「MASKS」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

When manufacturing process is carried out, a self-aligned memory cell, necessitating only two pieces of array related masks, which specify a bit line and a word line, can be formed.例文帳に追加

製造プロセスを実施すると、ビットライン及びワードラインを規定する２つのアレイ関連マスクのみを必要とする自己整列したメモリセルを形成することができる。 - 特許庁

Split alignment marks 1a, 2a, 3a and 4a are formed in each complementary split region corresponding to each of complementary split masks 1, 2, 3 and 4 that a stencil mask is pluralized.例文帳に追加

ステンシルマスクを複数に分割した相補分割マスク１、２、３、４のそれぞれに対応する相補分割領域に分割アライメントマーク１ａ、２ａ、３ａ、４ａを形成する。 - 特許庁

To provide a pattern evaluation method using an electron beam device, having good beam resolution, eliminating the problem of deviation of rotation attitude, capable of inspecting defects of masks with high throughput.例文帳に追加

電子線装置を使用し、ビーム分解能が良く、しかも回転姿勢のズレの問題を無くしたパターン評価方法、及び高スループットでマスクの欠陥検査を可能とする。 - 特許庁

Feature quantities extracted from the signals of the time frequency regions are clustered to generate clusters, which are used to generate masks by the time frequency regions.例文帳に追加

次に、これらの時間周波数領域の信号から抽出した特徴量をクラスタリングしてクラスタを生成し、これを用いて時間周波数毎のマスクを生成する。 - 特許庁

The relative position in the y-axis direction is adjusted, based on alignment errors Δy1 and Δy2 in the y-axis direction between the two y-axis marks and the marks for the masks corresponding to them.例文帳に追加

２つのｙ軸用マークとそれに対応するマスクのマークとのｙ軸方向の位置合わせ誤差Δｙ_1及びΔｙ_2に基づいてｙ軸方向の相対位置を調節する。 - 特許庁

Using mask patterns 121a, 121b as masks, a metal film 106 and an n^+ silicon film 105 are dry etched one after the other, and the mask patterns 121a, 121b are heated to reflow.例文帳に追加

マスクパターン１２１ａ，１２１ｂをマスクとして金属膜１０６とｎ^+シリコン膜１０５とを順次ドライエッチングした後、マスクパターン１２１ａ，１２１ｂを加熱してリフローさせる。 - 特許庁

To provide an exposure method, capable of highly accurately aligning a mask when performing exposure by using a complementary divided mask or a combined mask, consisting of a plurality of masks.例文帳に追加

相補分割マスク、又は複数枚のマスクからなる組み合わせマスクを用いて露光する際に、高精度でマスクをアライメントできるようにした露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask inspection method and an inspection apparatus for the mask, in which a pattern connecting portion can be easily verified, when forming a pattern using two or more charged particle beam masks.例文帳に追加

２以上の荷電粒子線マスクを用いてパターン形成を行う場合に、パターン接続部の確認が容易なマスクの検査方法および検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a laminate electronic component, which can prevent lamination misalignment in patterns for cut masks from each other from being generated and at the same time, can prevent the partial adhesion failure of ceramic green sheets to each other from being generated.例文帳に追加

カットマーク用パターンの積層ズレを防止できるとともに、グリーンシートの部分的な密着不良を防止できる積層型電子部品の製法を提供する。 - 特許庁

The effect of an aspect ratio can be reduced because the aspect ratio affects only each of the unit masks 12, 14, and thereby, the finer pitch of the through-holes 121, etc., can be attained.例文帳に追加

アスペクト比の影響が個々の単体マスク１２，１４にしか及ばないので、アスペクト比の影響を低減でき、これにより透孔１２１，…のファインピッチ化を図ることができる。 - 特許庁

The thresholds of the masks are shifted up and down to change the density of the main and sub-colors on the whole.例文帳に追加

