「MASKS」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a projection aligner and a position detecting method, capable of detecting the position of a projection image quickly and accurately, without changing masks at measuring, even if the exposure conditions change.例文帳に追加

露光条件が変わっても、計測時にマスク変更することなく、迅速かつ正確に投影像の像位置を検出可能な投影露光装置及び位置検出方法を提供する。 - 特許庁

The reception signal storage section 12 consists of registers placed in parallel, and a pre-stage of each register is provided with a gate circuit, that masks a signal input except in a signal write state.例文帳に追加

受信信号保持部１２は、並列配置された複数のレジスタからなり、各レジスタの前段には、信号書き込み時以外の信号入力をマスクするゲート回路が設けられる。 - 特許庁

One of the masks is used to form a via or a contact opening in the insulating layer, and the other mask is used to form a concave for mutually connecting the insulating layers.例文帳に追加

マスクのうちの１個は、絶縁体層にビアあるいはコンタクト開口を形成するのに用いられ、第２のマスクは絶縁体層の相互接続のための凹部を形成するのに用いられる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a gas-sensing semiconductor device which can be monolithically integrated with drive, control and transducing circuits at a low cost, without requiring extra masks nor processes.例文帳に追加

低コストで、処理回路と制御回路と変換回路とを一体的に集積することができ、余計なマスクや工程を必要としないガス検知半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To clean masks of printing parts at an optical timing according to solder forming conditions and improve the operation efficiency of a manufacturing line with maintaining the quality of printed boards.例文帳に追加

半田の形成状態に応じて印刷部のマスクを最適な時期にクリーニング実行させることができ、プリント基板の品質を維持しつつ製造ラインの稼働効率の向上が図れること。 - 特許庁

The object W held by an object holder 6 is irradiated through masks 51 and 52 with the light beams from light sources 11, 12 and 31 which are made into parallel beams by optical systems 12, 22 and 32.例文帳に追加

対象物保持具６により保持されている対象物Ｗに、光源１１，２１，３１からの光が光学系１２，２２，３２により平行光になりマスク５１，５２を通して照射される。 - 特許庁

To provide a multi-chamfered processing manufacturing method of an organic electric field light-emitting equipment by the mask vapor deposition method, in which a substrate area can be utilized efficiently, while preventing excessive increase in the number of shadow masks.例文帳に追加

シャドーマスク数の過度な増大を防ぎ、基板面積を効率的に活用することが可能な、マスク蒸着法による有機電界発光装置の多面取り製造方法を提供する。 - 特許庁

The camera 1 for paintings and calligraphy masks the registered contour to acquire a contour (rectangular form) of the original 5 to apply image processing to the image of the original indicating the acquired contour and transmits the resulting image to a computer 2.例文帳に追加

書画カメラ１は、登録した輪郭をマスクして原稿５の輪郭（四角形）を取得し、取得した輪郭の原稿画像に対して画像処理を行い、コンピュータ２に送信する。 - 特許庁

In this case, the particles 4 serving as the masks are formed of Al_2O_3 like a island by a vapor deposition method, so that the number of production steps can be reduced compared with the case by a photolithography method.例文帳に追加

この場合、マスクとなる粒子４を蒸着法によりＡｌ_2Ｏ_3で島状に形成しているため、フォトリソグラフィ法による場合と比較して、製造工程数を少なくすることができる。 - 特許庁

Masks 2a, 2b are mounted on both principal planes of a crystal substrate 1 and the crystal substrate 1 is placed in an apparatus for epitaxial growth, and nozzles 3 are arranged above and below the mask 2a and the mask 2b.例文帳に追加

水晶基板１の両主面にマスク２ａ、２ｂを装着し、エピタキシャル成長を行うための装置の中に載置すると共に、マスク２ａ、２ｂの上下にノズル３を配設する。 - 特許庁

To provide a composition for oral cavity or throat, which masks peculiar bitterness of components and has a good taste even if mixed with cetylpyridinium chloride, benzethonium chloride and benzalkonium chloride.例文帳に追加

塩化セチルピリジニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化ベンザルコニウムが配合された場合であっても、その独特の苦味がマスキングされた呈味の良い、口腔用又は咽喉用組成物の提供。 - 特許庁

The Agaricus-containing sugarless cookie masks the bitterness of Agaricus and has improved sweetness feeling of sugarless cookie by comprising margarine, reducing maltose and/or erythritol, wheat flour, egg, a taste component and Agaricus.例文帳に追加

マーガリン、還元麦芽糖及び／又はエリストール、小麦粉及び卵と、味の成分及びアガリクスとを含有させることによって、アガリクスの苦味をマスクし、無砂糖クッキーの甘味感を向上させた。 - 特許庁

