「Photo-sensitive」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Among a plurality of end faces of the photodiode 18, a pn junction is extended to an end face near a region where laser light 16 for monitoring emitted from at least a laser light emission surface 15 for monitoring of the semiconductor laser diode 12 is incident, to obtain a stable photo sensitive characteristic against a change in temperature.例文帳に追加

このホトダイオード１８の複数の端面のうち、少なくとも半導体レーザダイオード１２のモニタ用レーザ光出射面１５から出射されるモニタ用レーザ光１６が入射する領域近辺の端面までｐｎ接合部が形成されることにより、温度変化に対して安定した受光感度特性が得られる。 - 特許庁

A turning motor 24 is operated for the sheet S in inclination, and thereby a register roller couple 2 is moved in rotation for θ minutes in the direction of Arrow F round a rotary shaft 14 until the leading edge of the sheet S pinched by the register rollers 2 becomes parallel with the axial direction of a transcription part 112b (the axial direction of a photo-sensitive drum of the transcription part).例文帳に追加

シートSの傾きに対して、旋回モータ24を駆動させることにより、レジストローラ対2に挟持されたシートSの先端が転写部112bの軸方向（転写部の感光体ドラムの軸方向）と平行になるまで、レジストローラ対２を回転軸14を中心にして矢印Ｆ方向にθ分回転移動させる。 - 特許庁

The radiation sensitive composition for forming a colored layer comprises (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photo radical generator typified by ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methyl-4-tetrahydropyranyloxybenzoyl)-9.H.-carbazol-3-yl]-,1-(O-acetyloxime).例文帳に追加

着色層形成用感放射線性組成物は（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）多官能性単量体および（Ｄ）エタノン,１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル）−９.Ｈ.−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）に代表される光ラジカル発生剤を含有する。 - 特許庁

The radiation curing photoresist is a negative function photoresist which is developable in an alkaline medium, is sensitive to radiations of a wavelength within a range of from 340 to 390 nm and is chemically amplified, and includes a radiation sensitive photo-acid generator containing an oxime sulfonate compound having a prescribed structure and at least one acid curing resin selected from the group consisting of an acrylic resin, amino resin, polyester resin or alkyd resin.例文帳に追加

アルカリ性媒体中で現像可能であり且つ３４０ないし３９０ナノメーターの範囲内の波長の輻射線に対して感受性である化学的に増幅されたネガティブ機能性ホトレジストであって、前記輻射線硬化性ホトレジストは、所定の構造を有するオキシムスルホネート化合物を含む輻射線感受性光酸発生剤及びアクリル樹脂、アミノ樹脂、ポリエステル樹脂、又はアルキッド樹脂からなる群より選択される少なくとも一つの酸硬化性樹脂を含むホトレジスト。 - 特許庁

To provide a semiconductor element manufacturing method which buries an insulating film between gate patterns in place of a photo-sensitive film when implanting ions into a semiconductor substrate of lower portion of a bit line contact area, etches it to expose the bit line contact area without a residue of etching, thereby, can prevent a leakage current of a cell transistor.例文帳に追加

ビットラインコンタクト領域下部の半導体基板にイオンを注入するときゲートパターン等の間を感光膜の代わりに絶縁膜で埋め、これを食刻して食刻残留物なくビットラインコンタクト領域を露出することにより、セルトランジスタの漏洩電流を防止することができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The photo-sensitive resin composition comprises a silicon compound (A) which is obtained by condensation of an alkoxy silicon compound containing an epoxy group shown by the general formula of (1) ReSi(OR_1)_3 (wherein Re is a substituent containing an epoxy group, and R_1 is a 1-4C alkyl group), and polymethylsilsesquioxane (B) having a primary particle size of 1-200 nanometer.例文帳に追加

下記一般式（１）ＲｅＳｉ（ＯＲ_1）_3 （１）（式中Ｒｅは、エポキシ基を有する置換基を示す。Ｒ_1はＣ_1〜Ｃ_4のアルキル基を示す。）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物を、縮合させて得られるケイ素化合物（Ａ）及び一次粒径が１〜２００ナノメートルのポリメチルシルセスキオキサン（Ｂ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The technology of the semiconductor element manufacturing method includes a process, especially, of burying the insulating film between gate patterns in place of the photo-sensitive film when implanting the ions into the semiconductor substrate of lower portion of the bit line contact area, etching it to expose the bit line contact area without a residue of etching, thereby, preventing the leakage current of the cell transistor.例文帳に追加