この変換には第１の閾値マスク及び第２の閾値マスクが使用され、この閾値マスクの閾値を上下にシフトすることにより、主色及び副色の色の濃さを全体的に変更する。 - 特許庁

To inscribe wafer-discrimination information to a wafer on which a plurality of thin-film elements are formed collectively, in a short time without requiring the kinds of masks for exposure.例文帳に追加

複数個の薄膜素子が一括して形成されるウエハに対して、露光用のマスクの種類を多く必要とせず且つ短時間で、ウエハ識別情報を記入する。 - 特許庁

The white mask generation circuit 13a changes the sizes of the white masks at the top and bottom ends of the paper sheet depending on the feeding of the paper sheet from the paper conveyance path P1 or paper conveyance path P2.例文帳に追加

白マスク生成回路１３ａは、用紙搬送路Ｐ１又は用紙搬送路Ｐ２からの給紙に応じて用紙の先端と後端の白マスクの大きさを変える。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of reducing the number of masks to simplify fabrication process and, at the same time, capable of enhancing an aperture ratio, and to provide a method for fabricating the liquid crystal display device.例文帳に追加

マスク数を減少させて製造工程を単純化すると共に、開口率を向上させた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

With support from the people in and around Higashimatsushima, the group was able to mend two lion masks which survived the tsunami and get ready to perform again. 例文帳に追加

東松島市内外の人々からの支援によって，保存会は津波を生きのびた獅(し)子(し)頭(がしら)２体を修理することができ，再び披露するための準備ができた。 - 浜島書店 Catch a Wave

The invention has the advantage of being useful for much larger shadow masks than conventional ones, and realizes masking of large substrates that are incompatible with wet chemical processing.例文帳に追加

本発明は従来可能であったよりもずっと大きなシャドーマスクに有用であり、湿式化学処理のできない大口径基板のマスキングを可能にするという利点を有する。 - 特許庁

To suppress increase in a process cost by making ruggedness on the surface of reflection electrodes, without adding the number of sheets of masks in a process step of making an electro-optic device.例文帳に追加

電気光学装置の作製工程においてマスク枚数を追加することなく、反射電極の表面の凹凸を作製して、工程コストの増大を抑える。 - 特許庁

The data input/output circuit masks at least any one of data written to a memory cell and data read from the memory cell, in accordance with a logic of the first data mask signal.例文帳に追加

データ入出力回路は、メモリセルへの書き込みデータおよびメモリセルからの読み出しデータの少なくともいずれかを、第１データマスク信号の論理に応じてマスクする。 - 特許庁

Then, phosphor etc. is ion-doped using the gate electrode 7a and the spacer 8a as masks to form an N+ type drain layer 11 is formed in the N type embedded drift layer 5.例文帳に追加

次に、ゲート電極７ａ及びスペーサー８ａをマスクとしてリン等をイオン注入しＮ型埋め込みドリフト層５内にＮ＋型ドレイン層１１を形成する。 - 特許庁

A mask processing unit 17 masks the redundant bits with specific data, when the significant information shows significance, to thereby invalidate information expressed by the redundant bits.例文帳に追加

そしてマスク処理部１７では、有意性情報が有意を表す場合に余剰ビットを特定のデータでマスクすることで余剰ビットで表される情報を無効化する。 - 特許庁

The test data is inputted to the OR element 17, and the OR element 17 masks the second test data on the basis of a mask signal asynchronous with a clock signal and outputs the first test data.例文帳に追加

ＯＲ素子１７は、テストデータが入力され、クロック信号とは非同期であるマスク信号に基づいて、第２のテストデータをマスクして、第１のテストデータを出力する。 - 特許庁

In at least one out of the first and the second masks, a protruding member which is to be protruded in the aperture is collectively formed in an unified body with an abutting surface to the spacer.例文帳に追加

前記第１及び第２マスクの少なくとも一方には、前記スペーサとの当接面に、前記開口内に突入する凸状体が一体的に設けられている。 - 特許庁

With the mask pattern, spacer, and between-gate oxide film as masks, the conductive layer is etched, impurity ions are implanted in a defined third opening portion, and a source region 245 is formed.例文帳に追加

