| 意味 | 例文 |
Phase shiftの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2649件
To provide a method for solving the problem of phase coupling at the time of computing a phase by an inverse tangent function in three- dimensional measurements by phase shift method.例文帳に追加
位相シフト法による3次元計測において、逆正接関数により位相導出を行う際の位相連結の問題を解決する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical phase switch in which the intensity of light necessary for π-phase shifting of light is small and which can π-shift the intensity of very weak light, that is, the phase of a single photon.例文帳に追加
光のπ位相シフトに必要な光強度が小く、極めて微弱な光強度、すなわち、単一光子の位相をπシフトできる光位相スイッチを提供する。 - 特許庁
To provide a phase/speed detector which increases the accuracy of phase/speed detection in a wide speed range and compensates for a phase shift which occurs in the signal processing of a detection circuit.例文帳に追加
広い速度範囲で位相・速度検出の精度を高め、しかも検出回路の信号処理で発生する位相ずれを補償した位相・速度検出ができる。 - 特許庁
The phase of the filter reflection signal is adjusted by a phase shift circuit 5 between the main antenna 3 and the filter 6, so that the induced signal of the sub-antenna 4 is in phase with the reception signal of the sub-antenna 4.例文帳に追加
サブアンテナ4の受信周波数帯と同じ周波数帯の周波数を持つフィルター反射信号はアンテナ結合によってサブアンテナ4に誘起する。 - 特許庁
The phase of the clock signal is adjusted by a clock phase adjusting circuit 25 by taking the phase shift generating at the time of the noise removal of the clock signal in the EMI filter 31 into consideration.例文帳に追加
EMIフィルタ31でのクロック信号のノイズの除去の際に生じる位相ずれを考慮してクロック信号の位相をクロック位相調整回路25にて調整する。 - 特許庁
A phase shift is generated by the pulse signal applied to this ring-generating circuit, and the phase of generating signal by the ring generating circuit is synchronized by the phase of the synchronous signal.例文帳に追加
このリング発振回路に印加されるパルス信号によって位相の引き込みが生じ、リング発振回路による発振信号の位相は同期信号の位相と同期する。 - 特許庁
On the basis of this procedure, after the phase rotation component due to the detected frequency shift between the transmission and the reception is subtracted, the in-phase summating circuit 105 carries out in-phase summation.例文帳に追加
本手順に基き、検出された送受間の周波数ずれによる位相回転分を差し引いてから、同相加算回路105において同相加算を行う。 - 特許庁
The phase shift circuit alternately and successively generates in-phase and quadrature oscillation signals, or in-phase and quadrature incoming FSK radio frequency signals.例文帳に追加
移相回路は同相及び直角位相発振信号、又は同相及び直角位相着信FSK無線周波数信号を交互かつ逐次的に生成する。 - 特許庁
In the interferometer, a phase shift imaging device 3000 is provided with a multiphase shift generation mechanism 1400 containing high density phase shift array elements 410, 420, a beam splitter 310, and two polarizing elements 510a, 510b.例文帳に追加
移相撮像素子3000は、多重移相発生機構1400を備え、多重移相発生機構1400は、高密度移相アレイ素子410,420、ビームスプリッタ310および2つの偏光素子510a,510bを含む。 - 特許庁
A phase shift estimation means 102 is a means for estimating width of phase shift per unit time of the receiving signal vector r in accordance with dynamic fluctuation of propagation path length of a channel in use and thus, angular velocity ω of the phase shift of each component of the receiving signal vector r is calculated.例文帳に追加
位相ずれ推定手段102は、使用中のチャネルの伝搬路長のダイナミックな変動に伴う、受信信号ベクトルrの単位時間当りの位相ずれの幅を推定する手段であり、これによって、受信信号ベクトルrの各成分の位相ずれの角速度ωを求めることができる。 - 特許庁
A portion of the phase shift mask above the contact holes is covered with one of patterns, a portion of the phase shift mask above respective transistors and the anti-electrostatic-discharge protecting circuit in the active area has a low light transmissivity pattern, and other parts of the phase shift mask have a high light transmissivity pattern.例文帳に追加
そのうち、コンタクトホール上方の一部の位相シフトマスクはいずれのパターンにも被覆されず、アクティブ領域内の各トランジスタ上方と抗静電放電保護回路上方の一部の位相シフトマスクは低透光率パターンを具え、位相シフトマスクのその他の部分は高透光率パターンを具えている。 - 特許庁