本発明は半導体素子の製造方法に関し、特にビットラインコンタクト領域下部の半導体基板にイオンを注入するときゲートパターン等の間を感光膜の代わりに絶縁膜で埋め、これを食刻して食刻残留物なくビットラインコンタクト領域を露出することにより、セルトランジスタの漏洩電流を防止することができる技術である。 - 特許庁

Gate wiring including gate lines and gate pads, and common electrode wiring including a common signal line 24 and common electrodes 25, 26 are formed on a substrate; a gate insulating film, a semiconductor layer, and a contact layer are successively vapor-deposited thereon; a conductor layer such as a metal is vapor-deposited; thereafter, a photo-sensitive film is formed on the conductor layer.例文帳に追加

基板の上に、ゲート線及びゲートパッド２３を含むゲート配線と、共通信号線２４及び共通電極２５，２６を含む共通電極配線とを形成し、その上にゲート絶縁膜、半導体層、接触層を連続蒸着し、金属などの導電体層を蒸着した後、導電体層上部に感光膜を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which uses a new photo-initiating system, which is highly sensitive to an oscillation wavelength from 350 nm to 450 nm of a short wavelength semiconductor laser, as well as excellent in preservation stability, workability, profitability and printing durability, and which is useful for a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor for scanning exposure adaptive, for example, to a CTP system.例文帳に追加

短波半導体レーザの３５０ｎｍから４５０ｎｍの発振波長に対し高感度であるとともに保存安定性、作業性、経済性、耐刷性に優れた、例えばＣＴＰシステムに適合する走査露光用の平版印刷版原版の感光層として有用な、新規な光開始系を用いた感光性組成物の提供を目的とする。 - 特許庁

Then, a controlling device which controls the exposing device inputs the resolution information of an image which is an output object, sets the number of the light-emitting points which are used for the scanning in the exposing device, and a scanning interval in the subsidiary scanning direction, and controls the resolution of the image which is formed by the exposing device on the photo-sensitive body.例文帳に追加

そして、露光装置を制御する制御装置は、出力対象である画像の解像度情報を入力し、この解像度情報に基づいて、露光装置における走査に使用する発光点の数および副走査方向の走査間隔を設定し、露光装置が感光体上に形成する画像の解像度を制御する。 - 特許庁

To provide a photo-polymerizable planographic printing plate being highly sensitive, further causing no trip of thin lines and tittles even when ink on the plate surface is removed with a plate cleaner or a large amount of printing is carried out, excellent in abrasion resistance, hardly causing contamination and directly laser addressed owing to firm adhesive force between a photosensitive layer and a supporting body and to provide a method for treating the same.例文帳に追加

本発明の目的は、強固な感光層と支持体の密着力により、高感度で、かつプレートクリーナーで版面のインキを除去、あるいは多量の印刷を行っても、細線や小点が飛ばず、耐刷性にも優れ、汚れが出にくい直接レーザー書き込み可能な光重合性平版印刷版とその処理方法を提供することにある。 - 特許庁

In this method of forming a carbon nanotube, a desired carbon nanotube aligned structure is formed by forming a resist film on a flat substrate by coating an ultra violet sensitive resin for photo development, composing an aligned structure of a desired resist film pattern by exposing and developing it, and then treating it with a plasma in a reduced pressure atmosphere containing oxygen.例文帳に追加

平坦な基板に写真現像用の紫外線感光性樹脂を塗布してレジスト膜を形成し、これを露光、現像してレジスト膜の所望パターンの配列構造を構成し、その後これを酸素を含む減圧雰囲気下でプラズマ処理し、所望のカーボンナノチューブ配列構造を基板上に形成することを特徴とするカーボンナノチューブの形成方法である。 - 特許庁

To provide a film forming method and a film forming device which form a uniform film in a region to which photo lithography process is applied for the purpose of forming a propagation path or an electrode pattern, etc. of resist films, a sensitive film, etc. on a surface of spherical material to be coated in manufacturing process of a spherical surface acoustic wave element.例文帳に追加