マスクパターン、スペーサ及びゲート間酸化膜をマスクとして導電層をエッチングし定義された第３開口部内に不純物イオンを注入してソース領域245を形成する。 - 特許庁

A calibration curve is created (102) by calculating relation between mask size and luminance values from the luminance value obtained by measuring a sample for creating the calibration curve with the size of a plurality of masks.例文帳に追加

複数のマスクのサイズで検量線作成用サンプルを測定した輝度値からマスクサイズと輝度値の関係を算出することで検量線を作成しておく（１０２）。 - 特許庁

The method also comprises the step of exposing the region 12, and the layer 11 only at the mirror with the first and second resists 1 and 2 as masks in Fig. (d).例文帳に追加

（ｄ）において、第一のレジスト１と第二のレジスト２とをマスクにして、コーナーミラー部でのみ活性層領域１２とｎ型ＡｌＧａＡｓクラッド層１１が露出させる。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device uses double patterning, including a step of preparing a plurality of masks to be used in the double patterning.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法は、ダブルパターニングを用いた半導体装置の製造方法であって、ダブルパターニングで用いる複数枚のマスクを準備する工程を備える。 - 特許庁

To reduce a chip area, the number of masks and development cost and to shorten development time about a high frequency semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

高周波半導体集積回路装置に関し、チップ面積縮小、マスク枚数の低減、開発コストの低減、及び、開発期間の短縮を可能にすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a touch screen panel and a method for manufacturing the same, wherein the number of masks is reduced, a process is simple, and an insulation property between sensing patterns is sufficiently secured.例文帳に追加

マスク数が低減され、工程が単純であると共に、感知パターン間の絶縁特性が十分に確保されたタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To automatically generate location information of a process without requiring cost burdens and further, to dynamically change the location information (masks) of a process to perform waiting.例文帳に追加

コスト負担を要することなくプロセスの配置情報を自動生成でき、さらに、待ち合わせを行うプロセスの配置情報（マスク）をジョブ内で動的に変更することを課題とする。 - 特許庁

By evaporating an organic material with the use of these two sub masks, a panel with a small pixel interval can be obtained while an interval of mask openings is made large.例文帳に追加

これら２つのサブマスクを用いて有機材料を蒸着することで、マスクの開口の間隔を大きくしながら、画素間隔の小さなパネルを得ることができる。 - 特許庁

The sacrificial and permanent hard masks are formed of the same precursor substance in a single process, where process conditions are changed for giving a film having different permittivity.例文帳に追加

犠牲的ハードマスク層および永久的ハードマスク層は、プロセス条件が、異なる誘電率の膜を与えるために変化する単一工程で同一前駆物質から形成される。 - 特許庁

Motomasa seems to have continued his activities without losing his sense of mission even under such circumstances, and masks offered to Tenkawa Daibenzaiten-sha Shrine in Yoshino in Yamato Province survive to this day. 例文帳に追加

元雅はその状況下でも志を失わずに活動を続けたとみられ、大和国吉野の天河大弁財天社に奉納した尉面が現存している。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

After that, the resistor film TM and the conductor film DM are patterned by using the hard mask layer M1 and the photoresist mask layers PM2 as masks.例文帳に追加

そして、ハードマスク層Ｍ１およびフォトレジストマスク層ＰＭ２をマスクとして用いて、抵抗体膜ＴＭおよび導電体膜ＤＭについてパターン加工を実施する。 - 特許庁

By using masks with varying opening positions and shapes, and also using dyes having different colors, this operation is repeated until the porous semiconductor layer 12 is coated in separate colors.例文帳に追加