To provide a low-cost powdery material for deodorizing antibacterial use satisfactorily exhibiting deodorizing antibacterial effect in various environments and suitable for masks, shoe insoles, bedclothes, underwears, etc.例文帳に追加

マスク・靴の中敷き・寝具・肌着等に好適に利用でき、様々な環境下でも防臭抗菌効果が十分に発揮できる低コストの防臭抗菌用粉末材料を提供する。 - 特許庁

After completing the alignment, the top face and the back face of the belt-like work W are simultaneously exposed by irradiating with exposure light from irradiation parts 41, 42 via the masks M1, M2 and projection lenses 31, 32.例文帳に追加

位置合せ終了後、光照射部４１，４２からマスクＭ１，Ｍ２、投影レンズ３１，３２を介して、露光光が照射され、帯状ワークＷの表面と裏面が同時に露光される。 - 特許庁

The ohmic contact layer forming film 25 and the semiconductor film forming film 21 are subjected to plasma etching for patterning, using resist patterns 26 and 26 and the second channel protective film 6 as masks.例文帳に追加

そして、レジストパターン２６、２６および第２のチャネル保護膜６をマスクとしたプラズマエッチングにより、オーミックコンタクト層形成用膜２５および半導体膜形成用膜２１をパターニングする。 - 特許庁

Protective film layers having the discriminated zone groups of different compositions are first sputtered on a disk surface by using discriminated masks under different sputtering conditions.例文帳に追加

、異なる組成の区別されたゾーン群を有する保護膜層が、異なるスパッタリング条件下において区別されたマスクを用いることによって、ディスク表面上に最初にスパッタリングされる。 - 特許庁

Then a resist film having another pattern is formed on the hard mask film, and the workpiece film is selectively dry-etched with the hard mask film and the resist film as masks (S110 and S112).例文帳に追加

その後、ハードマスク膜上に別のパターンを有するレジスト膜を形成して、ハードマスク膜とレジスト膜とをマスクとして被加工膜を選択的にドライエッチングする（Ｓ１１０およびＳ１１２）。 - 特許庁

A light intensity reflection drawing part 5c makes the calculated value of the light intensity reflect on the surface of the model, and masks a pixel part of the model of a part having the value smaller than a prescribed threshold value.例文帳に追加

光量反映描画部５ｃは、算出した光量の値をモデルの面に反映させ、その値が所定のしきい値より小さい部分のモデルの画素部分にマスクをかける。 - 特許庁

To provide a display device and a manufacturing method for the same, that achieve higher image quality by removing a semiconductor pattern from between electrodes of a storage capacitor without increasing the number of masks.例文帳に追加

マスクの枚数を増やすことなく、ストレージキャパシタの電極間から半導体パターンを除去して高画質化を実現させる表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A substrate holder 2 for retaining the substrate 3 to be deposited is oppositely arranged to two or more deposition masks 7 having pixel opening parts 7a corresponding to deposition patterns.例文帳に追加

蒸着パターンに対応した画素開口部７ａを有する複数の蒸着マスク７に対して、蒸着対象となる基板３を保持するための基板ホルダー２を対向配置する。 - 特許庁

A mask holder 6 is used in an ion implanter which implants ions into a substrate through an opening 5 formed by superimposing a plurality of masks.例文帳に追加

マスクホルダー６は、複数枚のマスクの重ね合わせにより形成される開口部５を介して、基板へのイオン注入を実施するイオン注入装置に用いられるマスクホルダー６である。 - 特許庁

To provide a cotton sheet which can have stretchability and a practical strength capable of being applied to face masks in the cotton sheet using cotton fibers as constituting fibers without using thermoplastic synthetic fibers.例文帳に追加

熱可塑性合成繊維を用いることなく、木綿繊維を構成繊維とする木綿シートにおいてフェイスマスクに適用し得る伸長性と実用強度を具備できるシートを提供する。 - 特許庁

To simply set a subnet for communicating between subnets when different subnet masks are set between a plurality of subnets of a game house.例文帳に追加

遊技場の複数のサブネット間において、異なるサブネットマスクが設定されている場合に、これらのサブネット間で通信を行うためのサブネットマスクの設定を簡易的に行うことを可能とする。 - 特許庁

First masks 6 having lattice type regular patterns in first opening sections (holes) 61 are manufactured by using a double patterning technique for forming the contacts 3 for the sub-lithographic.例文帳に追加

サブリソグラフィックのコンタクト３を形成するために、第１の開口部（ホール）６１の格子型の規則正しいパターンを有する第１のマスク６をダブルパターニング技術を用いて製造する。 - 特許庁

Next, trench mask patterns and filler insulating film patterns are formed for defining slit type openings crossing and exposing the active regions by patterning the trench masks and filler insulating films.例文帳に追加