球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The transparent photoelectric converting element has features having more than 80% that the beam transparent part area has a ratio of more than 80% of the whole photo sensitive part relating to photoelectric conversion, and has a wavelength region which indicates a beam transmissivity of over 10% between 400 to 700 nm wavelength.例文帳に追加

少なくとも透明導電層、半導体層、電荷移動層、透明対極から構成される光電変換素子であって、光電変換にかかわる全受光部のうち光透過性部分の面積比率が80％以上であり、かつ、前記光透過性部分は波長400〜700ｎｍの間に光透過率10%以上を示す波長領域を有することを特徴とする透明光電変換素子。 - 特許庁

A substrate is coated with a material having a multinuclear multiple capsule containing at least diazonium salt, a coupler, a basic substance, a photo-polymerization initiator, and a polymeric substance, and a multinuclear multiple capsule having a heat responsive or substance-permeable capsule containing a heat sensitive microcapsule of diazonium salt and at least either one or both of a coupler and a basic substance.例文帳に追加

少なくともジアゾニウム塩、カプラー、塩基性物質、光重合開始剤、重合性物質を含む多核多重カプセルを含み、ジアゾニウム塩を内包する熱応答性マイクロカプセルと少なくともカプラーおよび塩基性物質のいずれか一方または、両方を内包する熱応答性または物質透過性マイクロカプセルを内包する多核多重マイクロカプセルを含む材料を支持体に塗布する。 - 特許庁

The method of manufacturing image sensor includes a step of forming a photo sensitive film for forming a microlens on a color filter, a step of forming a pattern having a predetermined depth from upper plane by exposing the photosensitive film, a step of forming a backup microlens by heat treating the photosensitive film, and a step of forming a microlens by etching the backup microlens.例文帳に追加

実施例に係るイメージセンサの製造方法は、カラーフィルタ層の上にマイクロレンズ形成のための感光膜を形成するステップと、前記感光膜に露光を行って、上部面から所定深さを有するパターンを形成するステップと、前記感光膜に熱処理を行って、予備マイクロレンズを形成するステップと、前記予備マイクロレンズにエッチングを行って、マイクロレンズを形成するステップとを備える。 - 特許庁

To provide a ketoxime ester compound usable as a new and highly sensitive photopolymerization initiator, a photopolymerizable composition useful for forming various kinds of members, etc., installed in a liquid crystal display, such as interlayer insulation films, pixels and black matrices of color filters, photo spacers, ribs (liquid crystal alignment control ribs), etc., and to provide a cured product formed of the photopolymerizable composition, and a liquid crystal display including the cured product.例文帳に追加

新規かつ高感度な光重合開始剤として利用可能なケトオキシムエステル系化合物であり、層間絶縁膜、カラーフィルターの画素及びブラックマトリックス、フォトスペーサー、リブ（液晶配向制御突起）等の液晶表示装置に備えられる各種部材の形成等に有用な光重合性組成物及び該光重合性組成物により形成された硬化物及び該硬化物を備える液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

In addition, the reaction of the base generated from the base generator with an epoxy compound and the like progresses in chains when the base and a base reactive compound together compose a photosenstive resin composition, which is rapidly cured even at a room temperature level to provide a sufficient curing thereof, thus suitably applying it to a highly sensitive photo-curable material, a resist material and the like.例文帳に追加

また、塩基反応性化合物とともに感光性樹脂組成物を構成した場合にあっては、塩基発生剤から発生する塩基とエポキシ系化合物等との反応が連鎖的に進行し、室温レベルでも硬化が速やかに実施されて硬化が十分になされる感光性樹脂組成物となるので、例えば、高感度の光硬化材料やレジスト材料等に好適に用いることができる。 - 特許庁

Also, the reaction of the base generated from the base generator with an epoxy compound and the like progresses in chains when the base and a base reactive compound together compose a photosensitive resin composition, which is rapidly cured at a room temperature level to provide a sufficient curing thereof, thus suitably applying to a highly sensitive photo-curable material, a resist material and the like.例文帳に追加

また、塩基反応性化合物とともに感光性樹脂組成物を構成した場合にあっては、塩基発生剤から発生する塩基とエポキシ系化合物等との反応が連鎖的に進行し、室温レベルでも硬化が速やかに実施されて硬化が十分になされる感光性樹脂組成物となるので、例えば、高感度の光硬化材料やレジスト材料等に好適に用いることができる。 - 特許庁