To provide a method for correcting a phase-shift mask, wherein the method can accurately correct a micropattern without degrading throughput, damaging glass substrates and other half-tone patterns, or leaving correction traces, when correcting black defects in a half-tone phase-shift mask, and to provide a corrected phase-shift mask.例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスクの黒欠陥修正において、スループットを低下させずに、ガラス基板や他のハーフトーンパターンに損傷を与えず、修正痕を残さずに、微細パターンの修正を精度良く行うことができる位相シフトマスクの修正方法および修正された位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁
A path deletion decision section 110 checks the phase shift amount in the phase shift amount storage section 108 corresponding to paths detected by the identical path detection section 109 to delete a path with a large phase shift amount and outputs the reverse spread result of an undeleted path.例文帳に追加
パス削除判定部110は、同一パス検出部109で検出されたパスに対応する位相変動量記憶部108内の位相変化量を調べ位相変化量の大きいパスを削除するとともに削除されないパスの逆拡散結果を出力する。 - 特許庁
To provide an optically semitransmissive film having a desired transmissivity, having a phase shift amount close to zero and having comparatively thin film thickness, a novel phase shift mask utilizing the optically semitransmissive film, a photomask blank capable of manufacturing the phase shift mask, and a method for designing the optically semitransmissive film.例文帳に追加
所望の透過率を有するとともにゼロ付近の位相シフト量を有し、比較的薄い膜厚の光半透過膜、この光半透過膜を利用した新規な位相シフトマスク及びその位相シフトマスクを製造できるフォトマスクブランク、並びに上記光半透過膜の設計方法を提供する。 - 特許庁
The optical waveguide element includes: two phase shift waveguides formed near the surface of an optical substrate; a branch waveguide connected to an input side of the two phase shift waveguides; and a merging waveguide connected to an output side of the two phase shift waveguides.例文帳に追加
光導波路素子は、光学基板の表面付近に形成された2つの位相シフト用導波路と、2つの位相シフト用導波路の入力側に接続された分岐用導波路と、2つの位相シフト用導波路の出力側に接続された合流用導波路とを含む。 - 特許庁
The blanks 104 and the halftone phase shift photomask have a halftone phase shift layer on a transparent substrate 101 and the phase shift layer comprises a multilayer film including at least a layer 103 consisting essentially of tantalum, silicon and oxygen and a layer 102, based on tantalum and not substantially containing silicon.例文帳に追加
透明基板101上のハーフトーン位相シフト層が、タンタル、シリコン、及び、酸素を主成分とする1層103と、タンタルを主成分とし実質的にシリコンを含まない1層102とを少なくとも含む多層膜で構成されているハーフトーン位相シフトフォトマスク及びブランクス104。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a phase shift mask which has a binary pattern region and a plurality of phase shift pattern regions on one mask and also has superior size precision and positioning precision and high quality using photolithography of ≤65 nm in half pitch on a wafer, and the phase shift mask obtained by the manufacturing method.例文帳に追加
ウェハ上のハーフピッチ65nm以下のフォトリソグラフィにおいて、1枚のマスク上にバイナリパターン領域と、複数の位相シフトパターン領域とを有し、寸法精度、位置合わせ精度に優れた高品質の位相シフトマスクの製造方法とその製造方法による位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁
A supply light which does not influence the reception of signal light is supplied from the receiving side, a phase shift between optical frequency chips of the supply light is detected on the supplied side, and the phase shift is precompensated on the supplied side, by a compensation amount for compensating the phase shift to send the signal light.例文帳に追加
信号光の受信に影響を与えない供給光を受信側から供給し、その供給光の光周波数チップ間の位相ずれを被供給側で検出し、その位相ずれを補償する補償量で被供給側で予め補償して信号光を送出する。 - 特許庁
In order to test the phase shift circuit 30 and the sampling circuit 40 of an input side, phases of DQ and DQS are adjusted and output in the phase shift circuit 20 of an output side, the DQS is shifted by 90 degrees by the phase shift circuit 30, and the DQ is sampled by the sampling circuit 40.例文帳に追加
入力側の位相シフト30とサンプリング回路40をテストするために、出力側の位相シフト回路20においてDQとDQSの位相をそろえて出力し、DQSは位相シフト回路30で90度シフトされ、サンプリング回路40でDQがサンプルされる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask, by which changes in optical characteristics of a phase shift film upon modifying the phase shift mask and cleaning the mask can be suppressed, and dimensional changes and film reduction of a patterned light-shielding film made of a chromium material occurring upon modifying the phase shift mask can be suppressed.例文帳に追加