次に、トレンチマスク及び埋め立て絶縁膜をパターニングして活性領域を横切り、露出させるスリット型開口部を定義するトレンチマスクパターン及び埋め立て絶縁膜パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for scales for photoelectric encoders capable of adapting to the diversification of the widths and intervals of a plurality of line patterns constituting optical gratings without having to create new masks.例文帳に追加

新たなマスクを作製することなく、光学格子を構成する複数のラインパターンの幅や間隔の多様化に対応できる光電式エンコーダ用スケールの製造方法を提供する。 - 特許庁

On the day of the performance, an altar is set up in Kagami no ma (literally, the "mirror room" behind Agemaku, or the curtain separating it and the stage, in which the fully-dressed performers don their masks and gaze into a large mirror to concentrate on their roles while they wait to enter the stage), and each actor purifies himself through Sakazuki-goto (the drinking of Omiki, or sacred sake) and with Kiribi (sacred sparks produced by rubbing together two pieces of wood, generally Hinoki, which is chamaecyparis obtusa, or by striking a flint against iron) before going on the stage. 例文帳に追加

当日は鏡の間に祭壇をしつらえ、舞台に上がる前に各役が盃事と切火で身を清める。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Additionally, the head family ended up in court for a conflict over apportionment of the property left by the previous headman, and they were sentenced to sell inherited costumes and masks and apportion the proceeds of the sale among the family members of the deceased at the first and the second trials. 例文帳に追加

また宗家は先代の遺産分割を巡って訴訟が発生し、1審、2審では装束や面などを売却してその代金を遺族で分割するとの判決が出た。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Broadly-speaking, there are various types of wood carving and dry lacquer (technique involving laying lacquer onto a mold and drying it to make the base), while the wood-carved masks in the Asuka period were basically made from camphor, and the ones in the Nara period from paulownia. 例文帳に追加

大きくわけて木彫と乾漆（型にうるしを塗り固め素地をつくったもの）があり、木彫は飛鳥時代のものがおおむねクスノキ、奈良時代がキリをつかって作られている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a mask or the like for forming an organic EL element excelling in practicability achieving a frameless structure in covering the surface of a large-sized substrate using a plurality of masks.例文帳に追加

複数のマスクを用いて大型基板の表面を覆う際にフレームレス構造を実現可能とする極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子形成用のマスク等を提供する。 - 特許庁

The interference fringes emitted from the projection device 1 are made to enter the object S, and an interference fringe image obtained by transmitting it through the object S is passed through the phase masks 3.例文帳に追加

干渉縞投影装置１から発せされた干渉縞を物体Ｓに入射させ、これが物体Ｓを透過することによって得た干渉縞画像を位相マスク３中を貫通させる。 - 特許庁

One of the masks is used for forming a via or a contact opening in the insulator layer, and the second mask is used for forming a recess for interconnection in the integrated circuit.例文帳に追加

マスクのうちの１個は、絶縁体層のビアあるいはコンタクト開口を形成するのに用いられ、第ニのマスクは集積回路に相互接続のための凹部を形成するのに用いられる。 - 特許庁

A method for producing a probe test head for testing a semiconductor integrated circuit includes a step in which a plurality of probes 81 are defined for one or a plurality of masks, a step in which a plurality of probes are produced by using the masks, and a step in which a plurality of probes 81 are arranged by inserting them into the corresponding holes of a first die 42 and a second die 44.例文帳に追加

半導体集積回路をテストするためのプローブ・テスト・ヘッドを製造する方法は、１つ又は複数のマスクとして、複数のプローブ８１の形状を画成するステップと、該マスクを使用して、複数のプローブを製造するためのステップと、第１のダイ４２と第２のダイ４４内の対応するホールを通して複数のプローブ８１を配置するステップとを含んでいる。 - 特許庁

The mask assembly includes: a frame mask 100 comprising an opening 120 and a frame 110 surrounding the opening; the pattern masks 200 comprising the pattern parts with the formed one or more of patterns and the joint parts joined (welded, soldered or brazed) while being stretched to the frame; and the supports 300 joined (welded, soldered or brazed) to the pattern masks crossing the opening.例文帳に追加

開口部１２０及び開口部を囲んだフレーム１１０を含むフレームマスク１００と；一つまたは複数のパターンが形成されるパターン部及び引張されてフレームと接合（溶接、半田付け、ロウ付け等）される接合部を含むパターンマスク２００；及び開口部を横切って、パターンマスクと接合（溶接、半田付け、ロウ付け等）される支持台３００を含むマスク組立体に関する。 - 特許庁

Concerning cases in which workers engaged in the above emergency tasks at the TEPCO's Fukushima No.1 Nuclear Power Plant forgot to put radiation filters on their masks or smoked by taking off their masks, an instruction card was issued to relevant companies under the name of the Chief of the Tomioka Labour Standards Inspection Office against TEPCO to fully enforce measures against reoccurrence of such problems. (June 22, 2011)例文帳に追加