開口部の位置、形状を変えたマスクを用いるとともに、色の異なる色素を用いてこの操作を繰り返し、多孔質半導体層１２の色を塗り分ける。 - 特許庁

A laser beam 2 emitted from a laser generator 3 is divided by a spectroscope 7 and each of the divided laser beams 2a, 2b is shaped by optical masks 9a, 9b, respectively.例文帳に追加

レーザ発振器３から出射したレーザビーム２を分光器７により分岐し、分岐したレーザビーム２ａ，２ｂをそれぞれ一対の光学マスク９ａ，９ｂにより整形する。 - 特許庁

Okiagari (daruma doll made so as to right itself when knocked over), masks, rattles, toy phones, toy animals, dolls, clay, toy vehicles (excluding those clockwork-driven and electrically-driven), balloons, blocks, balls, toys for playing house. 例文帳に追加

起き上がり、おめん、がらがら、電話がん具、動物がん具、人形、粘土、乗物がん具（ぜんまい式及び電動式のものを除く。）、風船、ブロツクがん具、ボール、ままごと用具 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a pellicle attaching device that can attach a pellicle to masks in various sizes, and to provide a pellicle attaching method, and a method for manufacturing a pattern substrate.例文帳に追加

異なるサイズのマスクに対してペリクルを装着することができるペリクル装着装置及びペリクル装着方法、並びにパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Both of the phase modulating masks 4 and 5 have curved surface shapes, the one surface of which is a plane and the other surface of which is expressed by z=kx3 (where k is a constant).例文帳に追加

位相変調マスク４，５は共に、一方の面が平面で、もう一方の面はｚ＝ｋｘ^3 （ここにｋは定数）で表わされる曲面形状をしている。 - 特許庁

Next, the insulated layer 12f is subjected to isotropic etching, and the amount of the insulated layer 12f to be etched is calculated from the dimensions of the masks for monitoring fallen off from the wafer 30.例文帳に追加

次に、絶縁層１２ｆに対して等方性エッチングを行い、ウエハ３０から脱落したモニタ用マスクの寸法から、絶縁層１２ｆのエッチング量を算出する。 - 特許庁

To mass-produce a stud with a seal which masks the screw hole of the stud preliminarily in a factory or the like to provide the stud with the screw hole causing no trouble in stud attaching work.例文帳に追加

予め工場等でネジ孔をマスキングしたシール付のスタッドを量産しうると共に、スタッド取り付け作業に支障が生じない作業性のよいスタッドを提供する。 - 特許庁

To realize a device for generating a monitored picture signal that masks an image in which the protection of privacy is required with an image that does not interfere with the monitoring of a monitored image.例文帳に追加

プライバシーの保護が必要な画像部分を、監視画像を監視するために支障とならない画像でマスキングする監視画像信号の生成装置を実現することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a metal mask by which dimension management in a manufacturing process is facilitated and many highly accurate metal masks can be manufactured with the same accuracy.例文帳に追加

製造工程における寸法管理が容易で、高精度のメタルマスクを多数枚、同一精度で作製することができるメタルマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of automatically detecting defective portions to remove chip defects in place of an examining method based on human sensuality in defective examination of shadow masks.例文帳に追加

シャドウマスクの欠陥検査で、カケの不良を人による官能検査方法から自動的に欠陥部を検出し、不良を除去する方法を提供することである。 - 特許庁

Shielding masks 20 and 21 intercept pathes between the substrates 11 and a vapor deposition source 12 to limit a range of an incidence angle of a vapor deposition material to be deposit on the substrates 11.例文帳に追加

遮蔽マスク２０及び２１は、基板１１と蒸着源１２との間を遮り、基板１１に付着する蒸着材料の入射角の範囲を制限する。 - 特許庁

As a result, a margin for only one time is required for alignment of masks in an exposure and development process, which reduces the size of a nonvolatile semiconductor memory device itself.例文帳に追加

この結果、露光現像工程の合わせマージンが1回分だけで済むこととなるため、不揮発半導体記憶装置の素子自体も小さくすることが可能である。 - 特許庁