本発明は、位相シフト膜改質時およびマスク洗浄時に生じる位相シフト膜の光学特性変動を抑制することができ、かつ、位相シフト膜改質時に生じる、クロム系材料からなるパターン状の遮光膜の寸法変動および膜減りを抑制することができるハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁
The method of inspecting the phase shift mask comprises using the light of the wavelength different from the wavelength used in performing exposure with the mask as the wavelength of the measuring light in measurement of the phase difference in the phase shifter section or translucent phase shifter section of the phase shift mask having at least the phase shifter section or translucent phase shifter section on a transparent substrate or the transmittance of the translucent phase shifter section.例文帳に追加
透明基板上に、少なくとも、位相シフター部又は半透光性位相シフター部を有する位相シフトマスクにおいて、前記位相シフター部又は半透光性位相シフター部の位相差及び前記半透光性位相シフター部の透過率の測定における測定光波長として、マスクで露光する際に用いる波長とは異なる波長の光を用いることを特徴とする位相シフトマスクの検査方法。 - 特許庁
The method includes the steps of: creating essentially parallel alternating phase shift regions aligned with the critical width segments and extending beyond ends of at least some of the critical width segments; enclosing the integrated circuit layout and the alternating phase shift regions with a boundary; extending the alternating phase shift regions to an edge of the boundary; and creating the alternating phase shift/mask based on the alternating phase shift regions.例文帳に追加
この方法は、これらのクリティカルな幅のセグメントに整列し、かつこれらクリティカルな幅のセグメントの少なくとも一部の端部を越えて延長する本質的に平行な交互位相シフト領域を生成することと、集積回路レイアウトおよび交互位相シフト領域をバウンダリで取り囲むことと、交互位相シフト領域をこのバウンダリのエッジまで延長することと、その後、これらの交互位相シフト領域に基づいて交互位相シフト・マスクを生成することとを含む。 - 特許庁
To obtain a line change type phase shift unit and a line change type phase shifter that suppress variation in pass amplitude of a signal accompanying change of phase shift quantity with simple constitution and has an excellent frequency-to-pass amplitude characteristic of the signal.例文帳に追加
簡易な構成により移相量切り換えに伴う信号の通過振幅の変動を抑えるとともに、信号の周波数対通過振幅の特性が良好な線路切換型移相ユニット及び線路切換型移相器を得る。 - 特許庁
To decrease the number of production stages for a blank for a halftone type phase shift mask and the halftone type phase shift mask and to enable the control of a phase difference and transmittance with high accuracy.例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造工程数を減らし、高精度な位相差と透過率制御が可能な遮光領域つきハーフトーン型位相シフトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁
A prism equipped with the first bonded surface equipped with a phase shift coating, a beam splitter equipped with the second bonded surface equipped with a phase shift coating, a polarizer for detecting beams in each phase, and a detector are constituted monolithically (in a body).例文帳に追加
位相シフトコーティングを備えた第1の接合面を備えたプリズムと、位相シフトコーティングを備えた第2の接合面を備えたビームスプリッタと、各相のビームを検出するための偏光子と、検出器と、をモノリシック(一体)に構成する。 - 特許庁
To provide a structure by which phase shift and DC drift and the like can be controlled adequately, in an optical transmitter including a phase modulator.例文帳に追加
位相変調器を含む光送信装置において、位相シフトおよびDCドリフトなどを適切に制御できる構成を提供する。 - 特許庁
To provide a phase shifter which enables a desired value of phase shift to be set in a high frequency circuit, using a simple configuration.例文帳に追加
簡単な構成で高周波回路における移相量を所望の値に設定することができる移相器を提供すること - 特許庁
An operating circuit 17 is supplied with the output signal from the amplitude/phase correction circuit 14 through phase shift circuits 16A and 16B.例文帳に追加
振幅位相補正回路14の出力信号が移相回路16A、16Bを通じて供給される演算回路17を設ける。 - 特許庁
The operation point of the light modulator is adjusted in accordance with the length of the phase adjusting section 7 on the phase shift optical waveguide 3a.例文帳に追加
位相調整部7の位相シフト光導波路3a上における長さに応じて、光変調器の動作点が調整されている。 - 特許庁