上記の東電福島第一原発で緊急作業に従事する労働者がマスクにフィルターを付け忘れていた件やマスクを外して喫煙していた件に関し、東京電力に対し、再びこのような問題を生じさせないよう、関係事業者に徹底すること等について、富岡労働基準監督署長名で指導票を交付（平成23年6月22日） - 厚生労働省

The solar cell module includes a translucent substrate 7, a translucent resin 8 formed on the translucent substrate 7, masks 2a and 2b provided on the translucent resin 8, a plurality of solar cell elements 3 provided on the translucent resin 8, and the wiring connected to the solar cell elements 3 and bonded to the masks 2a and 2b with a hot-melt adhesive 21.例文帳に追加

透光性基板７と透光性基板７上に設けられた透光性樹脂８と、透光性樹脂８上に設けられたマスク２ａ、２ｂと、透光性樹脂８上に設けられた複数の太陽電池素子３と、この太陽電池素子３と接続されており、ホットメルト接着剤２１によりマスク２ａ、２ｂと接着された配線とを有する太陽電池モジュール。 - 特許庁

A mask circuit masks at least a part of the data being transmitted by the reception data transmission line after the fact that the load has exceeded the reference load is detected by the load monitoring circuit until it is not detected any more.例文帳に追加

マスク回路は、負荷が基準負荷を超過したことが負荷監視回路に検出されてから検出されなくなるまでに受信データ伝送路により伝送されるデータの少なくとも一部をマスクする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a display device having a thin film transistor (TFT), in which material use efficiency is improved with few masks and a threshold is hardly deviated and high-speed operation is possible.例文帳に追加

本発明は、材料の利用効率を向上させ、少ないフォトマスク数で、しきい値のずれが生じにくく、高速動作が可能なＴＦＴを有する表示装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

The similarity is calculated by transferring the comparison masks on the image and a pixel value of a comparison pixel Q (Fig. (c)) corresponding to a position of the comparison mask the similarity of which is maximized is provided to the blank pixel P.例文帳に追加

比較マスクを画像上で移動させて類似度の算出を行い、類似度が最大となった比較マスクの位置に対応する比較画素Ｑ（図（ｃ））の画素値を、空白画素Ｐに与える。 - 特許庁

When judging that the held jobs are stored, the image forming device masks the buttons of items relating to equipment setting which will influence the held jobs so as to make setting infeasible (S2504).例文帳に追加

また、ホールドジョブが格納されていると判断した場合には、そのホールドジョブに影響の与える機器設定に関する項目のボタンについては、設定不可となるようにマスク処理する（Ｓ２５０４）。 - 特許庁

An original-edition conveyor 30 has a mask transfer mechanism 8 for holding and transferring the mask 1 by holding sections 8a and 8b to hold the two masks 1 and a controller 11 for controlling the mechanism 8.例文帳に追加

原版搬送装置３０は、２枚のマスク１を保持可能な保持部８ａ，８ｂでマスク１を保持して搬送するマスク搬送機構８と、搬送機構８を制御するコントローラ１１とを備える。 - 特許庁

To provide a simple and convenient holding device capable of holding various sizes of framed metal masks, as well as accurately positioning a laser beam focus on a processed surface even though the dimensional accuracy is poor.例文帳に追加

種々の大きさのフレーム付きメタルマスクを保持でき、また、寸法精度が悪くても加工表面にレーザ光の焦点を精度よく位置させることができる簡便な保持装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a film transistor in which an etch stop material remains in a source/drain isolation etching process, and which solves a problem of deterioration of source/drain interface characteristics, and decreases the required number of optical masks.例文帳に追加

ソース／ドレーン分離エッチングプロセスでエッチストップ材質が残留し、ソース／ドレーンインターフェース特性が悪くなる問題を解消し、必要な光マスク数を減少するフィルムトランジスタ製造方法を提供する。 - 特許庁

Masks having a plurality of places are formed extensively over the whole wafer comprising upper sections of the scribing lines, and each place has different gap-versus-pillar density ratios proportional to the height of a silicon dioxide 28 in the upper section of the top face.例文帳に追加

スクライブライン上を含むウェーハ全体に亘り複数位置を有するマスクが形成され、各位置は、上面上方の二酸化シリコン２８の高さに比例する異なるギャップ対ピラー密度比を有する。 - 特許庁

With the side wall insulating film and etching stopper film as masks, a conductive impurity D2 is introduced by allowing it to transmit the etching stopper film on the upper layer of the substrate, to form a source/drain diffusion layer 12.例文帳に追加

次に、サイドウォール絶縁膜およびエッチングストッパ膜をマスクとして、基板の上層のエッチングストッパ膜を透過させて導電性不純物Ｄ２を導入し、ソース・ドレイン拡散層１２を形成する。 - 特許庁