイスからのバス使用要求をマスクする。 - 特許庁

The server device 40 generates a file of a masker sound which masks the user voice from the voice data transmitted from the mobile phone 10 and stores the file.例文帳に追加

サーバ装置４０は、携帯電話機１０から送られた音声データからユーザの音声をマスキングするマスカー音のファイルを生成して記憶する。 - 特許庁

These gray scale masks are formed by exposure transferring the patterns formed on the same mask substrate by changing an exposure time onto resist.例文帳に追加

これらのグレースケールマスクは、同一のマスターマスク基板に形成されたパターンを、レジスト上に露光時間を変えて露光転写し、形成されたものである。 - 特許庁

Further, two identical stencil masks are manufactured by removing the remaining first silicon oxide layer 4 and second silicon oxide layer 10 through wet etching.例文帳に追加

次に、残存している第１酸化シリコン層４と第２酸化シリコン層１０をウェットエッチングして除去し、２枚の同一のステンシルマスクを製造する。 - 特許庁

The control part 11a masks information indicating an access-prohibited area, which includes the application software, in the management information read from the storage part 18.例文帳に追加

制御部１１ａは、記憶部１８から読み出された管理情報からアプリケーションソフトウェアを含むアクセス禁止領域を示す情報をマスクする。 - 特許庁

In Genzai Noh (noh plays featuring people alive in the dramatic present, not apparitions), performers who play adult male roles do not wear noh masks. 例文帳に追加

なお現在能（亡霊ではなく現在進行形として演じられる形式の能）の成年男性役には能面を用いないで演じられる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Shimai is performed only to the accompaniment of Noh-jiuta (Noh chorus), and donning of Montsuki hakama (formal Japanese attire for a man, consisting of a kimono dyed with the family crest and a long, loose, pleated skirt) or kamishimo (samurai costume, old ceremonial costume), instead of wearing Noh costumes and Noh masks. 例文帳に追加

伴奏は能地謡のみによって行われ、能装束・能面は用いず、紋付袴か裃などで演ずる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a system and method for manufacturing a flat panel display having an exposure system which reduces the time required for changing masks.例文帳に追加

マスクの交換時間を短縮させることができる露光システムを有する平板表示装置の製造システム及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a digital image data transmitting device that masks part of a pattern, transmits a resulting image signal and reduces the information quantity of the transmitted signal.例文帳に追加

画面上の一部をマスクし送出するようにしたディジタル画像データの送信装置において、送信信号の情報量を低減する。 - 特許庁