To provide a phase difference measurement apparatus using a vacuum ultraviolet ray capable of carrying out inspection while a phase shift mask is installed in air.例文帳に追加
位相シフト・マスクを大気中に設置した状態で検査することができる、真空紫外光による位相差測定装置を得る。 - 特許庁
To obtain a phase locked oscillation circuit that can adjust a phase shift between its oscillated signal and a reference clock signal with high precision.例文帳に追加
基準クロック信号との位相ずれを高精度に調整することのできる位相固定発振回路を提供することを目的とする。 - 特許庁
A phase shift circuit 16 shifts the phase of the signal which pass through the first ceramic filter 14 and sends the signal to a second ceramic filter 15.例文帳に追加
位相シフト回路16は、第1のセラミックフィルタ14を通過した信号の位相を変移させ、第2のセラミックフィルタ15に送る。 - 特許庁
The phase difference abnormality and transmittance difference abnormality are detected, base on the relation to correct the device pattern of the Levenson phase shift mask 4.例文帳に追加
そして、この関係に基づいて、位相差異常及び透過率差異常を検出し、レベンソン位相シフトマスク4のデバイスパターンを補正する。 - 特許庁
A control signal extractor 402 extracts information on a phase shift from a control signal and outputs it to a phase controller 403.例文帳に追加
制御信号抽出器402は、制御信号から位相変化の情報を抽出して位相制御器403に出力する。 - 特許庁
The phase shift in low-coherence interference can be measured by using the above phase shifter in the axial direction owing to the wavelength independent property.例文帳に追加
この波長非依存性により、この軸方向位相シフターを用いることで、低コヒーレンス干渉での位相シフト計測が可能になる。 - 特許庁
An input signal Vin is supplied to a 1st phase shifter 10 to obtain signals VI and VQ as intermediate phase-shift signals.例文帳に追加
入力信号Vinを第1の移相器10に供給し、中間移相信号としての信号VI及びVQを得る。 - 特許庁
In one embodiment, a first mask (a phase shift mask, for example) is generated that includes the component to be manufactured using the phase shifting process.例文帳に追加
一実施形態では、位相シフト処理を使用して製造される構成要素を含む第1のマスク(例えば位相シフトマスク)を製造する。 - 特許庁
To provide a frequency division type phase shift circuit and an analog quadrature modulation/demodulation circuit for generating quadrature signals of the same phase.例文帳に追加
本発明は、同一位相の直交信号を生成する分周型移相回路、及びアナログ直交変復調回路を提供する。 - 特許庁
The amount of phase shift provided by the phase control circuit is selectively variable as a function of a control signal applied thereto.例文帳に追加
位相制御回路により提供される位相シフトの量は、それに印加される制御信号の関数として選択的に可変である。 - 特許庁
Reception data have the band limited by an LPF 6 and is sent to a phase detector 7, and a frequency error is derived by a phase shift detector.例文帳に追加
受信データはLPF6により帯域制限され位相検出器7に送られ、移相検出器で周波数誤差を導き出す。 - 特許庁
To discriminate the appropriateness of 2L integration launching phase in MSK (Minimum Shift Keying) demodulation, and to perform correction precisely.例文帳に追加
MSK復調での2L積分開始位相の適否判別及び補正を的確に行う。 - 特許庁
METHOD FOR DECIDING MASK CROSS SECTION STRUCTURE IN SUBSTRATE ENGRAVED TYPE PHASE SHIFT MASK OF ONE-SIDE ENGRAVED TYPE例文帳に追加
片掘り型の基板掘り込み型位相シフトマスクにおけるマスク断面構造の決定方法 - 特許庁
The amplifier 402 has a phase shift nearly equal to 90 degrees and is controlled by a tuning voltage.例文帳に追加
増幅器402は、90°にほぼ等しい移相を有し、同調電圧によって制御される。 - 特許庁
RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME例文帳に追加
感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
An objective lens group comprises a phase shift element 11, a high refractive index liquid 12 and an objective lens 13.例文帳に追加
対物レンズ群は、位相シフト素子11、高屈折率液体12、対物レンズ13からなる。 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR TRANSFERRING MASK PATTERN BY USING SAME例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法及びそれを用いたマスクパターン転写方法 - 特許庁
To obtain a read image with high quality where no phase shift takes place between a light passing through lenses and a light passing through a luminous quantity correction aperture.例文帳に追加
レンズと光量補正絞りとの位相のずれがない高品位な読取画像を得る。 - 特許庁
To apply a phase shift method to a workpiece having a rough surface to accurately detect an abnormal concave-convex irregularity.例文帳に追加
粗表面ワークに位相シフト法を適用し、その異常凹凸を精度良く検出する。 - 特許庁
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